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公开(公告)号：CN115870634A
公开(公告)日：2023-03-31
申请号：CN202211198019.2
申请日：2022-09-29
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: B23K26/38 , B23K26/064 , B23K26/70 , H01L21/78 , B23K101/40
Abstract: 公开了一种用于切分衬底的方法和设备。该用于切分衬底的方法包括：设置用于在目标衬底内形成第一改造区的目标高度，目标高度是从目标衬底的上表面至第一改造区的距离；向包括第一膜和与第一膜接触的第二膜的第一样本衬底辐射激光束，并且基于致使在第一膜的与第二膜接触的上表面上形成激光束的会聚点的样本条件设置目标条件；以及根据目标条件用激光束辐射目标衬底，以在目标衬底内形成第一改造区，其中，第二膜的厚度是目标高度。
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公开(公告)号：CN117168363A
公开(公告)日：2023-12-05
申请号：CN202310444142.6
申请日：2023-04-23
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01B11/27
Abstract: 一种使用管芯接合系统将管芯接合到晶片的方法，该方法使用所获得的显示干涉条纹的图像来测量管芯和晶片之间的平行度。在一些实施例中，使用由管芯接合系统的光学装置产生的干涉条纹来检测平行度和管芯变形。平行度测量光学装置包括：光源、被配置为控制参考光和测量光的偏振的光学组件。在一些实施例中，测量光顺序地入射到沿垂直方向间隔开以彼此面对的第一测量表面和第二测量表面上并从第一测量表面和第二测量表面上反射，并且出射以具有关于第一测量表面与第二测量表面之间的平行度的信息。在一些实施例中，第一偏振器被配置为使从光学组件出射的参考光和测量光彼此干涉。光检测器被配置为检测包括干涉条纹的光的干涉信号。
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公开(公告)号：CN115931890A
公开(公告)日：2023-04-07
申请号：CN202211189779.7
申请日：2022-09-28
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 一种极紫外(EUV)收集器检查设备，包括：挡光盖，其覆盖待检查的EUV收集器的前表面并且提供其中外部光被阻挡的空间部分；空间部分中的光源，光源具有沿着EUV收集器的中心轴延伸的柱形，光源被配置为输出在紫外(UV)波段至可见光(VIS)波段范围内的辐射光；以及光谱仪，其位于光源上方并且被配置为检测辐射光从EUV收集器的前表面反射的反射光的光谱。设备或与其关联的控制器可被配置为基于反射光的光谱检查EUV收集器的前表面的污染状态。
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公开(公告)号：CN110927839A
公开(公告)日：2020-03-27
申请号：CN201910634279.1
申请日：2019-07-12
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 公开了一种光学重排器件，包括具有基本上六面体形状的光学块。光学块包括正面、顶面、第一侧面、底面、第二侧面和背面。顶面与底面平行。光学块被布置成使得当输入光束通过正面以与正面成直角的方式入射时，输入光束在顶面、底面、第一侧面和第二侧面中的每个面处被全反射，并且输出光束通过正面或背面以与正面或背面成直角的方式被输出。
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公开(公告)号：CN115863235A
公开(公告)日：2023-03-28
申请号：CN202211098595.X
申请日：2022-09-06
Applicant: 三星电子株式会社
Abstract: 提供光学设备和对准检查光学设备。光学设备包括：折叠镜，其被配置为将第一照明光和第二照明光分别引导在第一对准标记和第二对准标记上并且分别在不同的水平方向上反射从第一对准标记和第二对准标记反射的第一反射光和第二反射光；第一透镜和第二透镜分别布置在从折叠镜的第一反射表面和第二反射表面反射的第一反射光和第二反射光的光路中；第一反射部分和第二反射部分，其被配置为分别反射穿过第一透镜和第二透镜的第一反射光和第二反射光；和分束器棱镜，其被配置为将通过第一表面入射的照明光划分成第一照明光和第二照明光并引导到第一反射部分和第二反射部分，并通过第二表面透射第一反射部分和第二反射部分反射的第一反射光和第二反射光。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN111220904A
公开(公告)日：2020-06-02
申请号：CN201911092231.9
申请日：2019-11-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01R31/309 , G01N21/956 , G02B27/28
Abstract: 提供了测试互连基板的方法和用于执行该方法的装置。在测试互连基板的方法中，可以设置从具有本征光学特性的探头反射的参考光的阻挡条件。从具有多个电路的测试互连基板发射的电场可以使探头的本征光学特性改变为测试光学特性。可以使光照射到具有测试光学特性的探头上。可以根据阻挡条件，阻挡从具有测试光学特性的探头反射的参考光。可以检测可能由于异常电路产生的剩余的反射光。
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公开(公告)号：CN110907471B
公开(公告)日：2024-10-29
申请号：CN201910542195.5
申请日：2019-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。
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公开(公告)号：CN111220904B
公开(公告)日：2024-04-19
申请号：CN201911092231.9
申请日：2019-11-08
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01R31/309 , G01N21/956 , G02B27/28
Abstract: 提供了测试互连基板的方法和用于执行该方法的装置。在测试互连基板的方法中，可以设置从具有本征光学特性的探头反射的参考光的阻挡条件。从具有多个电路的测试互连基板发射的电场可以使探头的本征光学特性改变为测试光学特性。可以使光照射到具有测试光学特性的探头上。可以根据阻挡条件，阻挡从具有测试光学特性的探头反射的参考光。可以检测可能由于异常电路产生的剩余的反射光。
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公开(公告)号：CN110907471A
公开(公告)日：2020-03-24
申请号：CN201910542195.5
申请日：2019-06-21
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: G01N21/956
Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。
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公开(公告)号：CN110890258A
公开(公告)日：2020-03-17
申请号：CN201910564522.7
申请日：2019-06-26
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: H01J37/244 , H01J37/32
Abstract: 一种等离子体监测系统包括执行等离子体工艺的等离子体室、第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置以及控制器。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置分别位于相对于等离子体室中的监测等离子体平面的中心点彼此垂直的第一水平方向和第二水平方向上。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置基于在第一水平方向上从监测等离子体平面照射的第一入射光束和在第二水平方向上从监测等离子体平面照射的第二入射光束，产生关于监测等离子体平面的第一检测信号和第二检测信号。控制器通过基于第一检测信号和第二检测信号执行卷积运算来检测关于监测等离子体平面的二维等离子体分布信息，并基于二维等离子体分布信息控制等离子体工艺。
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