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公开(公告)号：CN116615405A
公开(公告)日：2023-08-18
申请号：CN202180086595.5
申请日：2021-12-21
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C07C39/373
Abstract: 提供能得到曝光灵敏度优异的抗蚀剂的、化合物、聚合物、组合物、膜形成用组合物、图案形成方法、绝缘膜的形成方法及化合物的制造方法。下述式(1)所示的化合物。(式(1)中，RA为氢原子、甲基或三氟甲基，RX为ORB或氢原子，RB为取代或未取代的碳数1～30的烷基，P为羟基、烷氧基、酯基、缩醛基、羧基烷氧基、碳酸酯基、硝基、氨基、羧基、硫醇基、醚基、硫醚基、膦基、膦酸基、氨基甲酸酯基、脲基、酰胺基、酰亚胺基或磷酸基。)
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公开(公告)号：CN113302223A
公开(公告)日：2021-08-24
申请号：CN202080008710.2
申请日：2020-01-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种膜形成用组合物，其包含多环多酚树脂，所述多环多酚树脂具有源于选自由式(1A)和式(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，且前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合而连接。(式(1A)中，X表示氧原子、硫原子、单键或为未桥接，Y为碳数1～60的2n价的基团或单键，此处，X为未桥接时，Y为前述2n价的基团。另外，式(1B)中，A表示苯环或稠环。进而，式(1A)和式(1B)中，R0各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、巯基或羟基，此处，R0中的至少1者为羟基，m各自独立地为1～9的整数。n为1～4的整数，p各自独立地为0～3的整数。)
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4.发明公开公开(公告)号：CN116710500A
公开(公告)日：2023-09-05
申请号：CN202280010691.6
申请日：2022-01-11
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G61/02
Abstract: 一种聚合物，其具有源自下述式(0)所示单体的结构单元，所述聚合物具有前述结构单元彼此通过前述式(0)所示的单体的芳香环彼此的直接键合而连接的部位。(式(0)中，R为1价的基团，m为1～5的整数，其中，至少1个R为羟基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、或任选具有取代基的碳数0～40的氨基。)
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公开(公告)号：CN113227028A
公开(公告)日：2021-08-06
申请号：CN201980086268.2
申请日：2019-12-23
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 本发明的目的在于，提供可形成具有高分辨率且高灵敏度的膜的组合物等。前述目的可以通过以下的化合物来达成。一种含碘(甲基)丙烯酸酯化合物，其由通式(1)表示。(式(1)中，R1表示氢原子、甲基、或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。)
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115605458A
公开(公告)日：2023-01-13
申请号：CN202180034592.7
申请日：2021-05-10
Applicant: 学校法人关西大学(JP) , 三菱瓦斯化学株式会社(JP)
IPC: C07C381/12 , C07C309/06 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/20
Abstract: 提供一种高灵敏度且分辨率高、具有高平坦性的化合物。下述式(P‑0)所示的化合物。(式(P‑0)中，Ar为碳原子数6～60的具有芳基的基团，ORTS各自独立地为羟基或具有特定离子部位的基团。n1为1～20的整数。其中，ORTS中的至少一个为具有特定离子部位的基团。)
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公开(公告)号：CN118973989A
公开(公告)日：2024-11-15
申请号：CN202380032674.7
申请日：2023-04-10
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 下述式(1)所示的化合物。(式中，RG为包含至少1个环状结构的基团，I为碘原子，R1为任选相同或不同的碳原子数0～30且不含聚合性不饱和键的一价官能团，n为1～5的整数，m为1～5的整数。)#imgabs0#
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公开(公告)号：CN115605517B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202180035126.0
申请日：2021-05-12
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
Abstract: 一种含碘的(甲基)丙烯酸酯化合物，其用式(1)表示。式(1)中，R1表示氢原子、甲基或卤素，R2各自独立地表示氢原子、碳数1～20的直链状的有机基团、碳数3～20的支链状的有机基团、或碳数3～20的环状的有机基团，A表示碳数1～30的有机基团，A包含至少1个酰基，n1表示0或1，n2表示1～20的整数。#imgabs0#
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9.发明公开公开(公告)号：CN116194502A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202180061314.0
申请日：2021-07-15
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: C08G8/20
Abstract: 一种聚合物，其具有源自选自由式(1A)及(1B)所示的芳香族羟基化合物组成的组中的至少1种单体的重复单元，前述重复单元彼此通过芳香环彼此的直接键合来连接。(式(1A)及(1B)中，R各自独立地为任选具有取代基的碳数1～40的烷基、任选具有取代基的碳数6～40的芳基、任选具有取代基的碳数2～40的烯基、碳数2～40的炔基、任选具有取代基的碳数1～40的烷氧基、卤素原子、硫醇基、氨基、硝基、氰基、硝基、杂环基、羧基或羟基，至少1个R为包含羟基的基团，m各自独立地为1～10的整数。)
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公开(公告)号：CN115053183A
公开(公告)日：2022-09-13
申请号：CN202180012942.X
申请日：2021-02-02
Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
IPC: G03F7/11 , C07C39/15 , C07C39/367 , C07C39/38 , C07D207/20 , C08F12/16 , C08G61/00 , C07D311/80 , C07D311/82 , C08F212/14 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20 , G03F7/26
Abstract: 本发明的目的在于提供：能形成曝光灵敏度优异的图案、且可以得到与抗蚀层接触的膜、下层膜的光刻用组合物等。前述目的可以通过前述光刻用组合物而实现，所述光刻用组合物包含具有选自由碘、碲和氟组成的组中的至少1种元素的化合物、或包含具有源自前述化合物的结构单元的树脂，前述化合物中的前述原子的总质量为15质量％以上且75质量％以下。
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