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公开(公告)号：CN106133874A
公开(公告)日：2016-11-16
申请号：CN201580015754.7
申请日：2015-03-17
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/02
Abstract: 本文提供一种用以快速冷却基板的方法与装置。在一些实施方式中，冷却腔室包含：腔室本体，具有内部空间；基板支撑件，设置在空间中并具有基板支撑表面；板，相对基板支撑件而设置在腔室本体中且可相对基板支撑件在第一位置和第二位置间移动，其中第一位置将基板支撑件及板设置成彼此远离，以将支撑表面曝露至第一空间，且第二位置将基板支撑件及板设置成彼此邻近，以将支撑表面曝露至第二空间，第二空间小于第一空间；多个流动通道，设置在板或基板支撑件中的一或多个中，以使冷却剂流动；及气体入口，用以提供气体进入第二空间。
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公开(公告)号：CN103843128B
公开(公告)日：2017-11-21
申请号：CN201280047894.9
申请日：2012-09-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
CPC classification number: H02N13/00 , H01L21/6833
Abstract: 本文提供静电夹具的实施方式。在一些实施方式中，用于固定基板的静电夹具包括：底板；陶瓷板，陶瓷板由所述底板支撑，陶瓷板具有基板支撑表面；多个第一电极，所述多个第一电极设置于陶瓷板内，所述多个第一电极具有第一极性；以及多个第二电极，所述多个第二电极设置于陶瓷板内，所述多个第二电极具有与第一极性相反的第二极性，其中多个第一电极与多个第二电极是独立可控的以提供所期望的夹持功率与频率。
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公开(公告)号：CN106489194A
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201580036350.6
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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公开(公告)号：CN110062954B
公开(公告)日：2023-06-30
申请号：CN201780073548.0
申请日：2017-11-30
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/687 , H01L21/683
Abstract: 本揭示案的实施方式关于用于与腔室内加热器及基板旋转机构一起使用的处理配件。在与本揭示案一致的一些实施方式中，用于与可旋转基板支撑件加热器台座一起使用以用于在处理腔室中支撑基板的处理配件可包含：上方边缘环，所述上方边缘环包含顶部突出部和从所述顶部突出部向下延伸的裙部；下方边缘环，所述下方边缘环至少部分支撑所述上方边缘环且使所述上方边缘环与所述基板支撑件加热器台座对准；底板，所述底板设置于所述处理腔室的底部上，所述底板在所述基板支撑件加热器台座处于降低的非处理位置时支撑所述上方边缘环；以及遮蔽环，所述遮蔽环在所述基板支撑件加热器台座处于升高的处理位置时与所述上方边缘环耦接。
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公开(公告)号：CN109727900B
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN201811152281.7
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109727900A
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201811152281.7
申请日：2015-06-05
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/687
Abstract: 于此公开用于支撑基板的装置的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的装置包含：支撑构件；及多个基板接触元件，该多个基板接触元件由该支撑构件突出，其中该多个基板接触元件的每一个包含：第一接触表面，在基板放置于该第一接触表面上时支撑该基板；及第二接触表面，该第二接触表面由该第一接触表面延伸；其中该第二接触表面邻近该基板的周边以防止该基板的径向移动；其中该第一接触表面相关于该支撑构件处于第一角度，且该第二接触表面相关于该支撑构件处于第二角度；且其中该第一角度介于约3度与5度之间。
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公开(公告)号：CN103843129B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：CN201280049055.0
申请日：2012-09-28
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: F28F3/00 , B23Q3/15 , B23Q3/1543 , H01L21/67109 , H01L21/683 , H01L21/6831 , H02N13/00
Abstract: 在此提供一种装置的实施方式，所述装置用于控制处理腔室中的静电夹具的温度。在一些实施方式中，装置包含：静电夹具，所述静电夹具设置于处理腔室中，所述静电夹具包含陶瓷板，所述陶瓷板具有基板支撑表面；以及冷却组件，所述冷却组件包含多个冷却板，所述多个冷却板设置于所述静电夹具之下以调整所述静电夹具的冷却能力。在一些实施方式中，所述多个冷却板包含内冷却板与外冷却板，所述内冷却板配置成用以控制所述静电夹具的中心部分的温度，所述外冷却板配置成用以控制所述静电夹具的外部分的温度。在一些实施方式中，所述多个冷却板包含上冷却板与下冷却板，所述上冷却板接触所述静电夹具的底表面，所述下冷却板接触所述上冷却板的底表面。
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公开(公告)号：CN105723504A
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201480062960.9
申请日：2014-12-08
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683
CPC classification number: H01L21/68757 , B25J11/0095 , B25J15/0014 , H01L21/68707 , H01L21/6875
Abstract: 于此披露了用于支撑基板的设备的实施方式。在一些实施方式中，用于支撑基板的设备包括：支撑表面；和多个基板接触元件，所述多个基板接触元件从所述支撑表面突出，其中所述多个基板接触元件由一材料形成，所述材料具有小于或等于硅的硬度的硬度，具有低附着性，具有大到足以防止滑动的静磨擦系数，具有小于或等于10Ra的表面粗糙度，且为导电性的。
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公开(公告)号：CN105359265B
公开(公告)日：2018-12-14
申请号：CN201480038576.5
申请日：2014-07-22
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H02N13/00 , B23Q3/15
Abstract: 本文所述的实施方式一般涉及静电夹盘。ESC可包括：适于静电式耦接基板至ESC的第一多个电极，以及适于静电式耦接ESC至基板支座的第二多个电极。取代内部地设置于基板支座内，该ESC可简单地从基板支座移除并且从腔室移除，以用于维修或置换的目的。
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公开(公告)号：CN103081088B
公开(公告)日：2016-04-06
申请号：CN201180042581.X
申请日：2011-08-04
Applicant: 应用材料公司
IPC: H01L21/683 , H01L21/687 , B23Q3/15 , H02N13/00
CPC classification number: H01L21/67109 , H01L21/67103 , H01L21/6831
Abstract: 本发明提供了一种静电夹盘和使用所述静电夹盘的方法。在某些实施例中，静电夹盘可以包括盘，所述盘具有第一侧，所述第一侧用以将基板支撑在所述第一侧上，及第二侧，所述第二侧与所述第一侧相对，用以提供选择性地将所述盘耦接到热控板材的界面；第一电极，所述第一电极设置在所述盘内靠近所述第一侧处以将所述基板静电耦接到所述盘；第二电极，所述第二电极设置在所述盘内靠近所述盘的所述相对侧以将所述盘静电耦接到所述热控板材。在某些实施例中，第二电极也可以配置成加热所述盘。
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