公开(公告)号：CN110959139B

公开(公告)日：2023-02-28

申请号：CN201880049631.9

申请日：2018-07-18

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： 黄仰山 ,  M·J·L·布恩 ,  H-K·尼恩惠斯 ,  J·布林克特 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  P·C·科奇斯珀格

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。

公开(公告)号：CN110959139A

公开(公告)日：2020-04-03

申请号：CN201880049631.9

申请日：2018-07-18

申请人： ASML荷兰有限公司 ,  ASML控股股份有限公司

发明人： 黄仰山 ,  M·J·L·布恩 ,  H-K·尼恩惠斯 ,  J·布林克特 ,  理查德·J·布鲁尔斯 ,  P·C·科奇斯珀格

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。