公开(公告)号：CN114005827A

公开(公告)日：2022-02-01

申请号：CN202111249022.8

申请日：2016-03-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨

IPC: H01L27/092 ,  H01L21/8238 ,  H01L27/02 ,  H01L27/11 ,  H01L29/417

Abstract: 本发明提供了一种集成电路器件，该集成电路器件包括：衬底；第一鳍式有源区域和第二鳍式有源区域，它们在衬底上在第一方向上延伸；衬底上的第一栅线和第二栅线，它们在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第一接触结构和第二接触结构。第一栅线和第二栅线分别与第一鳍式有源区域和第二鳍式有源区域交叉。第一接触结构位于第一栅线一侧的第一鳍式有源区域上并且接触第一栅线。第二接触结构位于第二栅线一侧的第二鳍式有源区域上。第一接触结构包括包含金属硅化物的第一下接触部分以及第一下接触部分上的第一上接触部分。第二接触结构包括包含金属硅化物的第二下接触部分以及第二下接触部分上的第二上接触部分。

公开(公告)号：CN107134469B

公开(公告)日：2021-07-06

申请号：CN201710126385.X

申请日：2017-02-27

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  林完泰 ,  朴永洙 ,  金定燮 ,  李振燮 ,  H·柳 ,  卢慧锡

IPC: H01L27/15 ,  H01L33/60 ,  H01L33/48

Abstract: 本发明公开了一种发光二极管装置和发光设备。所述发光二极管装置构造为提供多颜色显示，该发光二极管装置包括至少部分地被划分层限定的多个发光单元。该发光二极管装置可构造为减小发光单元之间的光学干扰。该发光二极管装置包括：彼此间隔开的多个发光结构；位于发光结构各自的第一表面上的多个电极层；构造为将发光结构彼此电绝缘的分隔层；位于发光结构各自的第二表面上并且与不同颜色相关联的荧光体层；以及位于荧光体层之间以将荧光体层彼此分离的划分层。每个发光单元可包括单独的发光结构、单独一组一个或多个电极以及单独的荧光体层。

公开(公告)号：CN105679673B

公开(公告)日：2020-12-29

申请号：CN201510736185.7

申请日：2015-11-03

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  姜熙秀 ,  郑熙暾 ,  朴世玩

IPC: H01L21/336

Abstract: 提供一种半导体装置，所述半导体装置包括：第一多沟道有源图案；场绝缘层，设置在第一多沟道有源图案上并且包括第一区域和第二区域，第一区域具有从第二区域的顶表面向第一多沟道有源图案的顶表面突出的顶表面；第一栅电极，穿过第一多沟道有源图案，第一栅电极设置在场绝缘层上；第一源极或漏极，设置在第一栅电极和场绝缘层的第一区域之间，并且包括第一刻面，第一刻面被设置为在比第一多沟道有源图案的顶表面低的点处与场绝缘层的第一区域相邻。

公开(公告)号：CN107170741A

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：CN201710130993.8

申请日：2017-03-07

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  严命允 ,  车东镐 ,  刘庭均 ,  朴起宽

IPC: H01L27/088 ,  H01L21/8234

CPC classification number: H01L29/7854 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823807 ,  H01L21/823814 ,  H01L21/823821 ,  H01L21/823878 ,  H01L21/845 ,  H01L27/0886 ,  H01L27/0924 ,  H01L27/1211 ,  H01L29/0649 ,  H01L29/0847 ,  H01L29/16 ,  H01L29/1608 ,  H01L29/161 ,  H01L29/66818 ,  H01L29/7843 ,  H01L29/7846 ,  H01L21/823481

Abstract: 一种集成电路(IC)器件包括：彼此邻近的一对鳍形有源区，在其间有鳍分离区，所述一对鳍形有源区延伸成一行；以及在鳍分离区中的鳍分离绝缘结构，其中所述一对鳍形有源区包括第一鳍形有源区，第一鳍形有源区具有限定部分的鳍分离区的第一拐角，并且其中鳍分离绝缘结构包括：下绝缘图案，覆盖所述一对鳍形有源区的侧壁；以及上绝缘图案，在下绝缘图案上以覆盖第一拐角的至少部分，上绝缘图案具有在比所述一对鳍形有源区的每个的顶表面高的水平处的顶表面。

公开(公告)号：CN106024785A

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：CN201610177256.9

申请日：2016-03-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨

IPC: H01L27/092 ,  H01L21/8238 ,  H01L27/11 ,  H01L21/8244

CPC classification number: H01L27/0924 ,  H01L21/823821 ,  H01L21/823871 ,  H01L27/0207 ,  H01L27/1104 ,  H01L29/41791

Abstract: 本发明提供了一种集成电路器件，该集成电路器件包括：衬底；第一鳍式有源区域和第二鳍式有源区域，它们在衬底上在第一方向上延伸；衬底上的第一栅线和第二栅线，它们在与第一方向交叉的第二方向上延伸；以及第一接触结构和第二接触结构。第一栅线和第二栅线分别与第一鳍式有源区域和第二鳍式有源区域交叉。第一接触结构位于第一栅线一侧的第一鳍式有源区域上并且接触第一栅线。第二接触结构位于第二栅线一侧的第二鳍式有源区域上。第一接触结构包括包含金属硅化物的第一下接触部分以及第一下接触部分上的第一上接触部分。第二接触结构包括包含金属硅化物的第二下接触部分以及第二下接触部分上的第二上接触部分。

