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公开(公告)号：CN110959139A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201880049631.9
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。
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公开(公告)号：CN111771166A
公开(公告)日：2020-10-13
申请号：CN201980013338.1
申请日：2019-02-04
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 理查德·J·布鲁尔斯 , R·P·奥尔布赖特 , P·C·科奇斯珀格 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统，其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘，清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料，使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积，从而将该体积中的颗粒(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可以具有交替的极性，以增强颗粒到表面的吸引。
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公开(公告)号：CN110959139B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201880049631.9
申请日：2018-07-18
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。
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公开(公告)号：CN111771166B
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN201980013338.1
申请日：2019-02-04
申请人： ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
发明人： 理查德·J·布鲁尔斯 , R·P·奥尔布赖特 , P·C·科奇斯珀格 , V·A·佩雷斯-福尔肯
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 描述了用于减少静电卡盘(300)附近的颗粒的方法和系统，其中清洁掩模版或衬底(320)被固定到该卡盘，清洁掩模版或衬底的表面部分地缺少导电材料，使得来自卡盘的电场可以穿过以到达邻近该衬底的体积，从而将该体积中的颗粒以具有交替的极性，以增强颗粒到表面的吸引。(360)牵引至衬底的表面。施加到卡盘的电压可
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公开(公告)号：CN115210649A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202180010795.2
申请日：2021-01-26
申请人： ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/683
摘要： 本文的实施例描述了用于掩模版夹具阻尼器和隔离系统的方法、装置和系统，用于输送掩模版并且减少光刻设备和系统的掩模版输送器中的振动。一种掩模版输送器设备包括掩模版输送器臂、被配置为保持掩模版的掩模版基板以及被布置为将掩模版基板连接至掩模版输送器臂的夹具。夹具包括被耦接至掩模版输送器臂的静态结构、被耦接至静态结构的隔离结构以及一个或多个阻尼元件。夹具被配置为使用一个或多个阻尼元件来减少掩模版输送器设备中的掩模版的振动。
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公开(公告)号：CN115004109A
公开(公告)日：2022-09-02
申请号：CN202180010634.3
申请日：2021-01-21
申请人： ASML控股股份有限公司
IPC分类号： G03F1/84
摘要： 检查系统包括产生辐射束并且照射物体的第一表面的辐射源，从而限定所述物体的所述第一表面的区。所述辐射源还照射所述物体的第二表面，从而限定所述第二表面的区，其中所述第二表面位于所述物体内的与所述第一表面不同的深度水平处。所述检查系统也可以包括检测器，所述检测器限定所述第一表面的包括所述第一表面的所述区的视场(FOV)、并且接收从所述第一表面的所述区和所述第二表面的所述区散射的辐射。所述检查系统也可以包括处理器，所述处理器丢弃并非从所述第一表面的所述区接收的图像数据、并且构造合成图像，所述合成图像包括来自遍及所述第一表面的整个所述区的所述图像数据。
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公开(公告)号：CN117063127A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202280023485.9
申请日：2022-03-21
申请人： ASML控股股份有限公司
发明人： M·S·B·莫利泰尔诺 , P·C·科奇斯珀格
IPC分类号： G03F7/20
摘要： 公开了用于修改衬底保持器的衬底支撑元件的装置和方法。根据一些实施例，公开了一种装置，所述装置包括：衬底保持器，所述衬底保持器具有从所述衬底保持器的第一侧突出的多个支撑元件；支撑结构，所述支撑结构被配置成从所述衬底保持器的第二侧以横切方式保持所述衬底保持器；以及清洁工具，所述清洁工具具有球形主体。所述装置还包括：处理器，所述处理器将所述衬底保持器的受关注的预定区与所述清洁工具的预定部位对准、操纵所述支撑结构的移动使得所述对准在所述受关注的预定区与所述预定部位之间产生接触、以及启动对所述受关注的预定区的清洁操作。
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