公开(公告)号：CN108474732A

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201780006021.6

申请日：2017-01-04

申请人： 阿科玛股份有限公司

发明人： G·E·莫伊勒 ,  R·Y·科罗特科夫 ,  R·C·史密斯

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01B11/28 ,  G01N21/84

CPC分类号： G01N21/8422 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0691 ,  G01N21/9054 ,  G01N2021/8427

摘要： 本申请提供了测量移动物体上涂层厚度的方法和装置。在物体上预定位置处将光引导到物体，使得一部分光与物体相互作用。拍摄至少一个波长通道的ID和/或2D最大强度，其由与物体相互作用的那部分光产生。将测得的该波长通道的平均强度和/或多个波长通道几何特征的强度及其算术衍生结果转化为ID(平均)和/或2D厚度值。基于这些值评估涂层的可接受度并计算厚度。

公开(公告)号：CN108431294A

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201680071483.1

申请日：2016-12-12

申请人： 应用材料公司

发明人： 迪特尔·哈斯 ,  斯蒂芬·班格特 ,  乔斯·曼纽尔·迭格斯-坎波 ,  佩曼·哈米吉尔 ,  克里斯托弗·于尔根·汉森

IPC分类号： C23C14/54 ,  G01B11/06

CPC分类号： C23C14/54 ,  C23C14/547 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0683

摘要： 本公开内容提供一种用于在基板(10)上沉积材料的设备(100)。设备(100)包括真空腔室(110)；至少一个沉积源(120)，位于真空腔室(110)中；塑形装置(130)，位于所述至少一个沉积源(120)处，其中塑形装置(130)经构造以阻挡至少一部分从所述至少一个沉积源(120)发射的材料；和摄影机装置(140)，位于真空腔室(110)中，其中摄影机装置(140)经构造以监视塑形装置(130)上的材料累积。

公开(公告)号：CN108204788A

公开(公告)日：2018-06-26

申请号：CN201711363844.2

申请日：2017-12-18

申请人： 大塚电子株式会社

发明人： 冈本宗大 ,  佐佐木勇贵 ,  罗先钦

IPC分类号： G01B11/06 ,  G01M11/02

CPC分类号： G01B11/0625 ,  G01J3/0248 ,  G01J3/0278 ,  G01J3/28 ,  G01J3/2803 ,  G01N21/255 ,  G01N21/8422 ,  G01N2021/6417 ,  G01B11/06 ,  G01M11/00

摘要： 本发明使基于来自样本的光的样本的光学特性的测定容易进行。光学特性测定装置(1、1A)具备光学系统(12)、检测部(13)以及解析部(14)。光学系统对从样本(2)射入的检测光进行聚光。检测部对在样本与光学系统之间的光学距离相互不同的状态下经由光学系统射入的样本的检测光进行多次分光，生成表示各检测光的光谱的多个检测数据(D1)。解析部解析检测数据所示的光谱，测定样本的规定的光学特性。解析部基于多个检测数据中的检测光的大小，确定用于光学特性的测定的检测数据，基于所确定的检测数据，测定光学特性(S6、S6A)。

公开(公告)号：CN104854257B

公开(公告)日：2018-04-13

申请号：CN201380056991.9

申请日：2013-10-31

申请人： SIO2医药产品公司

发明人： T·E·菲斯克

IPC分类号： C23C16/04 ,  C23C16/52 ,  G01B11/06

CPC分类号： G01N21/9072 ,  C23C16/04 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  G01B11/0625 ,  G01N21/9081

摘要： 披露了一种用于检测化学气相沉积(CVD)涂层中的间断部的反射测量方法和其他方法。该方法包括几个步骤。一个热塑性容器壁(710)设置为具有一个外表面、一个内表面、以及在该内表面和该外表面中的至少一个上的一个CVD涂层。该容器壁和该CVD涂层具有不同的折射率。电磁能量(718)在有效引起能量从该CVD涂层的多个位置反射的条件下撞击到该CVD涂层的多个位置上。对该反射能量进行分析以确定该反射能量是否包括该CVD涂层中的一个间断部的至少一个伪影。

公开(公告)号：CN107532883A

公开(公告)日：2018-01-02

申请号：CN201680024669.1

申请日：2016-02-26

申请人： 斯考拉股份公司

发明人： H·斯考拉

IPC分类号： G01B11/06 ,  G01B11/08

CPC分类号： G01B11/0625 ,  G01J5/10 ,  G01N21/3581

摘要： 本发明涉及一种用于测量条状体的直径和/或壁厚的设备，所述条状体在横截面中基本上是圆形的并借助导向机构沿其纵轴线的方向被引导通过所述设备，所述设备包括至少一个用于发射太赫兹辐射的发射器，设有至少一个辐射光学器件，该辐射光学器件将由发射器发射的太赫兹辐射引导到被引导通过所述设备的条状体上，与至少一个发射器相对置地沿由至少一个发射器发射的太赫兹辐射的发射方向在条状体后面设置用于太赫兹辐射的反射器，所述设备还包括至少一个接收器，该接收器用于接收由所述至少一个发射器发射的并且在条状体上和/或反射器上反射的太赫兹辐射，并且所述设备还包括评价装置，所述评价装置设置成，借助由所述至少一个接收器接收的测量信号确定条状体的直径和/或壁厚。此外，本发明还涉及一种相应的方法。

