垂直存储器器件及其制造方法

    公开(公告)号:CN104659033A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201410663213.2

    申请日:2014-11-19

    Abstract: 本发明提供了垂直存储器器件及其制造方法。该垂直存储器器件包括基板、沟道、栅线和连接部分。多个沟道在垂直于基板的上表面的第一方向上延伸。多个栅线在第一方向上堆叠以彼此间隔开,并在垂直于第一方向的第二方向上延伸,每个栅线交叉一组沟道并围绕该组沟道的每个沟道的外侧壁。栅线形成包括多个垂直水平面的台阶结构。连接部分连接多个栅线中的位于相同的垂直水平面的一组栅线,连接部分从第二方向分支,该组栅线中的栅线在第二方向上延伸。

    非易失性存储装置及其读取方法

    公开(公告)号:CN101740129A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910220889.3

    申请日:2009-11-16

    CPC classification number: G11C8/08 G11C11/5642 G11C16/3418 G11C29/00

    Abstract: 本发明构思的目的在于提供一种因补偿闪速存储单元的阈值电压而具有改善的可靠性的非易失性存储装置及其读取方法。根据本发明构思的非易失性存储装置包括:存储单元阵列,连接到多条字线;电压产生器,用于在执行读取操作时,将选择的读取电压提供到所述多条字线中的选择的字线,将未选的读取电压提供到所述多条字线中的未选的字线。电压产生器根据未选的字线是否与选择的字线相邻而产生电平不同的未选的读取电压。根据本发明构思的非易失性存储装置补偿因各种原因而升高或降低的阈值电压。根据本发明的构思,改善了非易失性存储装置的可靠性。

    掩模制造方法、用该掩模制造的半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN115084133A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202210146379.1

    申请日:2022-02-17

    Abstract: 提供了一种半导体装置。该半导体装置包括:衬底,其包括第一区域、第二区域和放置在第一区域与第二区域之间的连接区域;多个第一多沟道有源图案,其放置在衬底的第一区域中;多个第二多沟道有源图案,其放置在衬底的第二区域中;第一连接鳍型图案,其放置在衬底的连接区域中,并且在第一方向上从第一区域延伸到第二区域;以及场绝缘膜,其放置在衬底上,并且覆盖第一连接鳍型图案的上表面,其中,第一连接鳍型图案在第二方向上的宽度随着其远离第一区域而减小并且随后增大,并且第一方向垂直于第二方向。

    重构人工智能模型的电子装置及其控制方法

    公开(公告)号:CN112771544A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN201980064205.7

    申请日:2019-10-16

    Abstract: 提供了一种用于重构人工智能模型的电子装置及其控制方法。该控制方法包括:输入至少一个输入数据至第一人工智能(AI)模型,以获取至少一个输出数据;基于所获取的至少一个输出数据,获取第一使用信息;基于所获取的第一使用信息,获取用于重构所述第一AI模型的第一重构信息;以及基于所获取的第一重构信息,重构所述第一AI模型,以获取第二AI模型。

Patent Agency Ranking