半导体结构及其形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119767708A

    公开(公告)日:2025-04-04

    申请号:CN202411379718.6

    申请日:2024-09-30

    Abstract: 实施例包括混合互补场效应晶体管和单极晶体管及其形成方法。在实施例中,一种半导体结构包括:第一半导体纳米结构;第二半导体纳米结构;第一隔离结构,插入在第一半导体纳米结构和第二半导体纳米结构之间;第一源极/漏极区域,从第一半导体纳米结构的端部横向延伸,第一源极/漏极区域具有第一导电类型;第二源极/漏极区域,从第二半导体纳米结构的端部横向延伸,第二源极/漏极区域具有第一导电类型,第二源极/漏极区域与第一源极/漏极区域垂直对齐;以及第一栅极结构,围绕第一半导体纳米结构和第二半导体纳米结构。本发明的实施例还提供了形成半导体结构的方法。

    存储器单元、存储器单元阵列及制造集成电路的方法

    公开(公告)号:CN118038910A

    公开(公告)日:2024-05-14

    申请号:CN202410115356.3

    申请日:2024-01-26

    Abstract: 一种存储器单元,包括第一、第二、第三和第四晶体管、第一和第二反相器以及第一和第二字线。第一反相器耦合到第一和第三晶体管。第二反相器耦合到第一反相器以及第一和第三晶体管。第一字线被配置为提供第一字线信号,位于衬底前侧上方的第一金属层上,并且耦合到第一和第三晶体管。第二字线被配置为提供第二字线信号,并且位于与衬底的前侧相反的衬底的背侧下方的第二金属层上,并且耦合到第二晶体管和第四晶体管。至少第一、第二、第三或第四晶体管在衬底的前侧上。本申请的实施例还公开了一种存储器单元阵列以及制造集成电路的方法。

    双端口存储器单元及其制造方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118159024A

    公开(公告)日:2024-06-07

    申请号:CN202410178575.6

    申请日:2024-02-09

    Abstract: 一种双端口存储器单元,包括第一、第二、第三和第四通过门晶体管,以及第一和第二字线。第一通过门晶体管包括在第一层级上的第一栅极。第二通过门晶体管包括在低于第一层级的第二层级上的第二栅极。第三通过门晶体管包括在第一层级上的第三栅极。第四通过门晶体管包括在第二层级上的第四栅极。第一字线在衬底前侧上方的第一金属层上,并且耦合到对应于双端口存储器单元的第一端口的第一和第三通过门晶体管。第二字线在衬底的背侧下方的第二金属层上,并且耦合到对应于双端口存储器单元的第二端口的第二和第四通过门晶体管。本申请的实施例还公开了一种一种制造双端口存储器单元的方法。

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