公开(公告)号：CN107254673B

公开(公告)日：2019-07-19

申请号：CN201710439046.7

申请日：2017-06-12

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  成都京东方光电科技有限公司

Inventor： 尹志中

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/24 ,  C23C14/04

CPC classification number: C23C14/568 ,  C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  C23C14/52 ,  C23C14/54 ,  C23C28/00 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了一种蒸镀系统和蒸镀系统的蒸镀方法，蒸镀系统包括：至少一条蒸镀线、第一传送轨道和托盘，每条蒸镀线包括蒸镀腔室，蒸镀腔室包括多个子蒸镀腔，多个子蒸镀腔依次相连，蒸镀腔室的一端形成有蒸镀线入口、另一端形成有蒸镀线出口，子蒸镀腔内设有蒸发源组件；第一传送轨道穿设在蒸镀线入口和蒸镀线出口之间，第一传送轨道位于蒸发源组件的上方；托盘包括用于放置工件的托架，托盘可移动地设在第一传送轨道上以在蒸镀线入口和蒸镀线出口之间传送工件使蒸发源组件对工件进行蒸镀。根据本发明实施例的蒸镀系统，优化了蒸镀线的布局，简化了操作步骤，提高了空间利用率，减小了蒸镀系统的整体占用空间和成本。

公开(公告)号：CN106591775B

公开(公告)日：2019-06-07

申请号：CN201611218750.1

申请日：2016-12-26

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 ,  鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

Inventor： 林治明 ,  王震 ,  张健

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种掩膜板本体，包括至少一个掩膜区和环绕在所述掩膜区周围的非掩膜区，所述掩膜板本体沿预设拉伸方向延伸的边缘的对应于所述掩膜区的部分设置为弯曲部；从所述弯曲部的至少一端至所述弯曲部的中部，所述弯曲部逐渐靠近或呈阶梯式靠近所述掩膜区沿所述预设拉伸方向延伸的边缘；所述预设拉伸方向为所述掩膜板本体的长度方向或宽度方向。相应地，本发明还提供一种掩膜板及其制作方法。本发明能够改善掩膜板的掩膜区两侧的褶皱现象。

公开(公告)号：CN109689920A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201680089235.X

申请日：2016-09-14

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 山渕浩二

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

CPC classification number: H01L51/0011 ,  C23C14/042 ,  C23C14/24 ,  H01L27/3244 ,  H01L51/001 ,  H01L51/56

Abstract: 提供一种以第一方向(D1)为长边方向的蒸镀用的掩模片，其包括可夹持的第一侧端部(G1)和具有多个贯通孔的中间部(M)，在所述第一侧端部与中间部之间具有与第一方向正交的第二方向(D2)上的长度即宽度(Wk)比中间部小的第一窄幅部(K1)、或者具有沿着在所述第二方向上相对的两个边缘形成的厚度比中间部的最大厚度小的两个边缘图案。

公开(公告)号：CN109682318A

公开(公告)日：2019-04-26

申请号：CN201811553916.4

申请日：2018-12-19

Applicant: 中国电子科技集团公司第四十八研究所

Inventor： 张浩 ,  周国方 ,  丁玎 ,  曾庆平 ,  龚星

IPC: G01B11/16 ,  G01L1/24 ,  C23C14/04 ,  C23C14/46 ,  B05D7/24 ,  B05D1/02

CPC classification number: G01B11/165 ,  B05D1/02 ,  B05D7/24 ,  C23C14/042 ,  C23C14/46 ,  G01L1/24

Abstract: 本发明公开了一种发动机叶片动应变测量传感器及制造方法，传感器包括传感单元，所述传感单元包括镀制在被测发动机叶片表面上的基础层；所述基础层上镀制有应变栅和焊盘；所述应变栅和所述焊盘连接。具有结合强度高，耐高温效果好，测量精度高等优点。

公开(公告)号：CN109563618A

公开(公告)日：2019-04-02

申请号：CN201780049071.2

申请日：2017-07-17

Applicant: 荷兰应用科学研究会(TNO)

Inventor： 赫伯特·利夫卡

IPC: C23C14/56 ,  C23C14/04 ,  C23C16/455

CPC classification number: C23C14/562 ,  C23C14/042 ,  C23C14/044 ,  C23C16/45565

Abstract: 提供了一种沉积装置(1)，用于在衬底(ST)的衬底表面(ST1)上沉积物质(SB)。该沉积装置包括沉积源(20)和布置在沉积源(20)与沉积表面之间的沉积掩模(30)。沉积掩模(30)具有面向沉积源的第一掩模表面(38)和面向衬底表面(ST1)的第二掩模表面(39)。沉积掩模(30)设置有由至少一个封闭区域(34)和至少一个穿孔区域(36)限定的空间图案，该至少一个穿孔区域由多个通孔(37)限定，并且其中设置了衬底载体(10)，从而以使衬底的衬底表面(ST1)与第二掩模表面(39)相距一距离(D)的方式承载衬底。

公开(公告)号：CN109082629A

公开(公告)日：2018-12-25

申请号：CN201810613107.1

申请日：2018-06-14

Applicant: 株式会社爱发科

Inventor： 松崎淳介 ,  高桥明久

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32 ,  C23C14/34 ,  C23C14/56 ,  H01L31/18 ,  H01L31/072

CPC classification number: Y02E10/50 ,  Y02P70/521 ,  C23C14/568 ,  C23C14/042 ,  C23C14/08 ,  C23C14/32 ,  C23C14/34 ,  H01L31/072 ,  H01L31/1876

