电光装置以及电子设备
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107134255B

    公开(公告)日:2019-07-09

    申请号:CN201710165848.3

    申请日:2013-05-13

    Abstract: 本发明涉及电光装置以及电子设备。其中,电光装置具有相互交叉的扫描线以及数据线;与上述扫描线和上述数据线的交叉对应地设置的像素电路;和供给规定的电位的电源布线。上述像素电路具备发光元件和对流过上述发光元件的电流进行控制的驱动晶体管,上述驱动晶体管的栅极电极经由第1中继电极与规定的节点电连接。上述第1中继电极与上述电源布线以及上述数据线形成于同一层,并且上述第1中继电极的至少三侧被上述电源布线包围。

    一种柔性二维材料发光器件

    公开(公告)号:CN105185884A

    公开(公告)日:2015-12-23

    申请号:CN201510320484.2

    申请日:2015-06-11

    Inventor: 汤乃云

    CPC classification number: H01L33/0037 H01L33/0041 H01L33/005 H01L33/26

    Abstract: 本发明涉及一种柔性二维材料发光器件,该发光器件从下到上依次包括柔性衬底层(1)、第一金属层、介质层(4)、二维半导体材料层(5),以及设置在介质层(4)上并位于二维半导体材料层(5)两端的第二金属层。与现有技术相比,本发明具有便携性好、光电响应速度快、集成密度高、加工性能好、成本低等优点。

    像素结构及其制造方法
    7.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104460143A

    公开(公告)日:2015-03-25

    申请号:CN201310424654.2

    申请日:2013-09-17

    Abstract: 本发明公开了一种像素结构及其制造方法。此像素结构包括扫描线、数据线、薄膜晶体管、第一电极层、保护层及第二电极层。薄膜晶体管与扫描线及数据线电连接,且其包括栅极、氧化物半导体层、绝缘层、源极及漏极。氧化物半导体层位于栅极上。绝缘层覆盖氧化物半导体层的通道区。源极及漏极位于绝缘层上,且分别与氧化物半导体层电连接。第一电极层与氧化物半导体层为相同膜层,由扫描线与数据线环绕。保护层覆盖源极及漏极。第二电极层位于第一电极层上,且保护层位于第一电极层与第二电极层之间,其中第一电极层及第二电极层中其中一个与薄膜晶体管电连接,且另一个连接至共用电压,且其中第二电极层具有暴露出第一电极层的面积的多个狭缝。

    半导体装置及其制造方法

    公开(公告)号:CN102947871A

    公开(公告)日:2013-02-27

    申请号:CN201180030012.3

    申请日:2011-06-21

    Inventor: 美崎克纪

    CPC classification number: H01L27/124 H01L27/1214 H01L27/1225 H01L33/0041

    Abstract: 本发明的TFT基板(100A)包括:在基板上形成的薄膜晶体管、栅极配线(3a)和源极配线(13as);和将薄膜晶体管和外部配线电连接的第一端子和第二端子(40a、40b)。第一端子包括第一栅极端子部(41a)和第一像素电极配线(29a)。第一像素电极配线在设置于绝缘膜(5)的第一开口部(27c)内与第一栅极端子部接触,且覆盖第一开口部中的绝缘膜的端面。第二端子包括第二栅极端子部(41b)和第二像素电极配线(29b)。第二像素电极配线在设置于绝缘膜的第二开口部(27d)内与第二栅极端子部接触,且覆盖第二开口部中的绝缘膜的端面。

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