公开(公告)号：CN111587481B

公开(公告)日：2024-12-06

申请号：CN201980008203.6

申请日：2019-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 穆罕纳德·穆斯塔法 ,  穆罕默德·M·拉希德 ,  雷雨 ,  阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ,  维卡什·班西埃 ,  维克多·H·卡尔德隆 ,  陶世伟 ,  李永新 ,  阿尼迪塔·森

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683

Abstract: 于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于基板支撑件的处理配件包含：上边缘环，所述上边缘环由石英制成且具有上表面及下表面，其中所述上表面实质为平面且所述下表面包含阶梯状下表面以界定所述上边缘环的径向最外部分及径向最内部分。

公开(公告)号：CN111587481A

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN201980008203.6

申请日：2019-01-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 穆罕纳德·穆斯塔法 ,  穆罕默德·M·拉希德 ,  雷雨 ,  阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ,  维卡什·班西埃 ,  维克多·H·卡尔德隆 ,  陶世伟 ,  李永新 ,  阿尼迪塔·森

IPC: H01L21/687 ,  H01L21/683

Abstract: 于此提供用于处理基板的方法及设备。在一些实施方式中，用于基板支撑件的处理配件包含：上边缘环，所述上边缘环由石英制成且具有上表面及下表面，其中所述上表面实质为平面且所述下表面包含阶梯状下表面以界定所述上边缘环的径向最外部分及径向最内部分。