荧光体分配器
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103191850A

    公开(公告)日:2013-07-10

    申请号:CN201310006152.8

    申请日:2013-01-08

    CPC classification number: B05B1/304 B05B1/3046 B05B15/18

    Abstract: 本申请涉及荧光体分配器。一种荧光体分配器包括:喷嘴,具有用于容纳荧光体液体的空间,其中用于喷射荧光体液体的开口连通到空间;及挺杆,相对于喷嘴可往复运动,从而将空间中的荧光体液体通过喷嘴喷射,其中挺杆包括具有圆柱形状的柱形单元和具有从柱形单元朝向喷嘴凸出的半球形状的凸圆单元,且凸圆单元由多晶金刚石(PCD)形成。

    等离子体感测装置、等离子体监测系统和等离子体工艺控制方法

    公开(公告)号:CN110890258A

    公开(公告)日:2020-03-17

    申请号:CN201910564522.7

    申请日:2019-06-26

    Abstract: 一种等离子体监测系统包括执行等离子体工艺的等离子体室、第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置以及控制器。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置分别位于相对于等离子体室中的监测等离子体平面的中心点彼此垂直的第一水平方向和第二水平方向上。第一等离子体感测装置和第二等离子体感测装置基于在第一水平方向上从监测等离子体平面照射的第一入射光束和在第二水平方向上从监测等离子体平面照射的第二入射光束,产生关于监测等离子体平面的第一检测信号和第二检测信号。控制器通过基于第一检测信号和第二检测信号执行卷积运算来检测关于监测等离子体平面的二维等离子体分布信息,并基于二维等离子体分布信息控制等离子体工艺。

    层沉积设备和层沉积方法
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN119943706A

    公开(公告)日:2025-05-06

    申请号:CN202411470355.7

    申请日:2024-10-21

    Abstract: 一种层沉积设备包括:处理室,所述处理室被配置提供用于处理衬底的空间,所述处理室包括限定内部空间的上腔室和下腔室;衬底支撑件,所述衬底支撑件设置在所述处理室内并且被配置为支撑所述衬底;灯加热部,所述灯加热部在所述处理室外部设置在所述上腔室上方,并且包括被配置为通过所述上腔室将光照射到所述衬底上的多个光源;以及干涉薄层图案,所述干涉薄层图案设置在所述上腔室的上表面上,并且被配置为反射来自所述多个光源的光的至少一部分。

    荧光体分配器
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103191850B

    公开(公告)日:2016-08-10

    申请号:CN201310006152.8

    申请日:2013-01-08

    CPC classification number: B05B1/304 B05B1/3046 B05B15/18

    Abstract: 本申请涉及荧光体分配器。一种荧光体分配器包括:喷嘴,具有用于容纳荧光体液体的空间,其中用于喷射荧光体液体的开口连通到空间;及挺杆,相对于喷嘴可往复运动,从而将空间中的荧光体液体通过喷嘴喷射,其中挺杆包括具有圆柱形状的柱形单元和具有从柱形单元朝向喷嘴凸出的半球形状的凸圆单元,且凸圆单元由多晶金刚石(PCD)形成。

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