公开(公告)号：CN106206261B

公开(公告)日：2019-08-09

申请号：CN201510210383.X

申请日：2015-04-29

Applicant: 爱思开海力士有限公司

Inventor： 潘槿道 ,  卜喆圭 ,  许仲君 ,  金弘益

IPC: H01L21/027

CPC classification number: C09D153/00 ,  C08F293/00 ,  C08L53/005 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/002 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/165 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  H01L21/0276 ,  H01L21/0337 ,  H01L21/31058 ,  H01L21/31144 ,  H01L21/32139

Abstract: 一种形成图案的方法包括：在下面层上形成引导图案，在引导图案和下面层上形成自组装嵌段共聚物(BCP)层，将自组装BCP层退火以形成被交替地且重复地排列的第一聚合物嵌段域和第二聚合物嵌段域，以及选择性地去除第一聚合物嵌段域。引导图案由可显影抗反射材料形成。另外，引导图案彼此间隔开，使得引导图案中的每个的宽度小于引导图案之间的距离。

公开(公告)号：CN106133606B

公开(公告)日：2019-06-28

申请号：CN201580015088.7

申请日：2015-02-25

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 桥本雄人 ,  境田康志 ,  高濑显司 ,  坂本力丸

IPC: G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F220/10 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  C08F12/22 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/22 ,  C08F220/28 ,  C08F220/38 ,  C08F2220/282 ,  C08F2220/382 ,  C09D7/65 ,  C09D125/14 ,  C09D167/02 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

Abstract: 本发明的课题是提供用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含该添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物。本发明的解决方法是一种用于抗蚀剂下层膜形成用组合物的添加剂、以及包含前述添加剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述添加剂含有具有下述式(1)～式(4)所示的结构单元的共聚物(式中，R1分别独立地表示氢原子或甲基，Ar表示亚芳基，Pr表示保护基或氢原子，X表示直接结合或‑C(＝O)O‑R2‑基，构成该‑C(＝O)O‑R2‑基的R2表示碳原子数为1～3的亚烷基，该亚烷基与硫原子结合，R3表示氢原子、甲基、甲氧基或卤素，R4表示至少1个氢原子被氟取代了的碳原子数为1～3的烷基，Z表示具有四元环～七元环的内酯骨架、金刚烷骨架或降冰片烷骨架的有机基团。)。

公开(公告)号：CN109180722A

公开(公告)日：2019-01-11

申请号：CN201811239514.7

申请日：2013-12-06

Applicant: AZ电子材料卢森堡有限公司

Inventor： 姚晖蓉 ,  M·D·拉曼 ,  S·K·马伦 ,  赵俊衍 ,  C·安亚戴格伍 ,  M·帕德马纳班

IPC: C07F7/28 ,  C08G79/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/075 ,  G03F7/09

CPC classification number: C08G79/00 ,  C07F7/28 ,  G03F7/0043 ,  G03F7/075 ,  G03F7/091

Abstract: 本公开涉及稳定的金属化合物、它们的组合物以及它们的使用方法。具体地，本公开涉及具有改善的稳定性的可溶性多配体取代金属化合物，以及由其制得的组合物和它们的使用方法。

公开(公告)号：CN109143784A

公开(公告)日：2019-01-04

申请号：CN201810927323.3

申请日：2018-08-15

Applicant: 上海华力集成电路制造有限公司

Inventor： 成智国 ,  杨正凯

IPC: G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/20 ,  H01L21/66

CPC classification number: G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/11 ,  G03F7/70608 ,  H01L22/12

Abstract: 本发明涉及一种单衬底上包括三层光刻材料的晶圆，涉及半导体集成电路制造技术，包括：衬底；涂覆于所述衬底上的旋涂的碳，形成第一层光刻材料；涂覆于所述旋涂的碳上的抗反射涂层，形成第二层光刻材料；以及涂覆于所述抗反射涂层上的光刻胶，形成第三层光刻材料，以能在一片晶圆上完成监测三种光阻的工艺性能，更加快速、有效的监控了涂胶工艺的稳定性，且衬底可以重复利用，因此极大地节省了晶圆的使用成本。

公开(公告)号：CN108700813A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780010420.X

申请日：2017-02-03

Applicant: 富士胶片株式会社

Inventor： 安原祐一 ,  野崎敦靖

IPC: G03F7/039 ,  C08G63/688 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/32

CPC classification number: G03F7/038 ,  B41C1/1008 ,  B41C2210/02 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/26 ,  B41C2210/264 ,  C08G63/685 ,  C08G63/688 ,  G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  G03F7/11 ,  G03F7/2055 ,  G03F7/32

Abstract: 本发明提供一种正型感光性树脂组合物、使用了上述正型感光性树脂组合物的正型平版印刷版原版、以及平版印刷版的制作方法，所述正型感光性树脂组合物的特征在于，其含有在主链上具有磺酰胺基的聚酯和红外线吸收剂。

公开(公告)号：CN105917485B

公开(公告)日：2018-08-21

申请号：CN201580004794.1

申请日：2015-01-14

Applicant: 3M创新有限公司

Inventor： 埃文·L·施瓦茨 ,  贾斯廷·P·迈尔 ,  奥勒斯特尔·小本森 ,  特里·O·科利尔 ,  迈克尔·本顿·弗里 ,  罗伯特·F·卡姆拉特 ,  米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 ,  戴维·B·奥尔森 ,  K·拉维什·谢诺伊 ,  马丁·B·沃克

