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公开(公告)号：CN105917253B
公开(公告)日：2018-01-16
申请号：CN201580004713.8
申请日：2015-01-09
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： C23C16/50 , B32B37/025 , B32B38/10 , B32B2037/243 , B32B2307/40 , B32B2551/00 , C03C17/30 , C03C2217/732 , C03C2217/77 , C23C16/0236 , G02B1/02 , G02B1/118 , Y10T156/10 , Y10T428/24355
摘要： 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
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公开(公告)号：CN105917253A
公开(公告)日：2016-08-31
申请号：CN201580004713.8
申请日：2015-01-09
申请人： 3M创新有限公司
CPC分类号： C23C16/50 , B32B37/025 , B32B38/10 , B32B2037/243 , B32B2307/40 , B32B2551/00 , C03C17/30 , C03C2217/732 , C03C2217/77 , C23C16/0236 , G02B1/02 , G02B1/118 , Y10T156/10 , Y10T428/24355
摘要： 本公开涉及用于形成具有抗反射结构的制品的叠层转印膜以及形成这些叠层转印膜的方法。转印膜包括载体膜、牺牲模板层和热稳定回填层，该牺牲模板层设置在载体膜上并且具有抗反射纳米结构模板特征结构，该热稳定回填层具有符合抗反射纳米结构模板特征结构的第一表面和相对的平坦第二表面。
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公开(公告)号：CN105917485B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：CN201580004794.1
申请日：2015-01-14
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 埃文·L·施瓦茨 , 贾斯廷·P·迈尔 , 奥勒斯特尔·小本森 , 特里·O·科利尔 , 迈克尔·本顿·弗里 , 罗伯特·F·卡姆拉特 , 米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 , 戴维·B·奥尔森 , K·拉维什·谢诺伊 , 马丁·B·沃克
CPC分类号： B32B3/263 , B29D11/00788 , B29K2083/00 , B29K2995/0018 , B32B27/308 , B32B37/18 , B32B38/0036 , B32B38/06 , B32B38/1858 , B32B2037/1253 , B32B2250/02 , B32B2309/10 , B32B2310/0831 , B32B2419/00 , B32B2457/00 , B32B2457/12 , G03F7/091 , H01L51/0024 , H01L51/0096 , H01L51/5275 , H01L51/5281 , H01L2251/5307 , H01L2251/5315 , Y10T156/10 , Y10T428/24521
摘要： 本公开涉及一种转印膜，所述转印膜包括具有第一表面和第二表面的牺牲模板层，所述第二表面具有与所述第一表面相对的结构化表面；适形于所述牺牲模板层的所述结构化表面的热稳定回填层，并且其中靠近所述第一表面的所述牺牲模板层的一部分比靠近所述第二表面的所述牺牲模板层的一部分具有更大的热稳定分子种类浓度。
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公开(公告)号：CN105899359B
公开(公告)日：2018-03-09
申请号：CN201480010442.2
申请日：2014-02-17
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 迈克尔·本顿·弗里 , 马丁·B·沃克 , 玛格丽特·M·沃格尔-马丁 , 埃文·L·施瓦茨 , 米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 , 罗伯特·F·卡姆拉特 , 特里·O·科利尔 , 奥勒斯特尔·小本森
CPC分类号： B44C1/17 , B32B5/022 , B32B5/024 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/08 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/281 , B32B27/304 , B32B27/306 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/322 , B32B27/34 , B32B27/36 , B32B27/365 , B32B27/42 , B32B29/002 , B32B37/02 , B32B37/025 , B32B37/1009 , B32B2255/12 , B32B2255/26 , B32B2264/10 , B32B2264/108 , B32B2274/00 , B32B2307/308 , B32B2307/412 , B32B2307/418 , B32B2307/50 , B32B2307/538 , B32B2307/704 , B32B2307/714 , B32B2307/732 , B32B2307/734 , B32B2309/02 , B32B2309/04 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , H01L51/003 , H01L51/5275 , Y10T156/10 , Y10T428/24521 , Y10T428/24545
摘要： 本发明公开了转印膜、由所述转印膜制成的制品、以及制备并使用包括嵌入式纳米结构的转印膜的方法。所述制品包括牺牲模板层和热稳定的回填层，所述牺牲模板层具有第一表面和与所述第一表面相对的具有结构化表面的第二表面，所述热稳定的回填层被施加到所述牺牲模板层的所述第二表面。所述热稳定的回填层具有结构化表面，该结构化表面与所述牺牲模板层的所述结构化表面相符，并且所述牺牲模板层包含无机纳米材料和牺牲材料。所述牺牲模板层中的所述牺牲材料能够被干净地烘除，同时在所述热稳定的回填层的所述结构化表面上留下无机纳米材料的致密层。
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公开(公告)号：CN104937695A
公开(公告)日：2015-09-23
