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公开(公告)号：CN117255927A
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202280031208.2
申请日：2022-04-21
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: F28D15/04
Abstract: 蒸发室(1)用的芯部片材(30)具备第1主体面(31a)、第2主体面(31b)、框体部(32)和多个岛部(33)。在芯部片材(30)形成有贯通第1主体面(31a)和第2主体面(31b)并供工作流体的蒸汽(2a)通过的蒸汽通路(51)，在岛部(33)的第2主体面(31b)侧形成有与蒸汽通路(51)连通并供液状的工作流体(2b)通过的液体流路部(60)。蒸汽通路(51B)的延伸方向端部与至少一个岛部(33A)相接，在岛部(33A)的第1主体面(31a)侧且与蒸汽通路(51B)的延伸方向端部相接的连接区域(MR)形成有与蒸汽通路(51B)连通的第1主体面侧流路(70)。
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公开(公告)号：CN116964401A
公开(公告)日：2023-10-27
申请号：CN202280019804.9
申请日：2022-03-09
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: F28D15/04
Abstract: 蒸发室(1)用的芯部片材(30)具备：第1主体面(31a)；第2主体面(31b)，其位于与第1主体面(31a)相反的一侧；框体部(32)；以及多个岛部(33)，它们在框体部(32)内相互分离地设置。在多个岛部(33)彼此之间形成有供工作流体的蒸气(2a)通过的蒸气通路(51)，在至少一个岛部(33)的第2主体面(31b)侧形成有与蒸气通路(51)连通而供液态的工作流体(2b)通过的液体流路部(60)。芯部片材(30)设置有将岛部(33)与框体部(32)连结或者将岛部(33)彼此连结的桥(41)，桥(41)从第1主体面(31a)侧和第2主体面(31b)侧中的至少一侧被薄壁化。
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公开(公告)号：CN111386436B
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN201880076012.9
申请日：2018-09-28
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明的蒸发室的液体流路部具有多个主流槽，所述多个主流槽分别在第1方向上延伸，供液态的工作液通。在彼此相邻的一对主流槽之间设置有凸部列，所述凸部列包含在第1方向上隔着连接槽排列的多个液体流路凸部。连接槽将对应的一对主流槽连通。连接槽的宽度大于主流槽的宽度。
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公开(公告)号：CN109913802B
公开(公告)日：2021-12-21
申请号：CN201910052563.8
申请日：2014-03-24
Applicant: 大日本印刷株式会社
IPC: C23C14/04 , C23C14/12 , C23C14/24 , H01L21/673 , H01L51/50
Abstract: 本发明提供一种即使在大型化的情况下，也能够同时满足高精细化和轻质化二者，且可以在保持强度的同时形成高精细的蒸镀图案的蒸镀掩模；及可简便制造该蒸镀掩模的蒸镀掩模准备体或蒸镀掩模的制造方法；以及可制造高精细的有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法。将设有缝隙(15)的金属掩模(10)、和在与缝隙(15)重合的位置设有与要蒸镀制作的图案相对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层，金属掩模(10)具有设有缝隙(15)的一般区域(10a)、和壁厚厚于该一般区域的厚壁区域(10b)。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110724904B
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN201910982133.6
申请日：2015-03-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供能够以简单的方法将蒸镀掩模拉伸的蒸镀掩模的拉伸方法、使用该拉伸方法的带框架的蒸镀掩模的制造方法、以及能够以高精度制造有机半导体元件的有机半导体元件的制造方法及用于所述方法的拉伸装置。在蒸镀掩模(100)的拉伸方法中，在蒸镀掩模(100)的一面上重叠拉伸辅助部件(50)，在蒸镀掩模(100)的一面和拉伸辅助部件(50)重合的部分的至少一部，将拉伸辅助部件固定在蒸镀掩模上，通过拉伸被固定在蒸镀掩模(100)上的拉伸辅助部件(50)对固定于该拉伸辅助部件(50)上的蒸镀掩模进行拉伸，由此解决上述课题。
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公开(公告)号：CN110331365B
公开(公告)日：2021-10-01
申请号：CN201910716986.5
申请日：2015-05-29
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供可以在满足高精细化和轻量化二者的同时，还能够正确地对形成于树脂掩模开口部的形状图案是否正常进行确认的蒸镀掩模、用于得到该蒸镀掩模的蒸镀掩模前体、以及具备该蒸镀掩模的带框架的蒸镀掩模，还提供使用了该带框架的蒸镀掩模的有机半导体元件的制造方法。蒸镀掩模(100)是将形成有缝隙(15)的金属掩模(10)和在与该缝隙重合的位置形成有与蒸镀制作的图案对应的开口部(25)的树脂掩模(20)叠层而成的，并且使用波长550nm的光线透射率为40％以下的树脂掩模，由此解决上述课题。
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公开(公告)号：CN112902717A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110214684.5
申请日：2019-05-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 本发明提供蒸发室用片、蒸发室和电子设备。一种蒸发室，其形成有密闭的空间，在该空间中封入有工作流体，其中，在密闭空间中具备：多个冷凝液流路，它们供工作流体冷凝而成的液体流动；和蒸气流路，其供工作流体气化而成的蒸气流动，设置于蒸气流路的伸出部的伸出量在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将蒸气流路和冷凝液流路连通的开口部的间距在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将流路隔开的壁部与规定的流路的横截面具有规定的关系。
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公开(公告)号：CN112166294A
公开(公告)日：2021-01-01
申请号：CN201980032165.8
申请日：2019-05-30
Applicant: 大日本印刷株式会社
Abstract: 一种蒸发室，其形成有密闭的空间，在该空间中封入有工作流体，其中，在密闭空间中具备：多个冷凝液流路，它们供工作流体冷凝而成的液体流动；和蒸气流路，其供工作流体气化而成的蒸气流动，设置于蒸气流路的伸出部的伸出量在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将蒸气流路和冷凝液流路连通的开口部的间距在蒸气流路所延伸的方向上不同，或者，将流路隔开的壁部与规定的流路的横截面具有规定的关系。
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