薄膜晶体管阵列面板的制造方法

    公开(公告)号:CN1945813A

    公开(公告)日:2007-04-11

    申请号:CN200610152439.1

    申请日:2006-09-29

    CPC classification number: H01L27/1288 H01L27/1214

    Abstract: 本发明涉及一种薄膜晶体管阵列面板的制造方法。该方法包括:在基板上形成包括栅电极的栅极线;在栅极线上形成第一绝缘层;在第一绝缘层上形成半导体层;在半导体层上形成欧姆接触件;在欧姆接触件上形成包括源电极和漏电极的数据线;沉积第二绝缘层;在第二绝缘层上形成第一光刻胶;利用第一光刻胶作为蚀刻掩膜对第二绝缘层和第一绝缘层进行蚀刻,以露出漏电极的一部分和基板的一部分;利用选择性沉积,形成连接至漏电极的已露出部分的像素电极;以及去除第一光刻胶。

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