-
公开(公告)号：CN117213361A
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202310674951.6
申请日：2023-06-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01B11/00
Abstract: 一种半导体测量设备包括：照明单元，其包括光源和至少一个照明偏振元件；光接收单元，其包括至少一个光接收偏振元件和图像传感器，至少一个光接收偏振元件设置在被样品反射的光的路径上，图像传感器被定位为接收穿过至少一个光接收偏振元件的光并被配置为输出原始图像；以及控制单元，其被配置为通过处理原始图像来确定样品的区域中包括的结构的临界尺寸中的所选择的临界尺寸。控制单元被配置为通过选择原始图像的出现由于干涉而导致的峰的区域来获得多个样品图像，使用多个样品图像来确定米勒矩阵中包括的多个元素，并且基于多个元素来确定所选择的临界尺寸。
-
公开(公告)号：CN110579478B
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN201910417361.9
申请日：2019-05-20
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了一种执行检验和计量处理的设备和方法。所述设备可包括：工作台，其被被配置为在其上装载基板；传感器，其位于工作台上；物镜，其位于传感器和工作台之间；光源，其产生将通过物镜被发送到基板的照明光；第一带滤波部件，其位于光源和物镜之间，以将照明光的波长控制在第一带宽内；以及第二带滤波部件，其位于光源和物镜之间，以将照明光的波长控制在第二带宽内，第二带宽小于第一带宽。
-
公开(公告)号：CN115870634A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211198019.2
申请日：2022-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , B23K26/70 , H01L21/78 , B23K101/40
Abstract: 公开了一种用于切分衬底的方法和设备。该用于切分衬底的方法包括：设置用于在目标衬底内形成第一改造区的目标高度，目标高度是从目标衬底的上表面至第一改造区的距离；向包括第一膜和与第一膜接触的第二膜的第一样本衬底辐射激光束，并且基于致使在第一膜的与第二膜接触的上表面上形成激光束的会聚点的样本条件设置目标条件；以及根据目标条件用激光束辐射目标衬底，以在目标衬底内形成第一改造区，其中，第二膜的厚度是目标高度。
-
公开(公告)号：CN117870550A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202310764926.7
申请日：2023-06-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01B11/02
Abstract: 提供了一种被配置为检测衬底的高度水平的水平传感器、以及包括该水平传感器的衬底处理装置。该水平传感器包括：测量光源，被配置为朝向衬底照射测量光；棱镜，被配置为将测量光的反射光分成第一偏振光和第二偏振光，并在第一偏振光和第二偏振光之间产生第一光程差；光程调制器，被配置为保持第一偏振光的光程恒定，并周期性地改变第二偏振光的光程；以及检测器，被配置为基于第一偏振光和第二偏振光之间的干涉信号来检测第一光程差。
-
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111326434A
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201910835028.X
申请日：2019-09-05
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 本公开涉及光谱系统、光学检查装置和半导体器件制造方法。该半导体器件制造方法包括对基板执行第一处理工艺；使用光谱系统检查基板，所述光谱系统包括光入射部件、光出射部件、衍射光栅和可控反射镜设备；以及对被执行了所述第一处理工艺的所述基板执行第二处理工艺。执行检查工艺的步骤包括：将入射光分离成各自具有不同波长的多个光线，所述入射光被提供给所述光入射部件并在所述衍射光栅处被衍射；以及移动所述可控反射镜设备以将所述多个光线中具有第一波长的第一光线反射到所述光出射部件。
-
公开(公告)号：CN116263401A
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211559591.7
申请日：2022-12-06
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/01 , G01N21/95 , H01L23/544
Abstract: 光学测量设备包括：光学系统，其利用光生成测量目标的光瞳图像；偏振生成器，其从光生成偏振光；自干涉生成器，其利用偏振光生成从光瞳图像分割的多个光束，并且使多个光束彼此干涉以生成自干涉图像；以及图像分析单元，其被配置为从自干涉图像提取相位数据，并且基于相位数据将测量目标移动到聚焦位置。
-
公开(公告)号：CN115966483A
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202211236007.4
申请日：2022-10-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01L21/66
Abstract: 一种半导体测量设备包括：照明单元，其包括光源和设置在从光源发射的光的传播路径上的偏振器；光学单元，其被配置为将经过偏振器的光引导为入射到样品上，以及将从样品反射的光传输至图像传感器；以及控制器，其被配置为处理由图像传感器输出的原始图像，以确定样品的光入射在其上的区中包括的结构的关键尺寸。控制器获取二维图像。控制器将对应于选择的波长的二维图像正交地分解为多个基图像，生成包括对应于多个基图像的多个权重的一维数据，并且使用一维数据确定结构的关键尺寸中的选择的关键尺寸。
-
公开(公告)号：CN115684147A
公开(公告)日：2023-02-03
申请号：CN202210796399.3
申请日：2022-07-06
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供了一种用于检查衬底的设备。该用于检查衬底的设备包括：载物台，衬底被配置为装载在该载物台上；光源，其被配置为从具有多个波长的光提取具有第一波长的第一光，并向衬底提供第一光；物镜，其设置在载物台的上表面上并且被配置为允许第一光穿过；至少一个微球体，其设置在载物台的上表面和物镜之间，所述至少一个微球体被配置为允许从物镜提供的第一光穿过，并且使第一光会聚在衬底上；检测器，其被配置为检测由从衬底反射的第一光形成的反射光，以检查衬底；以及控制器，其被配置为控制物镜和所述至少一个微球体当中的至少一个在竖直方向上的位置，使得第一光会聚在形成于衬底上的至少一个焦点上。
-
公开(公告)号：CN110579478A
公开(公告)日：2019-12-17
申请号：CN201910417361.9
申请日：2019-05-20
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了一种执行检验和计量处理的设备和方法。所述设备可包括：工作台，其被被配置为在其上装载基板；传感器，其位于工作台上；物镜，其位于传感器和工作台之间；光源，其产生将通过物镜被发送到基板的照明光；第一带滤波部件，其位于光源和物镜之间，以将照明光的波长控制在第一带宽内；以及第二带滤波部件，其位于光源和物镜之间，以将照明光的波长控制在第二带宽内，第二带宽小于第一带宽。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
10
records
(took 0.029 seconds)
