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    曝光设备
    1.
    发明授权
    曝光设备 失效

    公开(公告)号：CN104885011B

    公开(公告)日：2018-07-17

    申请号：CN201380046149.7

    申请日：2013-09-02

    申请人： 克列奥半导体技术有限公司

    发明人： 汉斯·奥普韦尔 ,  克劳斯·云格尔

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2014 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/70341

    摘要： 一种用于基体的曝光设备，该基体具有带彼此背对的基体基底表面的平面材料作为基体基底，并且在基体基底的每个基体基底表面上具有感光层，在该感光层中通过有选择的曝光能够触发光化学过程，并且由此能够产生有选择的结构，该曝光设备包括机架和至少一个曝光单元，为了改进该曝光设备使其可以尽可能高效地曝光带有在背对的侧上布置的敏感层的基体，建议在机架上设置基体引导部，该基体引导部使基体以其基体表面平行于曝光引导面且横向于曝光引导面限定地定位以及能沿平行于曝光引导面延展的进给方向运动地进行引导，并且为了对感光层进行曝光，在曝光引导面的两侧设置有固定地布置在机架上的曝光单元，用于分别对其中一个感光层进行有选择地曝光，并且基体能相对于曝光单元沿进给方向运动以进行曝光。

    有机膜形成装置以及有机膜形成方法
    2.
    发明授权
    有机膜形成装置以及有机膜形成方法 有权

    公开(公告)号：CN103154303B

    公开(公告)日：2016-01-06

    申请号：CN201180050603.7

    申请日：2011-10-19

    申请人： 株式会社爱发科

    发明人： 内田一也 ,  大森大辅 ,  宫内淳

    IPC分类号： C23C14/12 ,  C23C14/58 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

    CPC分类号： H05B33/10 ,  G03F1/50 ,  G03F7/2014

    摘要： 本发明提供一种使有机材料附着之后，使成膜对象物静止，固化有机材料，能将有机膜成膜的有机膜形成装置以及有机膜形成方法。在真空槽（11）内配置的基板台（14）上配置成膜对象物（5），在成膜对象物（5）的表面接触配置掩模（31），冷却成膜对象物（5），将真空槽（11）内进行真空排气的同时，从掩模（31）上喷出当照射光时进行固化的光反应性材料，并使其附着于在掩模（31）的开口（34）底面露出的成膜对象物（5）的表面，在附着的部分形成光反应性材料的液状膜，在停止了真空槽（11）内的真空排气的状态下，在放射光的光照射装置（24）中，使光放射的同时，在掩模上移动，使液状膜固化，形成光反应性材料的有机膜。

    曝光设备
    3.
    发明公开
    曝光设备 失效

    公开(公告)号：CN104885011A

    公开(公告)日：2015-09-02

    申请号：CN201380046149.7

    申请日：2013-09-02

    申请人： 克列奥半导体技术有限公司

    发明人： 汉斯·奥普韦尔 ,  克劳斯·云格尔

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2014 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/70341

    摘要： 一种用于基体的曝光设备，该基体具有带彼此背对的基体基底表面的平面材料作为基体基底，并且在基体基底的每个基体基底表面上具有感光层，在该感光层中通过有选择的曝光能够触发光化学过程，并且由此能够产生有选择的结构，该曝光设备包括机架和至少一个曝光单元，为了改进该曝光设备使其可以尽可能高效地曝光带有在背对的侧上布置的敏感层的基体，建议在机架上设置基体引导部，该基体引导部使基体以其基体表面平行于曝光引导面且横向于曝光引导面限定地定位以及能沿平行于曝光引导面延展的进给方向运动地进行引导，并且为了对感光层进行曝光，在曝光引导面的两侧设置有固定地布置在机架上的曝光单元，用于分别对其中一个感光层进行有选择地曝光，并且基体能相对于曝光单元沿进给方向运动以进行曝光。

    用于紫外线曝光装置的真空吸附器
    6.
    发明授权
    用于紫外线曝光装置的真空吸附器 失效

    公开(公告)号：CN101730865B

    公开(公告)日：2013-11-06

    申请号：CN200880016270.4

    申请日：2008-05-15

    申请人： KSE株式会社

    发明人： 李秉锡 ,  姜相年 ,  金炳燮

    IPC分类号： G03F7/20

    CPC分类号： G03F7/2014 ,  G03B27/60

    摘要： 本发明涉及一种用于紫外线曝光装置的真空吸附器。更具体地说，涉及一种提高用于在印刷电路板上形成电路图形的曝光装置的曝光速度、并且减少曝光不良的用于上述曝光装置的真空吸附器。本发明涉及的用于紫外线曝光装置的真空吸附器包括聚酯薄膜层、丙烯酰胺树脂板和固定框架。上述聚酯薄膜层固定在上述固定框架的一侧面，上述丙烯酰胺树脂板固定在上述聚酯薄膜层的上面。另外，上述真空吸附器的上述固定框架将上述丙烯酰胺树脂板隔着一定间距固定在上述聚酯薄膜层的上面。本发明在曝光过程中，不需要使用板条平刮聚酯薄膜的人工作业，从而可提高工作效率，同时防止因作业熟练度的不同而产生不合格产品的情况。

    粘合片
    8.
    发明公开
    粘合片 有权

    公开(公告)号：CN102762683A

    公开(公告)日：2012-10-31

    申请号：CN201180009614.0

    申请日：2011-02-09

    申请人： 木本股份有限公司

    发明人： 松下武司 ,  长谷川刚 ,  栗岛进

    IPC分类号： C09J7/02 ,  C09J133/04 ,  G03F1/56

    CPC分类号： C09J133/04 ,  C09J7/22 ,  C09J7/35 ,  C09J2433/00 ,  C09J2463/00 ,  G03F1/38 ,  G03F7/2014

    摘要： 本发明为在基材上具有粘合层的粘合片，将粘合层的蠕变率设为2.5％以下、弹性变化率为73％以上。进而，将粘合层的马氏硬度设为80N/mm2以下。该粘合片在被粘物上具有凹凸的情形时，即使反复与凸部进行压接，也可抑制由凸部所产生的变形，防止因变形所引起的光透过率的降低即白化。因此，适合作为对于使用具有通孔等的凹凸的基板来制造印刷配线板等时所使用的光掩模用的表面保护膜来使用。