Invention Publication
- Patent Title: 光刻用组合物和图案形成方法
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Application No.: CN202180012942.XApplication Date: 2021-02-02
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Publication No.: CN115053183APublication Date: 2022-09-13
- Inventor: 大松祯 , 松本正裕 , 佐藤隆 , 越后雅敏
- Applicant: 三菱瓦斯化学株式会社
- Applicant Address: 日本东京都
- Assignee: 三菱瓦斯化学株式会社
- Current Assignee: 三菱瓦斯化学株式会社
- Current Assignee Address: 日本东京都
- Agency: 北京林达刘知识产权代理事务所
- Agent 刘新宇; 李茂家
- Priority: 2020-018611 20200206 JP 2020-092060 20200527 JP
- International Application: PCT/JP2021/003658 2021.02.02
- International Announcement: WO2021/157551 JA 2021.08.12
- Date entered country: 2022-08-04
- Main IPC: G03F7/11
- IPC: G03F7/11 ; C07C39/15 ; C07C39/367 ; C07C39/38 ; C07D207/20 ; C08F12/16 ; C08G61/00 ; C07D311/80 ; C07D311/82 ; C08F212/14 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/20 ; G03F7/26
Abstract:
本发明的目的在于提供：能形成曝光灵敏度优异的图案、且可以得到与抗蚀层接触的膜、下层膜的光刻用组合物等。前述目的可以通过前述光刻用组合物而实现，所述光刻用组合物包含具有选自由碘、碲和氟组成的组中的至少1种元素的化合物、或包含具有源自前述化合物的结构单元的树脂，前述化合物中的前述原子的总质量为15质量％以上且75质量％以下。
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