IPC: H01L51/52 ,  G02B6/00

CPC classification number: B32B3/263 ,  B29D11/00788 ,  B29K2083/00 ,  B29K2995/0018 ,  B32B27/308 ,  B32B37/18 ,  B32B38/0036 ,  B32B38/06 ,  B32B38/1858 ,  B32B2037/1253 ,  B32B2250/02 ,  B32B2309/10 ,  B32B2310/0831 ,  B32B2419/00 ,  B32B2457/00 ,  B32B2457/12 ,  G03F7/091 ,  H01L51/0024 ,  H01L51/0096 ,  H01L51/5275 ,  H01L51/5281 ,  H01L2251/5307 ,  H01L2251/5315 ,  Y10T156/10 ,  Y10T428/24521

Abstract: 本公开涉及一种转印膜，所述转印膜包括具有第一表面和第二表面的牺牲模板层，所述第二表面具有与所述第一表面相对的结构化表面；适形于所述牺牲模板层的所述结构化表面的热稳定回填层，并且其中靠近所述第一表面的所述牺牲模板层的一部分比靠近所述第二表面的所述牺牲模板层的一部分具有更大的热稳定分子种类浓度。

公开(公告)号：CN107924131A

公开(公告)日：2018-04-17

申请号：CN201680050261.1

申请日：2016-08-25

Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社

Inventor： 樋田匠 ,  牧野嶋高史 ,  佐藤隆 ,  越后雅敏

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/11 ,  C07D405/04 ,  C08G61/122 ,  C08G2261/11 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/146 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/149 ,  C08G2261/3242 ,  C08G2261/59 ,  C08G2261/76 ,  C08G2261/90 ,  C09D165/00 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/38 ,  H01L21/0274

Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)

公开(公告)号：CN104752171B

公开(公告)日：2018-02-27

申请号：CN201410843592.3

申请日：2014-12-30

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 苏煜中 ,  张庆裕

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0276 ,  G03F7/091 ,  H01L21/02118

Abstract: 根据实施例，底部抗反射层包括将聚合物树脂的表面能改变至更接近匹配下面的材料的表面能的表面能改性基团，从而帮助在结构之间填充间隙。可以使用表面能改性基团或通过使用无机结构改变聚合物树脂的表面能。本发明还涉及间隙填充材料及方法。

公开(公告)号：CN104114359B

公开(公告)日：2018-01-09

申请号：CN201280067011.0

申请日：2012-10-25

Applicant: 日本化药株式会社

Inventor： 本桥隼 ,  小林大祐 ,  松尾雄一朗 ,  仓田高明 ,  内藤正弘

IPC: B32B7/12 ,  C09J4/02 ,  C09J11/06 ,  C09J163/00 ,  C09J171/02 ,  G02F1/1333 ,  G06F3/041

CPC classification number: C09J133/08 ,  B32B7/12 ,  B32B37/12 ,  B32B2037/1253 ,  B32B2250/03 ,  B32B2457/208 ,  C09J4/06 ,  C09J133/10 ,  C09J171/02 ,  G02F1/13338 ,  G02F1/133512 ,  G02F2202/28 ,  G03F7/027 ,  G03F7/085 ,  G03F7/091 ,  G06F3/041 ,  Y10T428/24843

Abstract: 本发明涉及用于将光学基材与表面具有遮光部的光学基材贴合的紫外线固化型胶粘剂、对该胶粘剂照射紫外线而得到的固化物以及具有该固化物的触控面板等光学构件，所述紫外线固化型胶粘剂的特征在于，含有吸收紫外线而发光且具有特定的最大吸收波长和特定的最大发射波长的有机化合物(A)、光聚合性化合物(B)和光聚合引发剂(C)。通过使用本发明的紫外线固化型胶粘剂，即使在透明保护板等光学基材上形成有遮光部时，也能够在不对液晶显示装置等造成损伤的情况下，通过来自一个方向的紫外线的照射使位于因遮光部的存在而被遮光的遮光区域的胶粘剂充分地固化。

公开(公告)号：CN107077066A

公开(公告)日：2017-08-18

申请号：CN201580059713.8

申请日：2015-09-30

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 具世真 ,  李美宿 ,  柳亨周 ,  金廷根 ,  尹圣琇 ,  朴鲁振 ,  李济权 ,  崔银英

IPC: G03F7/00 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07D209/48 ,  C07F7/18 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F220/10 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C08F297/00 ,  C08F299/00 ,  C08J5/18 ,  C08L53/00 ,  C08L55/00

CPC classification number: C08L53/005 ,  B05D1/005 ,  B05D3/007 ,  B81C1/00428 ,  B81C2201/0149 ,  B82Y40/00 ,  C01P2002/70 ,  C07B2200/00 ,  C08F2/14 ,  C08F32/06 ,  C08F212/08 ,  C08F216/12 ,  C08F220/10 ,  C08F220/26 ,  C08F220/30 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F299/024 ,  C08F2220/301 ,  C08F2438/03 ,  C08G61/08 ,  C08G61/128 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/1426 ,  C08G2261/332 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/40 ,  C08G2261/418 ,  C08J5/18 ,  C08J7/123 ,  C08J2353/00 ,  C08L53/00 ,  C08L53/02 ,  C09D153/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/039 ,  G03F7/091 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/30 ,  C08F214/182 ,  C07C43/215 ,  C07C43/225 ,  C07C217/84 ,  C07D209/48 ,  C07F7/1804 ,  C08F12/20 ,  C08F12/22 ,  C08F12/26 ,  C08F12/32 ,  C08F212/14 ,  C08F297/00 ,  C08F299/00 ,  C08L55/00

Abstract: 提供了制造图案化基底的方法。该方法可以应用于装置如电子器件或集成电路的制造过程，或者应用于另一些用途例如制造集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、LCD、薄膜磁头或有机发光二极管；并且该方法可用于在用来制造离散磁道介质如集成电路、位元图案化介质和/或磁存储装置如硬盘驱动器的表面上构造图案。