半导体发光装置及光耦合装置

    公开(公告)号:CN115084326B

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202110965770.X

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 实施方式涉及半导体发光装置及光耦合装置。实施方式的半导体发光装置具备基板、第1导电型的第1半导体层、活性层和第2导电型的第2半导体层。上述基板具有第1能带隙。上述第1半导体层设在上述基板上,具有比上述第1能带隙宽的第2能带隙。上述活性层设在上述第1半导体层上,包括具有比上述第1及第2能带隙窄的第3能带隙的量子阱层和设在上述第1半导体层与上述量子阱层之间的第1势垒层。上述第2半导体层设在上述活性层上。上述基板的折射率比上述第1半导体层的折射率大,上述第1半导体层的折射率与上述第1势垒层的折射率相同或比上述第1势垒层的折射率大。

    半导体发光装置及光耦合装置

    公开(公告)号:CN115084326A

    公开(公告)日:2022-09-20

    申请号:CN202110965770.X

    申请日:2021-08-23

    Abstract: 实施方式涉及半导体发光装置及光耦合装置。实施方式的半导体发光装置具备基板、第1导电型的第1半导体层、活性层和第2导电型的第2半导体层。上述基板具有第1能带隙。上述第1半导体层设在上述基板上,具有比上述第1能带隙宽的第2能带隙。上述活性层设在上述第1半导体层上,包括具有比上述第1及第2能带隙窄的第3能带隙的量子阱层和设在上述第1半导体层与上述量子阱层之间的第1势垒层。上述第2半导体层设在上述活性层上。上述基板的折射率比上述第1半导体层的折射率大,上述第1半导体层的折射率与上述第1势垒层的折射率相同或比上述第1势垒层的折射率大。

    半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1467891A

    公开(公告)日:2004-01-14

    申请号:CN03140660.2

    申请日:2003-06-02

    CPC classification number: B82Y20/00 H01S5/22 H01S5/2214 H01S5/223 H01S5/34326

    Abstract: 一种半导体激光器包括:衬底;形成在衬底上的双异质结构,双异质结构包括形成在衬底上的第一覆盖层、形成在第一覆盖层上的有源层以及形成在有源层上的第二覆盖层,第二覆盖层的上表面上具有条形突起,突起具有侧壁基本上垂直地形成在衬底表面上的上部和线宽大于上部线宽的台阶形下部;以及除了突起的上表面,从突起的侧面延伸到第二覆盖层上表面形成的电流阻挡层。

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