公开(公告)号：CN107504909A

公开(公告)日：2017-12-22

申请号：CN201710704895.0

申请日：2017-08-17

申请人： 中国计量大学

发明人： 郑永军 ,  黄强 ,  顾海洋 ,  柳滨 ,  罗哉

IPC分类号： G01B11/06

CPC分类号： G01B11/0625

摘要： 本发明公开了基于贝叶斯正则化算法的白光反射率测量薄膜厚度自适应方法。该方法将使用贝叶斯正则化算法的BP神经网络对动态测量中被噪声污染的信号进行学习拟合，得到拟合后的WLRS曲线，通过获取拟合后的WLRS曲线的特征值对待测薄膜的厚度进行快速准确地测量，通过实际测量证明该方法具有较强的抗干扰能力和一定的适应性。

公开(公告)号：CN104807496B

公开(公告)日：2017-10-10

申请号：CN201510039912.4

申请日：2015-01-27

申请人： ABB 技术有限公司

发明人： J.L.M.范梅彻伦 ,  H.梅博德

IPC分类号： G01D21/02

CPC分类号： G01J5/10 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/0683 ,  G01J5/58 ,  G01N21/3563

摘要： 本发明题为用于表征被涂覆主体的传感器系统和方法。提供一种通过基于与物理模型的拟合的至少一个涂敷参数来表征被涂覆主体的方法。该方法由传感器系统按照非接触方式来执行，传感器系统包括：发射器系统，用于发射THz辐射；检测器系统，用于检测THz辐射；以及处理单元，操作上耦合到发射器系统和检测器系统。该方法包括：由发射器系统将THz辐射信号发射到被涂覆主体；由检测器系统检测作为与聚合涂敷相互作用的所检测THz辐射信号的响应信号；通过优化模型参数来确定物理模型的模型参数；从所确定模型参数来确定至少一个涂敷参数，其中至少一个涂敷参数包括聚合涂敷的厚度。

公开(公告)号：CN107036539A

公开(公告)日：2017-08-11

申请号：CN201710447669.9

申请日：2017-06-14

申请人： 苏州翌流明光电科技有限公司

发明人： 陈鲁

IPC分类号： G01B11/06

CPC分类号： G01B11/0625

摘要： 本发明公开了一种测量系统，其包括：透镜组件，其被配置为接收来自被测样品的反射光，并将反射光至少分为第一反射光和第二反射光；成像单元，其被配置为接收第一反射光，以获取被测样品表面的成像数据，成像数据包括被测孔在被测样品的至少一个检测区域中的分布信息；膜厚测量单元，其被配置为接收第二反射光，以获取被测孔的孔底膜厚的数据；以及处理单元，其与成像单元、膜厚测量单元通信连接，并且被配置为基于分布信息来确定被测孔的检测路径，并基于孔的检测路径来使得膜厚测量单元获得每个被测孔的孔底膜厚的数据，进而实现对至少一个检测区域中的被测孔的测量。

公开(公告)号：CN106091954A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610664021.2

申请日：2016-08-12

申请人： 中国科学院上海光学精密机械研究所

发明人： 曾爱军 ,  谷利元 ,  胡国行 ,  黄惠杰 ,  贺洪波

IPC分类号： G01B11/06 ,  B82Y35/00 ,  B82Y40/00

CPC分类号： G01B11/0625 ,  B82Y35/00 ,  B82Y40/00

摘要： 本发明公开一种利用介质薄膜控制Otto结构中空气隙厚度的方法，当光强反射率R取得最小值时，此时对应的空气隙厚度d1即为需要镀制的介质薄膜的厚度；采用物理沉积法或化学沉积法在棱镜底面镀制介质薄膜；介质薄膜镀制完成后，采用精密测量仪器测量得出的所镀介质膜层的厚度，即为实际控制的纳米尺度空气隙的厚度。本发明解决了用来产生表面等离子体共振效应的Otto结构中纳米尺度空气间隙厚度难于精确控制的问题。

公开(公告)号：CN106091952A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610375187.2

申请日：2016-05-31

申请人： 中国电子科技集团公司第十三研究所

发明人： 李锁印 ,  韩志国 ,  冯亚南 ,  梁法国 ,  赵琳 ,  许晓青 ,  吴爱华

IPC分类号： G01B11/06

CPC分类号： G01B11/0625

摘要： 本发明公开了一种光谱型椭偏仪椭偏角的校准方法，包括如下步骤：第一步，确定膜厚标准样片的材料；第二步，确定膜厚标准样片的薄膜厚度，使得在所述薄膜厚度下得到的椭偏角能够覆盖所需校准的光谱型椭偏仪椭偏角的范围；第三步，制作膜厚标准样片；第四步，使用多台标准光谱型椭偏仪进行比对测量，确定膜厚标准样片的椭偏角的标准值，即为定标；第五步，使用膜厚标准样片对所需校准的光谱型椭偏仪的椭偏角进行校准，椭偏角的测量误差由所需校准的光谱型椭偏仪的椭偏角测量值与椭偏角的标准值相比较确定。本发明能根据需要全面覆盖光谱型椭偏仪椭偏角的测量范围，校准准确可靠。