制造半导体器件的方法
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN105938790B

    公开(公告)日:2021-01-01

    申请号:CN201610124771.0

    申请日:2016-03-04

    Abstract: 本发明提供一种制造半导体器件的方法,包括以下步骤:在印刷布线衬底之上安装Si内插器,等离子体清洗Si内插器的上表面,在Si内插器的上表面之上布置NCF,和通过NCF在Si内插器的上表面之上安装半导体芯片。另外,该方法包括通过多个凸起电极用回流焊将第二衬底的多个电极中的每个电极和半导体芯片的多个电极垫中的每个电极垫相互电耦合的步骤,和在将NCF附着到Si内插器之前等离子体清洗Si内插器的表面的步骤。

    半导体器件
    4.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104241235B

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201410253650.7

    申请日:2014-06-09

    Abstract: 一种半导体芯片和插线板通过导体柱彼此耦合。位于最外围开口之上的导体柱的中心在远离半导体芯片的中心的方向上偏离开口的中心。当将其中每个导体柱和绝缘层彼此重叠的区域指定为重叠区域时,重叠区域的比开口在更内侧上的宽度小于重叠区域的比开口在更外侧上的宽度。因此,当作用在导体柱上的应力被释放时,保持了半导体芯片和接线板之间的耦合可靠性。

    制造半导体器件的方法
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105938790A

    公开(公告)日:2016-09-14

    申请号:CN201610124771.0

    申请日:2016-03-04

    Abstract: 本发明提供一种制造半导体器件的方法,包括以下步骤:在印刷布线衬底之上安装Si内插器,等离子体清洗Si内插器的上表面,在Si内插器的上表面之上布置NCF,和通过NCF在Si内插器的上表面之上安装半导体芯片。另外,该方法包括通过多个凸起电极用回流焊将第二衬底的多个电极中的每个电极和半导体芯片的多个电极垫中的每个电极垫相互电耦合的步骤,和在将NCF附着到Si内插器之前等离子体清洗Si内插器的表面的步骤。

    半导体装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106663660B

    公开(公告)日:2019-11-05

    申请号:CN201480081265.7

    申请日:2014-12-24

    Abstract: 半导体装置包括搭载在搭载于配线基板的中介部上且经由中介部而彼此电连接的第一及第二半导体部件。并且,中介部的多个配线层具有从作为基准的主面侧依次层叠的第一配线层、第二配线层及第三配线层。并且,在中介部的夹在第一半导体部件和第二半导体部件之间的第一区域中,第三配线层中的基准电位用配线的比例比第一配线层中的基准电位用配线的比例大。并且,在第一区域中,第一配线层中的信号用配线的比例比第三配线层中的信号用配线的比例大。

    半导体装置
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106663660A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201480081265.7

    申请日:2014-12-24

    Abstract: 半导体装置包括搭载在搭载于配线基板的中介部上且经由中介部而彼此电连接的第一及第二半导体部件。并且,中介部的多个配线层具有从作为基准的主面侧依次层叠的第一配线层、第二配线层及第三配线层。并且,在中介部的夹在第一半导体部件和第二半导体部件之间的第一区域中,第三配线层中的基准电位用配线的比例比第一配线层中的基准电位用配线的比例大。并且,在第一区域中,第一配线层中的信号用配线的比例比第三配线层中的信号用配线的比例大。

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