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公开(公告)号:CN106103396B
公开(公告)日:2021-11-30
申请号:CN201580013921.4
申请日:2015-03-13
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
摘要: 本发明的化合物由特定的结构式表示。由于具有所述特定的结构式相关的结构,因此,本发明的化合物可以应用湿法工艺,耐热性和耐蚀刻性优异。另外,由于本发明的化合物具有特定结构,因此耐热性高、碳浓度较高、氧浓度较低、溶剂溶解性也高。因此,通过使用本发明的化合物,能够抑制高温烘焙时膜的劣化,能够形成对氧等离子体蚀刻等的耐蚀刻性也优异的下层膜。进而,由于与抗蚀剂层的密合性也优异,因此能够形成优异的抗蚀图案。
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公开(公告)号:CN113302223A
公开(公告)日:2021-08-24
申请号:CN202080008710.2
申请日:2020-01-10
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号: C08G61/12 , G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20 , H01L21/28 , H01L21/027
摘要: 一种膜形成用组合物,其包含多环多酚树脂,所述多环多酚树脂具有源于选自由式(1A)和式(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元,且前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。(式(1A)中,X表示氧原子、硫原子、单键或为未桥接,Y为碳数1~60的2n价的基团或单键,此处,X为未桥接时,Y为前述2n价的基团。另外,式(1B)中,A表示苯环或稠环。进而,式(1A)和式(1B)中,R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1~40的烷基、任选具有取代基的碳数6~40的芳基、任选具有取代基的碳数2~40的烯基、碳数2~40的炔基、任选具有取代基的碳数1~40的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基,此处,R0中的至少1者为羟基,m各自独立地为1~9的整数。n为1~4的整数,p各自独立地为0~3的整数。)
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公开(公告)号:CN112513737A
公开(公告)日:2021-03-16
申请号:CN201980050223.X
申请日:2019-07-23
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
摘要: 本发明的课题在于,提供有用的下层膜形成组合物。前述课题可以通过以下的下层膜形成组合物来解决。一种下层膜形成组合物,其包含具有下述式(1)所示的结构单元的化合物和溶剂,前述化合物的重均分子量按聚苯乙烯换算分子量计为1000~30000,前述化合物对于丙二醇单甲基醚乙酸酯的溶解性在23℃下为10质量%以上(式(1)中,A为单键或2价基团,R1各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2各自独立地为碳数1~10的直链状、支链状或环状的烷基、碳数6~10的芳基、碳数2~10的烯基、碳数2~10的炔基、巯基或羟基,R2中的至少1个为羟基和/或巯基,m1各自独立地为0~5的整数,m2各自独立地为0~8的整数,p2各自独立地为0~2的整数。)
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公开(公告)号:CN104969127B
公开(公告)日:2019-11-26
申请号:CN201480007892.6
申请日:2014-02-04
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号: G03F7/11 , C07D493/04 , H01L21/027
摘要: 本发明的光刻用下层膜形成材料,其含有具有下述通式(1)所示结构的化合物。(式(1)中,X各自独立地是氧原子或硫原子,R1是单键或碳原子数为1~30的2n价的烃基,该烃基可以具有环式烃基、双键、杂原子或碳原子数为6~30的芳香族基团,R2是碳原子数为1~10的直链状、支链状或环状的烷基,碳原子数为6~10的芳基,碳原子数为2~10的烯基或羟基,m是0~3的整数,n是1~4的整数,p是0或1,q是1~100的整数。)
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公开(公告)号:CN105764892A
公开(公告)日:2016-07-13
申请号:CN201480064733.X
申请日:2014-11-28
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号: C07D311/92 , C08G8/20
CPC分类号: C07D311/92
摘要: 本发明的精制方法为下式(1)所示的化合物或具有下式(2)所示结构的树脂的精制方法,其包括使含有不能与水任意混合的有机溶剂和前述化合物或前述有机溶剂和前述树脂的溶液(A)与酸性的水溶液接触的工序。下式中,X是氧原子或硫原子,R1是单键或烃基,R2是烷基或羟基等,在此,R2中的至少一个是羟基,R3是单键或亚烷基,m是1~6,m2是1~5,p是0或1,n是1~4。
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公开(公告)号:CN115968391B
公开(公告)日:2024-04-26
申请号:CN202180048505.3
申请日:2021-07-08
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号: C09D165/00 , H01L21/027 , G03F7/26 , G03F7/20 , G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/023 , G03F7/004 , C08L61/34 , C08G61/02
摘要: 一种膜形成用组合物,其包含多环多酚树脂,所述多环多酚树脂具有源自选自由式(1‑0)、(1A)、及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元,所述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN110637256B
公开(公告)日:2024-01-09
申请号:CN201880032121.0
申请日:2018-05-14
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC分类号: G03F7/11 , C08F22/40 , C08L101/02 , G03F7/20 , G03F7/26
摘要: 本发明提供光刻用膜形成材料,其包含具有下述式(0)的基团的化合物。
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公开(公告)号:CN113039177A
公开(公告)日:2021-06-25
申请号:CN201980075418.X
申请日:2019-11-21
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
摘要: 本发明提供一种光刻用膜形成材料,其包含:具有式(0A)的基团和式(0B)的基团的化合物(式(0B)中,R各自独立地选自由氢原子和碳数1~4的烷基组成的组。其中,至少一个R为碳数1~4的烷基。)。
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公开(公告)号:CN112424283A
公开(公告)日:2021-02-26
申请号:CN201980047194.1
申请日:2019-07-31
申请人: 三菱瓦斯化学株式会社
摘要: 一种组合物,其含有多酚化合物(B)和溶剂,前述多酚化合物(B)为选自下述式(1)所示的化合物和具有下述式(2)所示结构的树脂中的至少一种。(前述式中,对于RY、RT、X、m、N、r、L如说明书中所记载。)
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