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    安装装置和安装方法
    1.
    发明公开
    安装装置和安装方法 审中-公开

    公开(公告)号：CN118139404A

    公开(公告)日：2024-06-04

    申请号：CN202311471341.2

    申请日：2023-11-07

    Applicant: 三星电子株式会社

    Inventor： 梶並将人 ,  赵汉晟 ,  小野一也 ,  金丙振 ,  长友大典 ,  诸石史孝 ,  泉田昌典 ,  安成敏

    IPC: H05K13/00 ,  H05K13/04

    Abstract: 提供了被配置为实现高精度安装的安装装置和安装方法。可以提供安装装置，该安装装置包括接合致动器，该接合致动器具有：壳体；滑动件，其以非接触状态被容纳在壳体中并且设置有头；非接触状态下的线圈和磁轭；在X轴方向上驱动的两个音圈电机(VCM)，在Y轴方向上驱动的三个VCM，以及在Z轴方向上驱动的一个VCM。线圈可以固定到壳体，磁轭可以固定到滑动件。接合致动器可以在通过在六个轴向方向上驱动滑动件来调整芯片和晶圆的相对位置和平行度的同时执行接合，六个轴向方向包括X轴方向、Y轴方向、Z轴方向、Tx方向、Ty方向和Tz方向。

    用于平行度测量的光学组件和包括该光学组件的光学装置
    2.
    发明公开
    用于平行度测量的光学组件和包括该光学组件的光学装置 审中-实审

    公开(公告)号：CN117168363A

    公开(公告)日：2023-12-05

    申请号：CN202310444142.6

    申请日：2023-04-23

    Applicant: 三星电子株式会社

    Inventor： 朱祉映 ,  金亨珍 ,  徐敏焕 ,  朱愿暾 ,  具东胤 ,  裵祥佑 ,  安成敏 ,  李俊圭 ,  洪允杓

    IPC: G01B11/27

    Abstract: 一种使用管芯接合系统将管芯接合到晶片的方法，该方法使用所获得的显示干涉条纹的图像来测量管芯和晶片之间的平行度。在一些实施例中，使用由管芯接合系统的光学装置产生的干涉条纹来检测平行度和管芯变形。平行度测量光学装置包括：光源、被配置为控制参考光和测量光的偏振的光学组件。在一些实施例中，测量光顺序地入射到沿垂直方向间隔开以彼此面对的第一测量表面和第二测量表面上并从第一测量表面和第二测量表面上反射，并且出射以具有关于第一测量表面与第二测量表面之间的平行度的信息。在一些实施例中，第一偏振器被配置为使从光学组件出射的参考光和测量光彼此干涉。光检测器被配置为检测包括干涉条纹的光的干涉信号。

    用于对准检查的光学组件和包括其的光学设备
    4.
    发明公开
    用于对准检查的光学组件和包括其的光学设备 审中-实审

    公开(公告)号：CN115863235A

    公开(公告)日：2023-03-28

    申请号：CN202211098595.X

    申请日：2022-09-06

    Applicant: 三星电子株式会社

    Inventor： 朱祉映 ,  金亨珍 ,  徐敏焕 ,  朱愿暾 ,  安成敏 ,  金志荣 ,  小野一也 ,  李贞彻

    IPC: H01L21/68 ,  G02B27/10

    Abstract: 提供光学设备和对准检查光学设备。光学设备包括：折叠镜，其被配置为将第一照明光和第二照明光分别引导在第一对准标记和第二对准标记上并且分别在不同的水平方向上反射从第一对准标记和第二对准标记反射的第一反射光和第二反射光；第一透镜和第二透镜分别布置在从折叠镜的第一反射表面和第二反射表面反射的第一反射光和第二反射光的光路中；第一反射部分和第二反射部分，其被配置为分别反射穿过第一透镜和第二透镜的第一反射光和第二反射光；和分束器棱镜，其被配置为将通过第一表面入射的照明光划分成第一照明光和第二照明光并引导到第一反射部分和第二反射部分，并通过第二表面透射第一反射部分和第二反射部分反射的第一反射光和第二反射光。

    图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法
    5.
    发明公开
    图案宽度校正系统及使用其制造半导体装置的方法 无效

    公开(公告)号：CN110687754A

    公开(公告)日：2020-01-14

    申请号：CN201910243009.8

    申请日：2019-03-28

    Applicant: 三星电子株式会社

    Inventor： 安成敏 ,  朴相玄 ,  尹秉敏 ,  张宰荣

    IPC: G03F7/20

    Abstract: 本发明提供了一种图案宽度校正系统以及一种制造半导体设备的方法。所述图案宽度校正系统包括：图案宽度测量单元，配置为测量在第一距离处形成的第一图案的宽度，其中所述第一图案是通过照射使用第一图案数据调制的第一光而形成的；第一误差数据计算器，配置为基于所述第一图案的测量宽度生成第一误差数据；回归分析器，配置为对所述第一误差数据进行回归分析，以在所述第一图案的X-Y坐标和所述第一图案的宽度误差之间生成第一关系表达式；第二误差数据计算器，配置为通过使用所述第一关系表达式在具有第二距离的操作区域中生成第二误差数据；以及图案数据校正单元，配置为通过基于所述第二误差数据校正所述第一图案数据来生成第二图案数据。

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