MEMS器件和制造MEMS器件的方法

    公开(公告)号:CN105384141A

    公开(公告)日:2016-03-09

    申请号:CN201510553886.7

    申请日:2015-09-02

    CPC classification number: B81C1/00182 B81C2201/019

    Abstract: 本发明涉及MEMS器件和制造MEMS器件的方法。一种用于制造MEMS器件的方法包括形成半导体层堆叠,该半导体层堆叠至少包括第一单晶半导体层、第二单晶半导体层和第三单晶半导体层,该第二单晶半导体层在第一和第三单晶半导体层之间形成。第二单晶半导体层的半导体材料与第一和第三单晶半导体层的半导体材料不同。在形成半导体层堆叠之后,第一和第三单晶半导体层中的每个的至少部分同时被刻蚀。

    微机电系统(MEMS)装置
    149.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102757010A

    公开(公告)日:2012-10-31

    申请号:CN201210182189.1

    申请日:2012-04-20

    Abstract: 一种微机电系统(MEMS)装置,包括至少两个基板(5,6)和在MEMS层中的至少一个可移动结构(3.1,3.2)。所述可移动结构布置在腔体(8.1,8.2)中,所述腔体被封装在该至少两个基板(5,6,7)之间。导电框架(1)围绕所述可移动结构(3.1,3.2)且被布置在两个基板(5,6)的界面处。框架(1)与所述可移动结构(3.1,3.2)电分离,且通过至少第一和第二导电连接(13.1,13.2,13.3;14)分别电连接到所述第一(5)和第二基板(6)。框架(1)可以具有不大于150μm、优选不大于50μm的宽度(w)。第一导电连接位于框架(1)和第一基板(5)之间的界面平面处。第二导电连接是被施加在框架(1)的外周边和第二基板(6)的外周面(15)的层(14)。

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