-
公开(公告)号：CN101673056A
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200910173084.8
申请日：2009-09-10
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/7085 , G03F7/70291 , G03F7/70508 , G03F7/70558
Abstract: 提供一种无掩模平版印刷设备和使用其补偿旋转对准误差的方法。无掩模平版印刷设备可包括：光源，提供曝光束；光调制器，根据曝光图案调制曝光束；曝光光学系统，将光调制器所提供的调制的曝光束以束点阵列的形式传送到基底上；控制单元，将束点阵列中的一些行关闭，以使整个束点阵列上的曝光能量分布均匀。使用无掩模平版印刷设备补偿对准误差的方法可包括：提供曝光束；根据曝光图案调制曝光束；将光调制器所提供的调制的曝光束以束点阵列的形式传送到基底上；将束点阵列中的一些行关闭，以使整个束点阵列上的曝光能量分布均匀。
-
公开(公告)号：CN101419408B
公开(公告)日：2011-11-09
申请号：CN200810125995.9
申请日：2008-06-19
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70258 , G03F7/70275
Abstract: 一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101419408A
公开(公告)日：2009-04-29
申请号：CN200810125995.9
申请日：2008-06-19
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70791 , G03F7/70258 , G03F7/70275
Abstract: 一种曝光系统及其控制方法，该曝光系统能够降低扫描时间和扫描距离。具有了这种曝光系统及其控制方法，可以实现低的生产成本和提高的曝光准确度。此外，可以实现具有不同尺寸的曝光区域的基底的快速曝光。该曝光系统包括多个光学模块组件，所述多个光学模块组件用于将有图案的光照射到彼此位于不同位置的曝光区域，所述光学模块组件被布置成允许调节彼此之间的间隔距离。所述曝光系统的控制方法包括以下步骤：确定曝光模式是否改变；如果曝光模式被改变，则根据改变后的曝光模式调节多个光学模块组件之间的间隔距离。
-
公开(公告)号：CN115870634A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211198019.2
申请日：2022-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , B23K26/70 , H01L21/78 , B23K101/40
Abstract: 公开了一种用于切分衬底的方法和设备。该用于切分衬底的方法包括：设置用于在目标衬底内形成第一改造区的目标高度，目标高度是从目标衬底的上表面至第一改造区的距离；向包括第一膜和与第一膜接触的第二膜的第一样本衬底辐射激光束，并且基于致使在第一膜的与第二膜接触的上表面上形成激光束的会聚点的样本条件设置目标条件；以及根据目标条件用激光束辐射目标衬底，以在目标衬底内形成第一改造区，其中，第二膜的厚度是目标高度。
-
公开(公告)号：CN110907471B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN201910542195.5
申请日：2019-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。
-
公开(公告)号：CN110907471A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201910542195.5
申请日：2019-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。
-
公开(公告)号：CN110890258A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910564522.7
申请日：2019-06-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01J37/244 , H01J37/32
Abstract: 一种等离子体监测系统包括执行等离子体工艺的等离子体室、第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置以及控制器。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置分别位于相对于等离子体室中的监测等离子体平面的中心点彼此垂直的第一水平方向和第二水平方向上。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置基于在第一水平方向上从监测等离子体平面照射的第一入射光束和在第二水平方向上从监测等离子体平面照射的第二入射光束，产生关于监测等离子体平面的第一检测信号和第二检测信号。控制器通过基于第一检测信号和第二检测信号执行卷积运算来检测关于监测等离子体平面的二维等离子体分布信息，并基于二维等离子体分布信息控制等离子体工艺。
-
-
-
-
-
-
Search Results
7
records
(took 0.019 seconds)
