公开(公告)号：CN103038708B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201180037433.9

申请日：2011-07-28

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： N·贝尔 ,  U·勒尔林 ,  O·纳特 ,  G·维蒂希 ,  T·劳弗尔 ,  P·屈尔兹 ,  G·林巴赫 ,  S·亨巴赫尔 ,  H·沃尔特 ,  Y-B-P·关 ,  M·豪夫 ,  F-J·施蒂克尔 ,  J·凡舒特

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。

公开(公告)号：CN103038708A

公开(公告)日：2013-04-10

申请号：CN201180037433.9

申请日：2011-07-28

Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 ,  ASML荷兰有限公司

Inventor： N·贝尔 ,  U·勒尔林 ,  O·纳特 ,  G·维蒂希 ,  T·劳弗尔 ,  P·屈尔兹 ,  G·林巴赫 ,  S·亨巴赫尔 ,  H·沃尔特 ,  Y-B-P·关 ,  M·豪夫 ,  F-J·施蒂克尔 ,  J·凡舒特

IPC: G03F7/20 ,  G21K1/06 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/7015 ,  B82Y10/00 ,  G02B3/00 ,  G02B5/08 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/0891 ,  G02B7/1815 ,  G02B17/0647 ,  G02B27/0043 ,  G03B27/542 ,  G03F7/702 ,  G03F7/70233 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70891 ,  G03F7/70958 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/061 ,  G21K2201/064

Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。