Abstract: 提供一种在使用多个基板保持器的穿过型的成膜装置中、能够在基板的两面上效率良好地形成优质的透明导电氧化物层、并且能够实现装置的小型化及结构的简洁化的异质结型太阳能电池的制造技术。在形成单一的真空环境的真空槽内，设置有第1成膜区域和第2成膜区域，所述第1成膜区域具有溅镀机构，其在被保持在基板保持器上的基板的第1面上进行第1透明导电氧化物层的成膜，所述第2成膜区域具有反应性等离子蒸镀机构，其在被保持在基板保持器上的基板的第2面上进行第2透明导电氧化物层的成膜。将多个基板保持器沿着相对于竖直面的投影形状被形成为连续的环状的输送路径输送，使其穿过第1及第2成膜区域，在基板的两面上形成透明导电氧化物层。

公开(公告)号：CN108950486A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201810879342.3

申请日：2018-08-03

Applicant: 台州市皓仔邦工业设计有限公司

Inventor： 姜丽

IPC: C23C14/28 ,  C23C14/54 ,  C23C14/04 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/28 ,  C23C14/042 ,  C23C14/541 ,  C23C14/545 ,  C23C14/56

Abstract: 一种智能沉积系统，包括控制组件、扫描模组、激光源、一驱动机构、至少两个第一反射镜、真空室、至少两个用于固定不同的源材料靶材的第一固定平台以及用于沉积复合材料的基片；所述第一固定平台以及基片均设置于所述真空室内，所述至少两个第一固定平台分别与所述基片的预设区域相对，所述真空室设置有通光部，所述激光源与所述第一反射镜的出光方向呈预设夹角；所述驱动机构与所述激光源连接以驱动所述激光源移动，使得所述激光源发出的激光选择性地射入至所述至少两个第一反射镜中的一个第一反射镜，所述第一反射镜用于将激光通过所述通光部射入所述真空室中的对应所述第一固定平台处。

公开(公告)号：CN105331928B

公开(公告)日：2018-11-16

申请号：CN201510639768.8

申请日：2013-01-11

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 广部吉纪 ,  松元丰 ,  牛草昌人 ,  武田利彦 ,  西村佑行 ,  小幡胜也 ,  竹腰敬

IPC: C23C14/04 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

CPC classification number: B05B12/20 ,  B05B12/22 ,  B05C21/005 ,  B32B37/182 ,  B32B38/0008 ,  B32B2310/0843 ,  B32B2311/00 ,  B32B2398/00 ,  C23C14/042 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/5012 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明是一种蒸镀掩模、蒸镀掩模装置的制造方法及有机半导体元件的制造方法，其课题为提供即使作为大型化也可同时满足高精细化与轻量化的蒸镀掩模、可将此蒸镀掩模高精度地调整位置于框体的蒸镀掩模装置的制造方法及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。层积而构成设置有缝隙的金属掩模和树脂掩模，所述树脂掩模位于所述金属掩模表面，并且纵横配置有两列以上与蒸镀制作的图案相对应的开口部。

公开(公告)号：CN108796434A

公开(公告)日：2018-11-13

申请号：CN201810521952.6

申请日：2018-05-28

Applicant: 京东方科技集团股份有限公司

Inventor： 张粲 ,  王灿

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24

Abstract: 本发明提供了一种掩模版及制备方法，掩模版，包括本体以及形成于本体上的掩模图形，本体采用硅基制备，还包括形成于本体上的多个支撑结构，多个支撑结构均匀布置在本体上、且位于掩模图形所围成的区域内，用于支撑本体及掩模图形，在上述掩模版中，通过在硅基制成的掩模版中增加支撑结构支撑本体及掩模图形，以增加硅基掩膜版的机械强度，使得硅基掩膜版在工作时的可靠性较好，多个支撑结构均匀布置且位于掩模图形所围成的区域内能够保证其对掩膜版的支撑力沿本体的延伸面分布均匀，进而保证掩膜版整体受力均匀，避免掩膜版某一位置因受力过大而破碎以及因受力不均而下垂的现象，进而保证掩膜版的可靠性较好。

公开(公告)号：CN108738330A

公开(公告)日：2018-11-02

申请号：CN201780006027.3

申请日：2017-02-24

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 马蒂亚斯·海曼斯 ,  斯特凡·班格特 ,  奥利弗·海梅尔 ,  安德烈亚斯·索尔 ,  塞巴斯蒂安·巩特尔·臧

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/56

CPC classification number: C23C14/042 ,  C23C14/56 ,  H01L21/67709 ,  H01L21/67712 ,  H01L21/6776 ,  H01L21/682

Abstract: 本公开内容提供一种用于基板(10)的真空处理的设备(200)。设备(200)包括真空腔室、输送基板载具(120)的第一轨道布置(110)、输送掩模载具(140)的第二轨道布置(130)以及将基板载具(120)和掩模载具(140)相对于彼此定位的保持布置。第一轨道布置(110)包括经配置以在基板(10)的第一端(12)支撑基板载具(120)的第一部分和经配置以在与基板(10)的第一端(12)相对的基板(10)的第二端(14)支撑基板载具(120)的第二部分。第二轨道布置(120)包括经配置以在掩模(20)的第一端(22)支撑掩模载具(140)的另外第一部分和经配置以在与掩模(20)的第一端(22)相对的掩模(20)的第二端(24)支撑掩模载具(140)的另外第二部分。第一轨道布置(110)的第一部分和第二部分之间的第一距离(D)与第二轨道布置(130)的另外第一部分和另外第二部分之间的第二距离(D’)实质上相同。