公开(公告)号：CN102315143A

公开(公告)日：2012-01-11

申请号：CN201110189199.3

申请日：2011-06-30

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小田桐正弥 ,  村木雄介 ,  富士原仁

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67248 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/463 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32724 ,  H01J37/32779 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/201 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种基板处理装置，可以分别独立且精密地进行基板的周缘部和中心部的温度管理、温度控制，且配管构成简化。本发明提供一种基板处理装置，在真空处理空间中处理基板，且包含承载至少2片以上的基板的基板承载台，所述基板承载台是由数量与承载的基板数量对应的基板承载部构成，在所述基板承载部，相互独立地形成有使承载的基板中央部冷却的中央调温通道和使基板周缘部冷却的周缘调温通道，在所述基板承载台上设置有1个使调温介质导入到所述周缘调温通道的调温介质导入口，且设置数量与承载的基板数量对应的使调温介质从所述周缘调温通道中排出的调温介质排出口。

公开(公告)号：CN101988874A

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200910108864.4

申请日：2009-07-31

Applicant: 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司

Inventor： 姜开利 ,  张丽娜 ,  张昊旭 ,  范守善

IPC: G01N1/28 ,  H01J9/00 ,  G01N23/04

CPC classification number: H01J37/20 ,  G01N1/38 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/31745

Abstract: 本发明涉及一种透射电镜试样制备方法，其包括以下步骤：将一定量待测纳米颗粒及一定量石墨烯片分散于一溶剂中，形成一待测样品分散液；提供一具有部分悬空设置的碳纳米管膜结构的透射电镜微栅；将该待测样品分散液浸润该透射电镜微栅的碳纳米管膜结构；以及干燥该待测样品分散液，从而形成一透射电镜试样。

公开(公告)号：CN108434586A

公开(公告)日：2018-08-24

申请号：CN201810151226.X

申请日：2018-02-13

Applicant: 韦伯斯特生物官能(以色列)有限公司

Inventor： A.戈瓦里 ,  Y.阿加维 ,  I.斯特尼特斯基

IPC: A61M25/10 ,  A61B18/14

CPC classification number: A61M25/1029 ,  A61B5/0422 ,  A61B5/065 ,  A61B5/6852 ,  A61B18/1492 ,  A61B34/20 ,  A61B2017/00053 ,  A61B2017/00526 ,  A61B2018/0022 ,  A61B2018/00351 ,  A61B2018/00577 ,  A61B2034/2051 ,  A61L31/00 ,  A61M2025/1031 ,  A61M2207/10 ,  C23C14/042 ,  C23C14/205 ,  C23C14/46 ,  C23C14/505 ,  H01J37/20 ,  H01J37/32715 ,  H01J37/32779 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/20214 ,  H01J2237/20285 ,  H01J2237/332 ,  A61M25/1011 ,  A61B2018/00839 ,  A61M25/1018

Abstract: 本发明题为“用于溅射多球囊导管远侧端部的行星齿轮组件”。本发明公开了一种设备，所述设备包括组件和中空模板。所述组件包括安装于其上的多个铰链。所述组件被配置成围绕第一轴线旋转，并且所述铰链中的每一个被另外配置成围绕相应的第二轴线旋转。所述中空模板被装配在所述相应的铰链上并且各自被配置成容纳医疗器械的基于球囊的远侧端部，每个模板具有图案化开口，一个或多个电极通过所述图案化开口沉积在所述远侧端部上。

公开(公告)号：CN102804329B

公开(公告)日：2015-07-08

申请号：CN201080025312.8

申请日：2010-06-23

Applicant: 因特瓦克公司

Inventor： B·阿迪比 ,  M·丘恩

IPC: H01J37/08

CPC classification number: H01L31/1876 ,  C23C14/042 ,  C23C14/48 ,  H01J37/185 ,  H01J37/3171 ,  H01J37/32412 ,  H01J37/32422 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/184 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/327 ,  H01J2237/3365 ,  H01L21/2236 ,  H01L31/068 ,  H01L31/0682 ,  H01L31/1804 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

Abstract: 一种离子注入方法，包括：在室的等离子体区内提供等离子体；正向偏置第一格栅板，其中第一格栅板包括多个孔；负向偏置第二格栅板，其中第二格栅板包括多个孔；使来自等离子体区中的等离子体的离子流过正向偏置的第一格栅板中的孔；使流过正向偏置的第一格栅板中的孔的离子的至少部分流过负向偏置的第二格栅板中的孔；以及向衬底注入流过负向偏置的第二格栅板中的孔的离子的至少部分。

公开(公告)号：CN104685604A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201380041167.6

申请日：2013-10-02

Applicant: 艾克塞利斯科技公司

Inventor： 威廉·李 ,  威廉·雷诺兹 ,  斯坦利·斯通

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/20 ,  H01J37/18 ,  H01L21/67 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01J37/18 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2002 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31705 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67766

Abstract: 本发明涉及一种离子注入系统，该系统向置于冷却夹盘上的处理腔室的真空环境中的工件提供离子。处理腔室内的预冷站具有配置成将工件冷却至第一温度的冷却的工件支撑件，处理腔室内的后热站具有配置成将工件加热至第二温度的加热的工件支撑件。第一温度低于处理温度，第二温度高于外部温度。工件传送臂进一步配置成在夹盘、装载锁定腔室、预冷站及后热站中的两个或两个以上构件之间同时传送两个或两个以上工件。

公开(公告)号：CN103050359A

公开(公告)日：2013-04-17

申请号：CN201210394946.1

申请日：2012-10-17

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 小野田正敏

IPC: H01J37/317 ,  H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  C23C14/48 ,  C23C14/56

