光刻设备和器件制造方法

Invention Publication

Abstract:

为了补偿光刻投影设备中掩模的双折射，对掩模的双折射进行测量并将其作为双折射数据存储在数据存储装置中。将双折射补偿元件布置在光刻投影设备的光路中。按照所述调节能够在衬底级条件下最佳降低掩模双折射对极化状态的影响来确定对所述补偿元件的恰当的调节。

Public/Granted literature

Information query

Chinese Patent Announcement Espacenet

IPC分类:

G	物理
G03	摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F	图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备（照相排版装置入B41B；为摄影用的感光材料或处理入G03C；电记录、感光层或处理入G03G）
G03F7/00	图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备（用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置，例如，B44C，H01L，例如，H01L21/00，H05K）
G03F7/20	.曝光及其设备（复制用照相印制设备入G03B27/00）