公开(公告)号：CN1920662A

公开(公告)日：2007-02-28

申请号：CN200510135972.2

申请日：2005-12-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  金桢吉 ,  郑在贤 ,  李锡原 ,  李文九 ,  赵成训

IPC: G03F7/00 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明涉及一种压印光刻装置，包含形成目标图案的反相凹凸图案的模板，该模板由弹性材质构成；模板贴附部，将模板从一端部到另一端部逐渐地贴附于作业对象上而在作业对象上形成目标图案。因此，可以有效地在基板上形成纳米图案。

公开(公告)号：CN118112895A

公开(公告)日：2024-05-31

申请号：CN202311136898.0

申请日：2023-09-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑殷憙 ,  金桢吉

IPC: G03F7/20

Abstract: 公开了EUV光均匀性控制设备、EUV曝光装备和EUV光均匀性控制方法。所述极紫外(EUV)光均匀性控制设备包括：多个纳米薄膜，每个纳米薄膜具有沿作为EUV曝光装备的扫描方向的第一方向延伸的带状，并且沿与第一方向垂直的第二方向线性地布置在EUV曝光装备的掩膜版下方。所述设备还包括：薄膜托架，在第一方向上的两侧上固定所述多个纳米薄膜；以及薄膜控制装置，连接到薄膜托架并控制所述多个纳米薄膜。来自EUV曝光装备的EUV光在通过入射到掩膜版并从掩膜版反射而穿过所述多个纳米薄膜两次之后被投射到作为曝光目标的晶圆上，并且投射在晶圆上的EUV光通过使用薄膜控制装置被均匀地调节。

公开(公告)号：CN100594137C

公开(公告)日：2010-03-17

申请号：CN200610080940.1

申请日：2006-05-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金桢吉 ,  李文九 ,  李锡原 ,  朴正宇 ,  赵成训

IPC: B41M5/26 ,  B41K3/36

Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法和图案形成装置。依据本发明所提供的图案形成方法包含步骤：将图案形成对象安放到安放部；通过对软模的背面施加压力使所述软模的中央部分向所述图案形成对象突出；从所述中央部分开始将所述软模紧贴到所述图案形成对象；在所述软模与所述图案形成对象紧贴的状态下，将所述软模的图案转印到所述图案形成对象上；分离所述软模与所述图案形成对象。由此得到可以以低成本形成高品质图案的图案形成方法。

公开(公告)号：CN117631470A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202311103501.8

申请日：2023-08-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金东炯 ,  郑殷喜 ,  泰恩·博伦 ,  李胤尚 ,  金桢吉 ,  朴景彬

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种照明校正设备，其用于校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，照明校正设备包括：多个指状物，其各自具有面对辐射束的入射方向的表面，所述多个指状物在第一方向上排列为邻近于辐射束的路径，并且被配置为通过在与第一方向交叉的第二方向上移动来调整入射的辐射束的量；控制器，其连接至所述多个指状物，并且被配置为控制所述多个指状物的运动，使得辐射束的强度在第一方向上具有均匀性；至少一个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上；以及测量单元，其被配置为基于所述至少一个光学传感器的输出测量辐射束的强度。

公开(公告)号：CN115931890A

公开(公告)日：2023-04-07

申请号：CN202211189779.7

申请日：2022-09-28

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴钟彬 ,  金桢吉 ,  松田阳三 ,  李东协 ,  D·郑 ,  郑有轸 ,  郑殷憙 ,  朱愿暾 ,  崔珉硕

IPC: G01N21/94 ,  G01N21/01 ,  G01N21/55 ,  G03F7/20

Abstract: 一种极紫外(EUV)收集器检查设备，包括：挡光盖，其覆盖待检查的EUV收集器的前表面并且提供其中外部光被阻挡的空间部分；空间部分中的光源，光源具有沿着EUV收集器的中心轴延伸的柱形，光源被配置为输出在紫外(UV)波段至可见光(VIS)波段范围内的辐射光；以及光谱仪，其位于光源上方并且被配置为检测辐射光从EUV收集器的前表面反射的反射光的光谱。设备或与其关联的控制器可被配置为基于反射光的光谱检查EUV收集器的前表面的污染状态。

