互补式金氧半导体深度感测器元件及其感测方法

    公开(公告)号:CN106531751A

    公开(公告)日:2017-03-22

    申请号:CN201610133422.5

    申请日:2016-03-09

    Inventor: 张鸿德 吴高彬

    Abstract: 一种互补式金氧半导体深度感测器元件及其感测方法,该深度感测器元件于一基板的一感光区域中形成有一感光栅极,该感光栅极的两相对侧分别间隔形成有一第一及第二传送栅极,又该基板上对应该第一及第二传送栅极的外侧分别间隔形成有一第一及第二浮接掺杂区;其中该第一及第二浮接掺杂区的杂质极性与该半导体区的杂质极性相异;由于该感光栅极与该第一及第二传送栅极下方共用相同半导体区,其间未有与该半导体区杂质极性相异的杂质掺杂于其中,故本发明的深度感测器元件的感光栅极于受光后激发出的多数载子不以扩散方式,而改以漂移方式传送至该第一或第二传送栅极。本发明还公开了一种深度感测器元件的感测方法。

    入射电容式传感器
    6.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102997944B

    公开(公告)日:2016-11-23

    申请号:CN201210328798.3

    申请日:2012-09-07

    Abstract: 本发明涉及入射电容式传感器,公开了用于测量辐射的电容式传感器器件。所述器件包括两个传感器区域(108,109)以及顶板结构(203)。所述传感器区域具有当辐射入射到其时产生电子‑空穴对的材料。分离区域位于所述两个传感器区域之间。传感器区域与顶板结构之间的所述电容取决于入射到所述传感器区域的辐射。阻挡结构选择性地并且区别性地阻挡来自传感器区域具有一个范围中的参数值的辐射,以便在选定的辐射入射角下相对于其它传感器区域的电子‑空穴对的产生区别性地影响一个传感器区域的电子‑空穴对的产生。

    一种二硫化钼-氧化锌量子点混合场效应光晶体管及其制造方法

    公开(公告)号:CN103681940A

    公开(公告)日:2014-03-26

    申请号:CN201310580576.5

    申请日:2013-11-19

    Applicant: 浙江大学

    Abstract: 本发明公开的二硫化钼-氧化锌量子点混合场效应光晶体管自下而上依次有Si层和SiO2层的Si/SiO2复合晶片、n层二硫化钼层,n=1-4、两块在同一水平面上彼此相隔的金电极、在两块金电极之间有ZnO量子点层,ZnO量子点层中的ZnO量子点的直径为3-8nm。其制造步骤包括:将用胶带从二硫化钼晶体上剥离的二硫化钼层黏贴到清洗干净的Si/SiO2复合晶片上;在二硫化钼层上旋涂聚甲基丙烯酸甲酯,用电子束曝光法在涂层上刻蚀出金电极;用电子束蒸发方法在电极上依次沉积Ni和Au作为源极和漏极,制备ZnO量子点溶液;将ZnO量子点溶液涂覆到二块金电极之间的二硫化钼层上。本发明为场效应光晶体管提供了一种新品种。

    入射电容式传感器
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102997944A

    公开(公告)日:2013-03-27

    申请号:CN201210328798.3

    申请日:2012-09-07

    Abstract: 本发明涉及入射电容式传感器,公开了用于测量辐射的电容式传感器器件。所述器件包括两个传感器区域(108,109)以及顶板结构(203)。所述传感器区域具有当辐射入射到其时产生电子-空穴对的材料。分离区域位于所述两个传感器区域之间。传感器区域与顶板结构之间的所述电容取决于入射到所述传感器区域的辐射。阻挡结构选择性地并且区别性地阻挡来自传感器区域具有一个范围中的参数值的辐射,以便在选定的辐射入射角下相对于其它传感器区域的电子-空穴对的产生区别性地影响一个传感器区域的电子-空穴对的产生。

    图像读取装置
    9.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1168146C

    公开(公告)日:2004-09-22

    申请号:CN01125065.8

    申请日:2001-08-03

    Inventor: 饭浜智美

    CPC classification number: H01L27/14601 H01L27/14678 H01L31/113

    Abstract: 本发明提供一种2维图像读取装置,其可以将放置在光电传感器装置上的被检测体所带的静电进行放电,由此大幅控制读取误动作和设备的损坏。其用于读取被检测体图像的,包括:排列在衬底一侧的多个传感器;设置成覆盖上述多个传感器的绝缘膜;及用于给上述被检测体的带电电压进行放电,设置在上述绝缘膜上的导电层;其特征在于,还具有设置在上述导电层上的缓冲层;上述缓冲层,具有由真性非晶质硅、含有从不纯物质的非晶质硅、氮化硅、氧化硅、金刚石、绝缘高分子或者导电高分子中选择出的材料。

    用于FinFET器件的方法和结构

    公开(公告)号:CN108987344A

    公开(公告)日:2018-12-11

    申请号:CN201711112249.1

    申请日:2017-11-13

    Inventor: 蔡劲

    Abstract: 本发明实施例公开了半导体器件及其形成方法。该方法包括接收半导体衬底和从半导体衬底延伸的鳍;形成共形地覆盖鳍的多个介电层,该多个介电层包括具有第一类型的净固定电荷的第一带电介电层和具有第二类型的净固定电荷的第二带电介电层,第二类型的电荷与第一类型的电荷相反,第一类型的电荷具有第一表层密度,并且第二类型的电荷具有第二表层密度,第一带电介电层插接在鳍和第二带电介电层之间;图案化多个介电层,从而暴露鳍的第一部分,其中,鳍的第二部分被第一带电介电层的至少部分围绕;并且形成接合鳍的第一部分的栅极结构。本发明实施例涉及用于FinFET器件的方法和结构。

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