集成电路器件及其形成方法
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN118354615A

    公开(公告)日:2024-07-16

    申请号:CN202410310693.8

    申请日:2024-03-19

    Abstract: 一种集成电路器件包括位于衬底前侧处的具有第一类型的沟道的第一晶体管和具有第二类型的沟道的第二晶体管。第一晶体管堆叠在第二晶体管上方。该集成电路器件还包括连接至第一晶体管的源极端子的电源线。第一晶体管具有被配置为接收控制信号的栅极端子,并且具有连接至第二晶体管的栅极端子和漏极端子两者的漏极端子。该集成电路器件还包括连接至第二晶体管的源极端子的存储器电源线、以及被配置为从存储器电源线接收电源电压的存储器电路。本申请的实施例还提供了形成集成电路器件的方法。

    集成电路结构及其制造方法
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115347016A

    公开(公告)日:2022-11-15

    申请号:CN202210792429.3

    申请日:2022-07-05

    Abstract: 根据本申请的实施例,提供了一种IC结构包括MTJ单元、晶体管、第一字线和第二字线。晶体管电耦合到MTJ单元。晶体管包括第一栅极端子和独立于第一栅极端子的第二栅极端子。第一字线电耦合到晶体管的第一栅极端子。第二字线电耦合到晶体管的第二栅极端子。MTJ单元的电阻状态取决于施加到第一字线的第一字线电压和施加到第二字线的第二字线电压,并且MTJ单元的电阻状态遵循与门逻辑或或门逻辑。根据本申请的其他实施例,还提供了制造集成电路结构的方法。

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