公开(公告)号：CN117631470A

公开(公告)日：2024-03-01

申请号：CN202311103501.8

申请日：2023-08-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 金东炯 ,  郑殷喜 ,  泰恩·博伦 ,  李胤尚 ,  金桢吉 ,  朴景彬

IPC: G03F7/20

Abstract: 一种照明校正设备，其用于校正从曝光设备入射于掩模板上的辐射束，照明校正设备包括：多个指状物，其各自具有面对辐射束的入射方向的表面，所述多个指状物在第一方向上排列为邻近于辐射束的路径，并且被配置为通过在与第一方向交叉的第二方向上移动来调整入射的辐射束的量；控制器，其连接至所述多个指状物，并且被配置为控制所述多个指状物的运动，使得辐射束的强度在第一方向上具有均匀性；至少一个光学传感器，其在所述多个指状物中的至少一个指状物的表面上；以及测量单元，其被配置为基于所述至少一个光学传感器的输出测量辐射束的强度。

公开(公告)号：CN119324150A

公开(公告)日：2025-01-17

申请号：CN202410629537.8

申请日：2024-05-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 吴炅桓 ,  李多海 ,  郑殷喜 ,  赵哲敏 ,  姜景元

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

Abstract: 一种半导体处理设备包括：光产生器，其被配置为输出具有极紫外(EUV)波段的EUV光；掩模台，其被配置为放置反射从光产生器输出的EUV光的掩模；光接收光学单元，其包括通过反射从掩模反射的EUV光产生输出光的多个镜，所述多个镜中的至少一个包括镜主体和附着于镜主体的表面的反射层；电源，其被配置为将偏置电压施加至反射层；以及衬底台，其被配置为放置要被输出光辐射的衬底。