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公开(公告)号：CN103038708B
公开(公告)日：2016-08-17
申请号：CN201180037433.9
申请日：2011-07-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： N·贝尔 , U·勒尔林 , O·纳特 , G·维蒂希 , T·劳弗尔 , P·屈尔兹 , G·林巴赫 , S·亨巴赫尔 , H·沃尔特 , Y-B-P·关 , M·豪夫 , F-J·施蒂克尔 , J·凡舒特
CPC classification number: G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。
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公开(公告)号：CN103038708A
公开(公告)日：2013-04-10
申请号：CN201180037433.9
申请日：2011-07-28
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司 , ASML荷兰有限公司
Inventor： N·贝尔 , U·勒尔林 , O·纳特 , G·维蒂希 , T·劳弗尔 , P·屈尔兹 , G·林巴赫 , S·亨巴赫尔 , H·沃尔特 , Y-B-P·关 , M·豪夫 , F-J·施蒂克尔 , J·凡舒特
CPC classification number: G03F7/7015 , B82Y10/00 , G02B3/00 , G02B5/08 , G02B5/0816 , G02B5/0891 , G02B7/1815 , G02B17/0647 , G02B27/0043 , G03B27/542 , G03F7/702 , G03F7/70233 , G03F7/70316 , G03F7/70825 , G03F7/70891 , G03F7/70958 , G21K1/062 , G21K2201/061 , G21K2201/064
Abstract: 一种EUV光刻投影曝光系统的投影透镜，具有至少两个反射光学元件，每个反射光学元件包括主体和反射表面，用于在以EUV光的曝光功率对投影透镜曝光时，将分划板上的物场投影到衬底上的像场上，其中至少两个反射光学元件的主体包括具有与温度相关的热膨胀系数的材料，热膨胀系数在相应的零交叉温度处为零，并且其中零交叉温度之间的差异的绝对值大于6K。
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公开(公告)号：CN116830003A
公开(公告)日：2023-09-29
申请号：CN202180088266.4
申请日：2021-11-29
Applicant: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
Abstract: 本发明涉及一种光学系统和一种用于操作光学系统的方法，特别是微光刻投射曝光设备中的光学系统。根据本发明的一个方面，一种光学系统包括：至少一个具有光学有效表面(101、201、301、401、501、601)和反射镜基板(110、210、310、410、510、610)的反射镜(100、200、300、400、500、600)；多个温度调节区(131‑136、141‑146、231‑236、241‑246、331‑336、341‑346、431、441‑446、531‑536、541、631、641)，布置在该反射镜基板中；以及温度调节装置(150、250、350、450、550、650)，可以通过该温度调节装置彼此独立地调节存在于每个温度调节区中的温度，所述温度调节区布置在距光学有效表面不同距离处的至少两个平面中，并且所述至少两个平面中的温度调节区被配置为冷却通道，处于可变可调节的冷却流体温度的冷却流体能够彼此独立地流过该冷却通道。
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