公开(公告)号：CN104885011B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201380046149.7

申请日：2013-09-02

Applicant: 克列奥半导体技术有限公司

Inventor： 汉斯·奥普韦尔 ,  克劳斯·云格尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2014 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种用于基体的曝光设备，该基体具有带彼此背对的基体基底表面的平面材料作为基体基底，并且在基体基底的每个基体基底表面上具有感光层，在该感光层中通过有选择的曝光能够触发光化学过程，并且由此能够产生有选择的结构，该曝光设备包括机架和至少一个曝光单元，为了改进该曝光设备使其可以尽可能高效地曝光带有在背对的侧上布置的敏感层的基体，建议在机架上设置基体引导部，该基体引导部使基体以其基体表面平行于曝光引导面且横向于曝光引导面限定地定位以及能沿平行于曝光引导面延展的进给方向运动地进行引导，并且为了对感光层进行曝光，在曝光引导面的两侧设置有固定地布置在机架上的曝光单元，用于分别对其中一个感光层进行有选择地曝光，并且基体能相对于曝光单元沿进给方向运动以进行曝光。

公开(公告)号：CN104885011A

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：CN201380046149.7

申请日：2013-09-02

Applicant: 克列奥半导体技术有限公司

Inventor： 汉斯·奥普韦尔 ,  克劳斯·云格尔

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/2014 ,  G03F7/2032 ,  G03F7/70341

Abstract: 一种用于基体的曝光设备，该基体具有带彼此背对的基体基底表面的平面材料作为基体基底，并且在基体基底的每个基体基底表面上具有感光层，在该感光层中通过有选择的曝光能够触发光化学过程，并且由此能够产生有选择的结构，该曝光设备包括机架和至少一个曝光单元，为了改进该曝光设备使其可以尽可能高效地曝光带有在背对的侧上布置的敏感层的基体，建议在机架上设置基体引导部，该基体引导部使基体以其基体表面平行于曝光引导面且横向于曝光引导面限定地定位以及能沿平行于曝光引导面延展的进给方向运动地进行引导，并且为了对感光层进行曝光，在曝光引导面的两侧设置有固定地布置在机架上的曝光单元，用于分别对其中一个感光层进行有选择地曝光，并且基体能相对于曝光单元沿进给方向运动以进行曝光。