用于支座组件的冲洗环
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN117881814A

    公开(公告)日:2024-04-12

    申请号:CN202280056554.6

    申请日:2022-08-16

    Abstract: 描述了支座组件、用于支座组件的冲洗环、及用于增加边缘冲洗气体在加热的支座组件中的停留时间的处理方法。冲洗环具有限定冲洗环的厚度的内直径面和外直径面、限定冲洗环的高度的顶部表面和底部表面、和热膨胀特征。冲洗环包括延伸穿过厚度并与基板支撑件中的多个在圆周上间隔的冲洗出口在圆周上对齐的多个孔隙。

    用于原子层沉积前驱物输送的喷头

    公开(公告)号:CN114981475B

    公开(公告)日:2025-03-14

    申请号:CN202080093407.7

    申请日:2020-12-17

    Abstract: 本文提供在处理腔室中使用的喷头的多个实施方式。在一些实施方式中,一种喷头,包括第一螺旋通道,从喷头的中心区域延伸至周围区域;第二螺旋通道,从喷头的中心区域延伸至周围区域,其中第二螺旋通道与第一螺旋通道交错且与第一螺旋通道流体独立;多个第一通道,从第一螺旋通道延伸至在喷头的下部表面上的多个第一气体分配孔,其中每个第一通道是以一个角度延伸的单一通道;和多个第二通道,从第二螺旋通道延伸至在喷头的下部表面上的多个第二气体分配孔,其中每个第二通道是以一个角度延伸的单一通道。

    用于加热器基座的平衡环组件

    公开(公告)号:CN110574149B

    公开(公告)日:2023-09-01

    申请号:CN201880028186.8

    申请日:2018-08-30

    Abstract: 本公开内容的实施方式涉及平衡环组件,该平衡环组件包括平衡环板、枢轴螺丝、一个或多个马达及多个整平指示器,该平衡环板具有中心开口,该枢轴螺丝设置在于该平衡环板中形成的枢轴座内,其中该枢轴螺丝包含球形枢轴头,该平衡环板绕该球形枢轴头枢转,所述一个或多个马达耦接到该平衡环板,所述一个或多个马达被构造成提供绕该球形枢轴头的原位平衡环板运动,该多个整平指示器被构造成确定该平衡环板的偏转。

    用于在真空下改变流导的阀
    9.
    发明公开

    公开(公告)号:CN116097028A

    公开(公告)日:2023-05-09

    申请号:CN202180052845.3

    申请日:2021-07-07

    Abstract: 本文描述的实施方式涉及一种用于半导体处理的阀。该阀包括阀体,该阀体具有由膜片体隔开的入口导管和出口导管。膜片体包括电机、联接至电机的传动联接件、围绕固定板并由动态密封件隔开的能旋转的环、以及通过相应的能枢转的紧固件可移动地联接至能旋转的环的一个或多个闸板,其中该能旋转的环联接至该传动联接件,其中该固定板包括开口并且所述一个或多个闸板相对于该开口是可移动的。

Patent Agency Ranking