申请号：CN201380067247.9
申请日：2013-12-05
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃克 , 迈克尔·本顿·弗里 , 玛格丽特·沃格-马丁 , 埃文·L·施瓦茨 , 米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 , 特里·O·科利尔
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B32B37/025 , B29C35/0805 , B29C35/0894 , B29C37/0067 , B29C41/24 , B29C59/026 , B29C65/528 , B29C2035/0827 , B29C2035/0833 , B29C2059/023 , B29K2083/00 , B29L2009/005 , B29L2031/3475 , B32B27/06 , B32B38/10 , B32B2038/0076 , B32B2383/00 , B32B2457/20 , C23C16/455 , G03F7/0002 , G03F7/2014
摘要： 本发明公开了一种制备图案化的结构化固体表面的方法，该方法包括：用回填材料填充结构化模板以产生结构化转印膜，以及将所述结构化转印膜层合至受体基底。所述受体基底包括图案化粘附促进层。所述模板层能够被从所述回填层去除，同时基本上完整地保留所述回填层的所述结构化表面的至少一部分。所述回填层可包含至少两种不同的材料，所述材料中的一者可为粘附促进层。在一些实施例中，所述回填层包含硅倍半氧烷，诸如聚乙烯硅倍半氧烷。所述结构化转印膜是稳定的中间体，所述中间体可用隔离衬件暂时覆盖以用于储存和处理。
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公开(公告)号：CN105556047B
公开(公告)日：2019-05-07
申请号：CN201480049406.7
申请日：2014-09-11
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 迈克尔·本顿·弗里 , 马丁·B·沃克 , 特里·O·科利尔 , 玛格丽特·M·沃格尔-马丁
摘要： 本发明公开了用于真空玻璃单元的支柱递送膜。该递送膜包括支撑膜或凹坑带材、在支撑膜上的牺牲材料以及多根支柱。支柱至少部分地嵌入牺牲材料或形成在牺牲材料模具内，并且牺牲材料能够被移除，同时使支柱保持基本上完整。为了制备绝缘玻璃单元，递送膜被层合至诸如玻璃窗格的接收器，并且移除支撑膜和牺牲材料以使支柱保持在玻璃上。
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公开(公告)号：CN107835741A
公开(公告)日：2018-03-23
申请号：CN201680035703.5
申请日：2016-06-13
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃克 , 托马斯·J·梅茨勒 , 赛缪尔·J·卡彭特 , 丹尼斯·泰尔齐奇 , 米切尔·T·诺曼森 , 苏曼·K·帕特尔 , 米哈伊尔·L·佩库洛夫斯基 , 唐纳德·G·皮特森 , 特里·O·科利尔
IPC分类号： B32B3/10 , B32B3/30 , B32B5/02 , B32B7/02 , B32B7/06 , B32B7/12 , B32B15/04 , B32B15/08 , B32B17/06 , B32B27/08 , B32B27/10 , B32B27/12 , B32B27/28 , B32B27/30 , B32B27/36 , B32B29/00 , G02B6/00
摘要： 本公开涉及分段式转印带(100)和非分段式转印带(800)，所述转印带包括至少一个图形层。所述转印带包括可移除模板层(110)；转印层(180)，所述转印层包括具有至少一个第一图形层(140)的回填层(120)，和粘合剂层(150)。分段式转印带还包括在分段式转印带中的至少一个转印型区段(185)、至少一个非转印型区段(187)，并且包括至少一个切口(190)。本公开还提供光学组件，例如微光学组件，所述光学组件可由包括至少一个图形层的所述转印带制造。本公开还提供形成所述转印带的方法以及制作所述微光学组件的方法。
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公开(公告)号：CN106660355A
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：CN201580046001.2
申请日：2015-08-26
申请人： 3M创新有限公司
摘要： 本发明公开了转印膜、用其制备的制品以及制备和使用转印膜以形成电堆叠的方法。所述转印膜(100)可包括形成电原层堆叠(20)的多个共延伸的电原层(22、23、24)，至少所选择的电原层或每个电原层独立地包含至少25重量％的牺牲材料和热稳定材料并且具有小于25微米的均匀厚度。所述转印膜可包括形成电原层堆叠的多个共延伸的电原层，当加热至在其Tg和Tdec之间的温度时，至少所选择的原层或每个原层在100/s的剪切速率下独立地表现出在103泊和104泊之间的复数粘度。
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公开(公告)号：CN104870198A
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：CN201380066654.8
申请日：2013-12-12
申请人： 3M创新有限公司
发明人： 马丁·B·沃克 , 迈克尔·本顿·弗里 , 玛格丽特·M·沃格尔-马丁 , 埃文·L·施瓦茨 , 米奇斯瓦夫·H·马祖雷克 , 特里·O·科利尔
IPC分类号： B41M1/06
CPC分类号： H01L51/0097 , B32B3/263 , B81C2201/0191 , B82Y40/00 , C03C17/28 , C03C17/34 , G03F7/0002 , G03F7/161 , G03F7/34 , H01L27/322 , H01L27/3244 , H01L51/004 , H01L51/0094 , H01L2221/68368 , H01L2227/326 , H01L2251/301 , H01L2251/5338 , H01L2251/5369 , Y10T428/24521
摘要： 本发明公开了一种转印带，该转印带包括载体；模板层，该模板层具有施加到所述载体的第一表面并且具有与所述第一表面相对的第二表面，其中第二表面包括非平面结构化表面；隔离涂层，该隔离涂层设置在所述模板层的非平面结构化表面上；和回填层，该回填层设置在所述隔离涂层的非平面结构化表面上并且适形于所述隔离涂层的非平面结构化表面。在一些实施例中，回填层包含硅倍半氧烷，例如聚乙烯基硅倍半氧烷。本发明所公开的转印带能够用于将复制结构转印到受体基底。
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