-
-
公开(公告)号：CN117882009A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202280059046.3
申请日：2022-08-30
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C08G73/00 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L21/027
Abstract: 一种旋涂碳膜形成用组合物，其为用于形成作为光刻用下层膜的旋涂碳膜的组合物，其包含树枝状高分子。
-
公开(公告)号：CN107924131B
公开(公告)日：2020-12-25
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
-
公开(公告)号：CN111630111A
公开(公告)日：2020-09-04
申请号：CN201980009527.1
申请日：2019-01-31
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08L101/00 , C08K5/13 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/20
Abstract: 提供：能形成具有高的耐蚀刻性的膜的组合物、以及使用其的抗蚀剂图案的形成方法和绝缘膜的形成方法。一种组合物，其包含：基材(A)和多酚化合物(B)，前述基材(A)与多酚化合物(B)的质量比为5：95～95：5。一种绝缘膜的形成方法，其包括如下工序：进行所述辐射线照射后的所述光致抗蚀层的显影。
-
公开(公告)号：CN107924131A
公开(公告)日：2018-04-17
申请号：CN201680050261.1
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/11 , C07D405/04 , C08G61/122 , C08G2261/11 , C08G2261/1424 , C08G2261/146 , C08G2261/148 , C08G2261/149 , C08G2261/3242 , C08G2261/59 , C08G2261/76 , C08G2261/90 , C09D165/00 , G03F7/091 , G03F7/094 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/2037 , G03F7/322 , G03F7/38 , H01L21/0274
Abstract: 本发明提供含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示化合物的结构单元的树脂中的至少任意者的光刻用下层膜形成材料。(式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基或羟基，在同一萘环或苯环中任选相同或不同，n为1～4的整数，n为2以上的整数的情况下，n个[]内的结构单元的结构式任选相同或不同，X表示氧原子、硫原子或为无桥接，m2各自独立地为0～7的整数，此处至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1，其中，选自由R1及R2组成的组中的至少1个为包含碘原子的基团。)
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107428717A
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：CN201680018198.3
申请日：2016-03-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07D311/92 , C07B61/00 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038
CPC classification number: G03F7/0045 , C07B61/00 , C07C37/20 , C07C39/14 , C07C39/17 , C07C39/225 , C07C39/42 , C07D311/78 , C07D311/92 , C07D311/96 , C08G61/12 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/0382 , G03F7/2039 , G03F7/327
Abstract: 本发明为下述通式(1)所示的化合物。
-
公开(公告)号：CN102471463A
公开(公告)日：2012-05-23
申请号：CN201080035652.9
申请日：2010-08-06
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G59/42
CPC classification number: C08G59/4215 , C08L63/00 , C09D163/00
Abstract: 一种热固性树脂组合物，其特征在于，包含具有环氧基的成分和含有环己烷三羧酸酐的固化剂成分。将该热固性树脂组合物固化而成的固化物，其表面硬度、耐溶剂性、透明性、与基材的密合性优异，作为基材的表面保护层是有用的。
-
公开(公告)号：CN115605458A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202180034592.7
申请日：2021-05-10
Applicant: 学校法人关西大学(JP) , 三菱瓦斯化学株式会社(JP)
IPC: C07C381/12 , C07C309/06 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20
Abstract: 提供一种高灵敏度且分辨率高、具有高平坦性的化合物。下述式(P‑0)所示的化合物。(式(P‑0)中，Ar为碳原子数6～60的具有芳基的基团，ORTS各自独立地为羟基或具有特定离子部位的基团。n1为1～20的整数。其中，ORTS中的至少一个为具有特定离子部位的基团。)
-
公开(公告)号：CN107949808B
公开(公告)日：2021-10-22
申请号：CN201680050394.9
申请日：2016-08-25
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07D311/78 , G03F7/26 , H01L21/027
Abstract: 本实施方式提供一种光刻用下层膜形成材料，其含有下述式(1)所示的化合物或包含源自下述式(1)所示的化合物的结构单元的树脂中的至少任一种。式(1)中，R1为碳数1～60的2n价基团或单键，R2各自独立地为卤素原子、碳数1～10的直链状、支链状或者环状的烷基、碳数6～10的芳基、碳数2～10的烯基、碳数1～30的烷氧基、硫醇基、羟基或羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，在同一萘环或苯环中可以相同也可以不同，此处，至少1个R2为羟基的氢原子被酸解离性基团取代而成的基团，n为1～4的整数，n为2以上的整数时，n个[]内的结构单元的结构式可以相同也可以不同，X表示氧原子、硫原子或未桥接，m2各自独立地为0～7的整数，其中，至少1个m2为1～7的整数，q各自独立地为0或1。
-
公开(公告)号：CN112005168A
公开(公告)日：2020-11-27
申请号：CN201980027296.7
申请日：2019-04-26
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含下述式((11))中所，示L的为除化合OR物1以和外含的硅配化体合，物R1。为[氢Lx原Te子(O、取R1代)y或](未1)取(上代述的式碳数1～20的直链状或碳数3～20的支链状或环状的烷基、取代或未取代的碳数6～20的芳基、和取代或未取代的碳数2～20的烯基中的任意者，x为0～6的整数，y为0～6的整数，x与y的总计为1～6，x为2以上的情况下，多个L任选相同或不同，y为2以上的情况下，多个R1任选相同或不同。)。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
53
records
(took 0.041 seconds)
