公开(公告)号：CN117870550A

公开(公告)日：2024-04-12

申请号：CN202310764926.7

申请日：2023-06-26

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张城豪 ,  裵祥佑 ,  徐敏焕 ,  成长云 ,  大久保彰律 ,  李昇祐 ,  李贞彻 ,  郑在晃 ,  洪尚俊

IPC: G01B11/02

Abstract: 提供了一种被配置为检测衬底的高度水平的水平传感器、以及包括该水平传感器的衬底处理装置。该水平传感器包括：测量光源，被配置为朝向衬底照射测量光；棱镜，被配置为将测量光的反射光分成第一偏振光和第二偏振光，并在第一偏振光和第二偏振光之间产生第一光程差；光程调制器，被配置为保持第一偏振光的光程恒定，并周期性地改变第二偏振光的光程；以及检测器，被配置为基于第一偏振光和第二偏振光之间的干涉信号来检测第一光程差。

公开(公告)号：CN115870634A

公开(公告)日：2023-03-31

申请号：CN202211198019.2

申请日：2022-09-29

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 张城豪 ,  徐敏焕 ,  李璋辉 ,  权宁喆 ,  裴祥佑 ,  大久保彰律 ,  李贞彻 ,  朱愿暾

IPC: B23K26/38 ,  B23K26/064 ,  B23K26/70 ,  H01L21/78 ,  B23K101/40

Abstract: 公开了一种用于切分衬底的方法和设备。该用于切分衬底的方法包括：设置用于在目标衬底内形成第一改造区的目标高度，目标高度是从目标衬底的上表面至第一改造区的距离；向包括第一膜和与第一膜接触的第二膜的第一样本衬底辐射激光束，并且基于致使在第一膜的与第二膜接触的上表面上形成激光束的会聚点的样本条件设置目标条件；以及根据目标条件用激光束辐射目标衬底，以在目标衬底内形成第一改造区，其中，第二膜的厚度是目标高度。

公开(公告)号：CN110907471B

公开(公告)日：2024-10-29

申请号：CN201910542195.5

申请日：2019-06-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑殷熹 ,  亚历山大·肖尔克夫 ,  安东·梅德韦杰夫 ,  马克西姆·里亚巴克 ,  裴祥佑 ,  大久保彰律 ,  李相珉 ,  赵成根 ,  朱愿暾

IPC: G01N21/956

Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。

公开(公告)号：CN110907471A

公开(公告)日：2020-03-24

申请号：CN201910542195.5

申请日：2019-06-21

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑殷熹 ,  亚历山大·肖尔克夫 ,  安东·梅德韦杰夫 ,  马克西姆·里亚巴克 ,  裴祥佑 ,  大久保彰律 ,  李相珉 ,  赵成根 ,  朱愿暾

IPC: G01N21/956

Abstract: 公开一种检测基板上缺陷的方法和用于检测基板上的缺陷的设备。在检测基板上的缺陷的方法中，可以将入射光束照射到基板的表面以产生反射光束。可检测反射光束之中的二次谐波产生(SHG)光束。SHG光束可由基板上的缺陷产生。可通过检查SHG光束来检测纳米尺寸缺陷。