公开(公告)号：CN101114120A

公开(公告)日：2008-01-30

申请号：CN200610137180.3

申请日：2006-10-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵成训 ,  赵映泰 ,  李锡原 ,  朴宣美 ,  沈盈硕 ,  朴正扜 ,  金桢吉

IPC: G03F7/00

Abstract: 本发明公开了一种压模、用于制造该压模的方法以及利用该压模的基底的压印工艺。该压模能够抑制变形如收缩和膨胀，以提高具有刻在其上的精细图案的压模的尺寸准确度以及基底与压模的排列精确度。该压模包括：压模体，具有预定图案；加强部分，设置在压模体上，以加强压模体。

公开(公告)号：CN119730344A

公开(公告)日：2025-03-28

申请号：CN202411107642.1

申请日：2024-08-13

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 李钟俱 ,  金贤真 ,  姜景元 ,  姜铉在 ,  金荣夏 ,  金桢吉 ,  金珍满 ,  金圣协 ,  李尚勋

IPC: H10D62/40 ,  H10D80/00 ,  H10D80/30 ,  H10B80/00 ,  H01L21/18

Abstract: 一种半导体器件可包括：第一半导体结构，其包括第一衬底结构的上表面上的第一器件层，第一器件层包括半导体器件的第一区域；以及第二半导体结构，其包括第二衬底结构的下表面上的第二器件层，第二器件层连接到第一器件层并且包括半导体器件的第二区域。第一衬底结构可包括第一晶片和第一晶片上的第二晶片。第二晶片可与第一器件层接触。第二衬底结构可包括第三晶片和第三晶片的下表面上的第四晶片。第四晶片可与第二器件层接触。第二晶片的上表面可以是(100)晶面。

公开(公告)号：CN101879498A

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：CN201010175660.5

申请日：2010-05-05

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 赵暎泰 ,  权信 ,  金基贤 ,  徐正祐 ,  金东民 ,  金桢吉

IPC: B05C9/12 ,  B05D3/06

CPC classification number: B65H23/038 ,  B05C5/0241 ,  B05D1/40 ,  B05D3/067 ,  B65H2301/5114 ,  B65H2301/5126 ,  B65H2404/15212

Abstract: 本发明公开了一种卷对卷式图案化装置和具有该卷对卷式图案化装置的图案化系统，所述卷对卷式图案化装置包括用于对齐薄膜构件的对齐辊。随着对齐辊对齐进入图案辊和压辊之间的薄膜构件，薄膜构件可运动至准确的位置，这样能够制造具有准确图案的薄膜构件。

公开(公告)号：CN101085580A

公开(公告)日：2007-12-12

申请号：CN200610121809.5

申请日：2006-08-24

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 朴正扜 ,  崔炯佶 ,  赵成训 ,  金光秀 ,  金桢吉 ,  李锡原 ,  李文九

IPC: B41M5/26 ,  B41M1/24

Abstract: 本发明提供一种利用纳米压印以简单的工艺形成同时具有亲水性和疏水性的微细图案的方法。本发明利用刻着具有疏水性的微细结构物的模具在亲水性抗蚀涂层的表面转印所述模具的微细结构物。转印所述微细结构物包含步骤：使所述模具的微细结构物接触所述亲水性抗蚀涂层并施加预定压力；通过加热或照射紫外线使所述亲水性抗蚀涂层硬化之后将所述模具移开。

公开(公告)号：CN1970306A

公开(公告)日：2007-05-30

申请号：CN200610080940.1

申请日：2006-05-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金桢吉 ,  李文九 ,  李锡原 ,  朴正宇 ,  赵成训

IPC: B41M5/26 ,  B41K3/36

Abstract: 本发明涉及一种图案形成方法和图案形成装置。依据本发明所提供的图案形成方法包含步骤：将图案形成对象安放到安放部；通过对软模的背面施加压力使所述软模的中央部分向所述图案形成对象突出；从所述中央部分开始将所述软模紧贴到所述图案形成对象；在所述软模与所述图案形成对象紧贴的状态下，将所述软模的图案转印到所述图案形成对象上；分离所述软模与所述图案形成对象。由此得到可以以低成本形成高品质图案的图案形成方法。