CPC classification number: H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/20221 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/67718 ,  H01L21/6776

Abstract: 能束照射系统和工件传输机构。能束照射系统能在将能束有效地照射在工件上的同时实现显著的紧凑构造。能束照射系统包括能束发射机构、第一和第二轨道运动机构。能束发射机构朝预定的照射区域发射能束，以照射作为目标的至少一个第一工件和至少一个第二工件。第一轨道运动机构使所述至少一个第一工件沿预定的第一轨道作轨道运动，第一轨道包括照射区域。第二轨道运动机构使所述至少一个第二工件沿预定的第二轨道作轨道运动，第二轨道包括照射区域。当从垂直于由第一和第二轨道形成的理想轨道运动表面的方向观看时，由第一轨道包围的第一区域和由第二轨道包围的第二区域至少部分地重叠。工件传输机构包括第一和第二轨道运动机构。

公开(公告)号：CN102804328A

公开(公告)日：2012-11-28

申请号：CN201080028969.X

申请日：2010-06-18

Applicant: 特温克里克技术公司

Inventor： G.里丁 ,  T.H.斯米克 ,  K.珀泽 ,  J.D.吉莱斯皮 ,  H.格拉维什

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J37/317 ,  F16J15/00 ,  H01J37/02

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/08 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/061 ,  H01J2237/082 ,  H01J2237/166 ,  H01J2237/2001 ,  H01J2237/2006 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/202

Abstract: 一种用于使硅从硅晶片剥落的氢离子植入器使用大的扫描轮(14)，所述扫描轮在其周缘周围承载50+个晶片并且绕着轴线旋转。在一个实施方式中，轮的旋转轴线固定，并且氢离子的带状束(101)在轮的周缘上指向下方。带状束在轮上的晶片的整个径向宽度上方延伸。束是由离子源(16)生成的，离子源提供具有至少100mm主截面直径的提取带状束。离子源可以使用无芯鞍形类型的线圈(112、112a-c)，以便提供约束离子源中的等离子体的均匀场。带状束可以穿过90度弯曲的磁体(17)，所述磁体在带状平面中弯曲所述束。

公开(公告)号：CN102564818A

公开(公告)日：2012-07-11

申请号：CN201110318890.7

申请日：2011-08-01

Applicant: 乌尔姆大学 ,  卡尔蔡司NTS有限责任公司

Inventor： L·莱克纳 ,  U·凯瑟 ,  J·比斯库佩克

IPC: G01N1/28 ,  G01N1/44

CPC classification number: G01N1/28 ,  G01N1/32 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3056 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/20207 ,  H01J2237/31745 ,  Y10T428/24479

Abstract: 一种TEM-薄片制作方法包括将具有厚度的板状基底安装(51)在支撑件内；用粒子束在基底第一侧面上制作(53)相对支撑件成第一角度的第一条形凹部；及用粒子束在基底第二侧面上制作(55)相对支撑件成第二角度的第二条形凹部，使第一和第二条形凹部彼此成锐角或直角，且二者间形成厚度更小的交叠区域。薄片具有较厚的边缘区域和较薄的中央区域，其第一侧上有第一条形凹部，第二侧上有第二条形凹部，第一和第二条形凹部彼此成锐角或直角，且二者间形成厚度小于100nm的交叠区域。一种实施上述方法或制作上述薄片的设备包括可绕横轴和相对竖直方向倾斜的纵轴枢转的薄片支撑件、用于绕纵轴旋转的装置、及限制薄片支撑件绕横轴的倾侧的制动件。

公开(公告)号：CN101921990A

公开(公告)日：2010-12-22

申请号：CN200910261623.3

申请日：2009-12-18

Applicant: 日新离子机器株式会社

Inventor： 立道润一 ,  小野田正敏 ,  织平浩一

IPC: C23C14/48

CPC classification number: H01L21/67213 ,  H01J37/20 ,  H01J2237/2007 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/204 ,  H01J2237/31701 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771

Abstract: 本发明提供一种离子注入装置，能统一对多个基板进行离子注入，且使各基板面内的离子注入量分布均匀。该离子注入装置包括：注入室(8)，被导入离子束(4)；托架(12)，把基板(10)沿X方向保持在第一列和第二列两列上；托架驱动装置(16)，能使托架(12)成水平状态且位于基板交换位置(48)，还能使托架(12)成立起状态，在离子束(4)的照射区域沿X方向往复直线驱动托架(12)。还具有两个加载互锁机构(20a，20b)、以及两个基板输送装置(30a，30b)，基板输送装置(30a，30b)各具有两个在各加载互锁机构(20a，20b)与基板交换位置(48)之间输送基板(10)的臂(32a～32d)。

公开(公告)号：CN101802992A

公开(公告)日：2010-08-11

申请号：CN200880107434.4

申请日：2008-09-18

Applicant: 瓦里安半导体设备公司

Inventor： 由里·艾洛克海 ,  保罗·沙利文 ,  史帝文·R·沃特 ,  彼得·纽南

IPC: H01L21/60 ,  H01L21/265

CPC classification number: H01L21/76251 ,  H01J37/20 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/201 ,  H01J2237/202 ,  H01L21/26506 ,  H01L21/6835 ,  H01L2221/68359 ,  H01L2924/30105

Abstract: 所揭示的是将两个藉由离子植入而活化的基底晶圆键合在一起的方法。原位离子键合室允许在制造流程所使用的现有制程设备中进行离子活化与键合。基底的至少其中之一是在低植入能量下进行离子活化，以确保薄表面层下面的晶圆材料免受离子活化的影响。