公开(公告)号：CN101794079A

公开(公告)日：2010-08-04

申请号：CN200910253825.3

申请日：2009-12-08

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： T·E·J·克娜蓬 ,  R·J·布鲁斯 ,  Y·J·L·M·范多麦伦 ,  J·H·W·雅克布斯 ,  M·H·卡姆普斯 ,  P·M·M·利布瑞格特斯 ,  R·A·J·马斯 ,  M·K·斯塔文卡 ,  C·C·W·沃斯帕盖特 ,  R·J·M·皮伦斯 ,  J·C·范德豪文 ,  D·L·恩斯陶特兹 ,  G-J·G·J·T·布朗德斯 ,  M·J·范德赞登 ,  V·K·巴达姆 ,  C·R·德格鲁特

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70925 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70341

Abstract: 本发明提供一种光刻设备和器件制造方法。所述光刻设备具有包括目标和/或传感器的台，和用以采用局部气流从目标和/或传感器转移液体的液体转移装置。液体转移装置可以定位在多个位置处，例如安装在曝光站处的液体处理装置、邻近曝光站和测量站之间的传递路径或位于曝光站和测量站之间的移动路径中、以及位于装载/卸载站处或邻近传感器。

公开(公告)号：CN101833248A

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：CN201010132619.X

申请日：2010-03-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·K·斯塔文卡 ,  S·舒勒伯夫 ,  K·斯蒂芬斯 ,  M·A·K·范利洛普 ,  S·B·D·大卫 ,  D·贝塞姆斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70866 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68735

Abstract: 本发明提供一种衬底台、浸没式光刻设备和一种器件制造方法。本发明公开一种用于浸没式光刻设备的衬底台，包括：凹陷，其配置成容纳给定尺寸的衬底；和流体抽取系统，其配置成从所述衬底的边缘和所述凹陷的边缘之间的间隙抽取流体，流体抽取系统配置成使得从间隙的局部部分抽取的流体的流量大于从间隙的其他部分抽取的流体的流量。

公开(公告)号：CN101833248B

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201010132619.X

申请日：2010-03-15

Applicant: ASML荷兰有限公司

Inventor： M·K·斯塔文卡 ,  S·舒勒伯夫 ,  K·斯蒂芬斯 ,  M·A·K·范利洛普 ,  S·B·D·大卫 ,  D·贝塞姆斯

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70716 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70866 ,  H01L21/68 ,  H01L21/68735

Abstract: 本发明提供一种衬底台、浸没式光刻设备和一种器件制造方法。本发明公开一种用于浸没式光刻设备的衬底台，包括：凹陷，其配置成容纳给定尺寸的衬底；和流体抽取系统，其配置成从所述衬底的边缘和所述凹陷的边缘之间的间隙抽取流体，流体抽取系统配置成使得从间隙的局部部分抽取的流体的流量大于从间隙的其他部分抽取的流体的流量。