公开(公告)号：CN105914206A

公开(公告)日：2016-08-31

申请号：CN201610098348.8

申请日：2016-02-23

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  李润锡 ,  金炫助 ,  李化成 ,  郑熙暾 ,  朴世玩 ,  郑宝哲

IPC: H01L27/092 ,  H01L21/8238

CPC classification number: H01L21/823481 ,  H01L21/8232 ,  H01L21/823412 ,  H01L21/823431 ,  H01L21/823807 ,  H01L21/823821 ,  H01L21/823878 ,  H01L27/0886 ,  H01L27/0924 ,  H01L27/10879 ,  H01L29/0649 ,  H01L29/0843 ,  H01L29/1033 ,  H01L29/41791 ,  H01L29/785

Abstract: 本公开提供了集成电路器件及其制造方法。集成电路器件包括：具有不同导电类型的沟道区的第一和第二鳍型有源区；第一器件隔离层，覆盖第一鳍型有源区的两个侧壁；第二器件隔离层，覆盖第二鳍型有源区的两个侧壁。第一器件隔离层和第二器件隔离层具有不同的堆叠结构。为了制造该集成电路器件，覆盖第一鳍型有源区的两个侧壁的第一器件隔离层和覆盖第二鳍型有源区的两个侧壁的第二器件隔离层在形成第一鳍型有源区和第二鳍型有源区之后形成。第一器件隔离层和第二器件隔离层形成为具有不同的堆叠结构。

公开(公告)号：CN110364562B

公开(公告)日：2023-12-26

申请号：CN201910125807.0

申请日：2019-02-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  金一龙 ,  金柱然 ,  金辰昱 ,  吕京奂 ,  郑镛琦

IPC: H01L29/06 ,  H01L29/10 ,  H01L27/088

Abstract: 一种集成电路器件包括：多个鳍型有源区从其突出的基板，所述多个鳍型有源区在第一方向上彼此平行地延伸；以及多个栅极结构和多个鳍隔离绝缘部分，在交叉第一方向的第二方向上在基板上延伸并且在第一方向具有恒定的节距，其中所述多个鳍隔离绝缘部分当中的一对鳍隔离绝缘部分在所述多个栅极结构当中的一对栅极结构之间，所述多个鳍型有源区包括多个第一鳍型区和多个第二鳍型区。

公开(公告)号：CN106298776B

公开(公告)日：2022-01-11

申请号：CN201610371338.7

申请日：2016-05-30

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  金炫助 ,  朴性律 ,  朴世玩 ,  尹钟密 ,  李廷骁 ,  李化成 ,  郑熙暾 ,  河智龙

IPC: H01L27/088 ,  H01L29/78

Abstract: 本发明提供了一种半导体器件，该半导体器件包括：鳍式图案，其包括彼此相对的第一短边和第二短边；第一沟槽，其与第一短边接触；第二沟槽，其与第二短边接触；第一场绝缘膜，其在第一沟槽中，所述第一场绝缘膜包括从第一短边按次序排列的第一部分和第二部分，并且第一部分的高度与第二部分的高度不同；第二场绝缘膜，其在第二沟槽中；以及第一伪栅极，其位于第一场绝缘膜的第一部分上。

公开(公告)号：CN106024715B

公开(公告)日：2021-02-26

申请号：CN201610177408.5

申请日：2016-03-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  尹钟植 ,  李化成 ,  郑熙暾 ,  柳齐民 ,  车圭晚 ,  尹钟密 ,  金炫助

IPC: H01L21/8238 ,  H01L27/092 ,  H01L27/11 ,  H01L29/06 ,  H01L29/423 ,  H01L21/8244

Abstract: 本发明提供了一种集成电路器件，其包括形成在衬底中的鳍式有源区、鳍式有源区的至少一个侧壁上的台阶绝缘层和鳍式有源区的所述至少一个侧壁上的第一高水平隔离层。鳍式有源区从衬底突出并且沿着平行于衬底的主表面的第一方向延伸，所述鳍式有源区包括具有第一导电类型的沟道区，并且包括台阶部分。台阶绝缘层接触鳍式有源区的台阶部分。台阶绝缘层位于第一高水平隔离层与鳍式有源区的所述至少一个侧壁之间。第一高水平隔离层沿着与第一方向不同的第二方向延伸。

公开(公告)号：CN110391286A

公开(公告)日：2019-10-29

申请号：CN201910007087.8

申请日：2019-01-04

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 郑在烨 ,  金一龙 ,  金柱然 ,  金辰昱 ,  吕京奂 ,  郑镛琦

IPC: H01L29/06 ,  H01L29/78

Abstract: 本发明提供一种集成电路器件，该集成电路器件包括：基板，具有第一区域和第二区域；第一鳍隔离绝缘部分，在第一区域和第二区域的每个中，并在第一方向上具有第一宽度；在第一区域和第二区域的每个中的一对鳍型有源区，在第一鳍隔离绝缘部分在其间的情况下彼此间隔开，并在第一方向上以直线延伸；在第一区域和第二区域的每个中的一对第二鳍隔离绝缘部分，分别接触第一鳍隔离绝缘部分的两个侧壁，所述两个侧壁面对第一方向上的相反侧；以及多个栅极结构，在第二方向上延伸并包括多个虚设栅极结构。