一种连续镀膜设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN108950512A

    公开(公告)日:2018-12-07

    申请号:CN201811114953.5

    申请日:2018-09-25

    IPC分类号: C23C14/56 C23C14/35 H01F41/18

    摘要: 本发明公开了一种连续镀膜设备,包括进料仓、过渡仓和至少一条镀膜室,镀膜室连接于进料仓和过渡仓之间,镀膜室内设置靶材、溅射电源和传送机构,进料仓内设置有第一基片架,过渡仓内设有第二基片架和翻转机构,第一基片架和第二基片架分别用于放置钕铁硼磁片,翻转机构为三轴翻转机械手,翻转机构包括翻转机械手X轴链、翻转机械手Y轴链、翻转机械手Z轴链、翻转机械手运行轨道、旋转臂、夹紧气缸和翻转驱动机构,旋转臂设置于翻转机械手Z轴链的输出端,夹紧气缸设置于旋转臂上,翻转机构用以将第一基片架上的钕铁硼磁片翻转至第二基片架上。本发明具有自动化程度高、钕铁硼磁片不易氧化、工作效率高的特点。

    具有相邻溅射阴极的装置及其操作方法

    公开(公告)号:CN105026611B

    公开(公告)日:2018-11-27

    申请号:CN201380073537.4

    申请日:2013-02-25

    摘要: 描述一种用于在载体内提供的非柔性基板或基板上沉积层堆叠的装置。所述装置包括:真空腔室;运输系统,其中所述运输系统和所述真空腔室被配置用于内联沉积;第一支撑件,所述第一支撑件用于可围绕所述真空腔室内的第一旋转轴线旋转的第一旋转溅射阴极,其中提供用于沉积第一材料的第一沉积区;第二支撑件,所述第二支撑件用于可围绕所述真空腔室内的第二旋转轴线旋转的第二旋转溅射阴极,其中提供用于沉积第二材料的第二沉积区,其中所述第一旋转轴线和所述第二旋转轴线的彼此相距距离为700mm或更小;以及分离器结构,所述分离器结构介于所述第一旋转轴线与所述第二旋转轴线之间,适于接收朝向所述第二沉积区溅射的所述第一材料以及朝向所述第一沉积区溅射的所述第二材料,其中装置被配置成用来沉积包括所述第一材料的层以及所述第二材料的后续层的所述层堆叠。

    全自动镀膜机
    4.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107841726A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201711394591.5

    申请日:2017-12-21

    发明人: 施栓林

    IPC分类号: C23C14/56 C23C14/35

    CPC分类号: C23C14/568 C23C14/35

    摘要: 本发明公开了一种全自动镀膜机,包括上片设备(7)、回传装置(17)和下片设备(18),所述上片设备(7)与镀膜设备(3)的进口端连接,所述下片设备(18)与所述镀膜设备(3)的出口端连接,传送带(4)贯穿于所述镀膜设备(3),且其两端分别伸入所述上片设备(7)和所述下片设备(18)内,所述回传装置(17)设于所述镀膜设备(3)的下方,其两端分别位于所述上片设备(7)和所述下片设备(18)内。本发明能够实现自动上片、自动卸片和基板架自动回传的功能,实现全自动化生产,且可以有效利用现有空间,有效解决已投产镀膜设备的改造问题。

    一种新型镀膜设备
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107841721A

    公开(公告)日:2018-03-27

    申请号:CN201711403120.6

    申请日:2017-12-22

    发明人: 李峰

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56 C23C14/50

    摘要: 本发明公开了一种新型镀膜设备,包括底板,底板的顶面均匀固定有多个支撑柱体,支撑柱体的顶面固定有真空室,真空室的顶面对称固定有支撑板,支撑板的顶面固定有顶板,顶板的底面中部有电机,真空室的底面中部有T形盲孔A,T形盲孔A内旋转连接有圆形板块C,电机的驱动端固定连接有连杆,连杆的底端伸入真空室与圆形板块C相固定,连杆的外部套有滑动环形板,顶板的底面有千斤顶。本发明设计有相互啮合的齿轮和齿条,根据需要调整基片的镀膜面,便于溅射镀膜,并且仅需一次将真空室抽气为真空即可完成基片的多层镀膜,降低了成本的同时提高了镀膜质量,而且一次可以加工完成多个基片的镀膜,速度快,提高了生产效率,非常的实用、可靠。

    一种连续式磁控溅射装置及连续式磁控溅射的方法

    公开(公告)号:CN107779835A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201711267226.8

    申请日:2017-12-05

    发明人: 毛华云 梁礼渭

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/56

    CPC分类号: C23C14/35 C23C14/568

    摘要: 本发明提供了一种连续式磁控溅射装置,包括含有真空腔室、磁控溅射腔室和冷却腔室的磁控溅射炉;所述真空腔室设置在所述磁控溅射腔室的一侧,所述真空腔室和磁控溅射腔室之间用第一可活动装置隔开;所述冷却腔室设置在所述磁控溅射腔室的另一侧,所述冷却腔室和磁控溅射腔室之间用第二可活动装置隔开;所述真空腔室设置于所述磁控溅射炉的入口处,所述冷却腔室设置于述磁控溅射炉的出口处。本发明提供了一种连续式磁控溅射装置,具有连续的三个腔室,按工作顺序分别为真空腔室、磁控溅射腔室、冷却腔室。三个腔室之间以可活动装置隔开,各自工作,互不干扰,从而实现了生产连续性,减少抽真空和冷却的等待时间,提高生产效率。

    传送装置
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107488835A

    公开(公告)日:2017-12-19

    申请号:CN201710442073.X

    申请日:2017-06-13

    IPC分类号: C23C14/56

    CPC分类号: C23C14/568

    摘要: 本发明提供一种能够在真空气氛的腔室内可靠地边冷却边运送被传送物的具有结构简单的冷却结构的传送装置。具有卷绕在至少两个辊(20、30)上、外表面上载置有基板(S)并环绕行进的传送带(10)。以位于各辊间彼此逆向行进的传送带的部分中载置有被传送物的一侧的部分为上带部(Uv),另一侧的部分为下带部(Dv),以上带部和下带部相对的方向为上下方向,在上带部的下表面和下带部的上下表面中的至少一面上,在上下方向隔规定间隔相向配置长度大于等于传送带的宽度的冷却面板(40)。还具有对冷却面板进行冷却的冷却装置(5),以及向由冷却面板和传送带所限定的空间(60)中提供惰性气体的气体供给装置(70)。

    用于制备燃料电池金属双极板非晶碳膜磁控溅射连续线

    公开(公告)号:CN107058947A

    公开(公告)日:2017-08-18

    申请号:CN201610984083.1

    申请日:2016-11-09

    摘要: 本发明涉及一种用于制备燃料电池金属双极板非晶碳膜磁控溅射连续线,包括:多腔室系统:包括依次串联并组成整体的四个腔室:清洗加热腔室、第一镀膜腔室、第二镀膜腔室和后续处理腔室,各个腔室之间相互贯通;工件架:包括至少一个用于固定安置待处理金属双极板的金属双极板挂具;传送系统:包括用于将所述工件架依次送入/送出所述腔室的传送机构;抽气系统:包括独立设置在各个腔室的抽气机构,用于控制各个腔室的真空度;可开闭的隔离阀系统:设置在每相邻的两个腔室之间的过渡部分,并与所述腔室密封配合。与现有技术相比,本发明制备金属双极板非晶碳膜生产效率高、薄膜质量好、成本低,对加快燃料电池产业化发展具有重要意义。