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公开(公告)号：CN110945437B
公开(公告)日：2022-05-27
申请号：CN201880049630.4
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动，并且所述第二结构包括第二表面(417)，所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414)，所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口，所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
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公开(公告)号：CN110959139A
公开(公告)日：2020-04-03
申请号：CN201880049631.9
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。
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公开(公告)号：CN110892333B
公开(公告)日：2023-05-16
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN110892333A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201880047710.6
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 物体平台可以包括第一结构和相对于第一结构能够移动的第二结构。第二结构被配置为支撑物体。物体平台还包括能够移动地耦接到第一结构或第二结构、但不同时耦接到两者的密封板。并且所述物体平台包括至少一个致动器，其被配置成移动所述密封板，使得在所述密封板与所述第一结构或所述第二结构中未被耦接至所述密封板的一个之间限定一基本恒定的间隙。
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公开(公告)号：CN110945437A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049630.4
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供减少污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性的设计，所述污染物粒子具有大范围的尺寸、材料、移动速度和入射角。根据本公开的一方面，提供包括第一腔室(403)和第二腔室(405)的物体平台(400)。所述物体平台还包括具有第一表面(415)的第一结构(402)和第二结构(404)。所述第二结构配置成支撑所述第二腔室(405)中的物体(412)、能相对于所述第一结构移动，并且所述第二结构包括第二表面(417)，所述第二表面与所述第一结构(402)的第一表面(415)相对从而限定在所述第一结构与所述第二结构之间的间隙(414)，所述间隙在所述第一腔室(403)与所述第二腔室(405)之间延伸。所述物体平台还包括气体出口，所述气体出口用于注射气体且设置成(a)在所述间隙中或(b)在所述第一腔室中且与第一腔室处的间隙的进口相邻。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110959139B
公开(公告)日：2023-02-28
申请号：CN201880049631.9
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 光刻设备可以包括调节辐射束(B)的照射系统(IL)、具有第一表面(426)的第一固定板(412)、以及与所述第一固定板一起限定第一腔室(404)的掩模版平台。所述掩模版平台在所述第一腔室中支撑掩模版(402)，所述掩模版平台包括与所述第一固定板的第二表面隔开的第一表面(424)，由此限定配置成抑制从第二腔室(406)到第一腔室的污染物体的量的第一间隙(414)。所述第一固定板位于所述掩模版平台与所述照射系统和所述投影系统(PS)之间，所述投影系统被配置成将图案形成装置赋予辐射束的图案投射到衬底上。
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公开(公告)号：CN115176202A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202080094125.9
申请日：2020-12-24
Applicant: ASML控股股份有限公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： R·P·奥尔布赖特 , K·巴尔 , V·Y·拜尼恩 , 理查德·J·布鲁尔斯 , S·F·德弗里斯 , O·W·V·弗吉恩斯 , 黄仰山 , 黄壮雄 , J·H·W·雅各布斯 , J·H·J·莫尔斯 , G·N·内恩查夫 , A·尼基帕罗夫 , T·M·瑞斯费尔德 , M·兰詹 , E·特斯莱特 , K·R·乌姆施塔特 , E·乌兹戈伦 , M·A·范德柯克霍夫 , P·耶格霍比
Abstract: 一种设备，包括：辐射接收设备，该辐射接收设备设置有开口，该辐射接收设备能够操作为通过开口接收来自辐射源的辐射；其中，该辐射接收设备包括偏转设备，该偏转设备被布置成改变颗粒通过开口到达辐射接收设备的轨迹。
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公开(公告)号：CN110945433B
公开(公告)日：2022-07-01
申请号：CN201880049089.7
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构可相对于第一结构移动。第二结构包括第二表面，所述第二表面与第一结构的第一表面相对，从而限定在第一结构与第二结构之间的间隙，所述间隙在第一腔室与第二腔室之间延伸。第二结构还包括第一腔室内的第三表面。所述物体平台还包括设置在所述第三表面的至少一部分上的捕获器，所述捕获器包括多个挡板。
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公开(公告)号：CN110945433A
公开(公告)日：2020-03-31
申请号：CN201880049089.7
申请日：2018-07-18
Applicant: ASML荷兰有限公司 , ASML控股股份有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 提供了设计以减少具有大范围的尺寸、材料、行进速率和入射角的污染物粒子到达对粒子敏感的环境的可能性。根据本公开的方面，提供有包括第一腔室和第二腔室、具有第一表面的第一结构、和第二结构的物体平台。第二结构配置成支撑第二腔室中的物体，所述第二结构可相对于第一结构移动。第二结构包括第二表面，所述第二表面与第一结构的第一表面相对，从而限定在第一结构与第二结构之间的间隙，所述间隙在第一腔室与第二腔室之间延伸。第二结构还包括第一腔室内的第三表面。所述物体平台还包括设置在所述第三表面的至少一部分上的捕获器，所述捕获器包括多个挡板。
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公开(公告)号：CN109314069B
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN201780029700.5
申请日：2017-04-20
Applicant: ASML荷兰有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 一种拾放工具，包括：多个可移动的保持器结构；以及多个拾放结构，每个保持器结构容纳两个或更多个拾放结构，其中每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的至少一个能够独立于所述每个保持器结构的两个或更多个拾放结构中的另外的至少一个，沿着所述每个保持器结构移动，并且其中每个拾放结构包括拾取元件，该拾取元件被配置为拾取施主结构处的施主部件并将施主部件置于受主结构。
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