激光加工方法及半导体芯片

    公开(公告)号:CN101862904B

    公开(公告)日:2011-11-30

    申请号:CN201010158518.X

    申请日:2005-03-25

    Abstract: 本发明提供一种激光加工方法,即使在形成有包括多个功能元件的叠层部的基板较厚的情况下,也可高精度地切断基板及叠层部。是通过将背面(21)作为激光射入面,使聚光点(P)对准于基板(4)的内部并照射激光(L),在基板(4)的内部形成改质区域(71、72、73)。此时,在基板(4)的表面(3)及质量改质区域(71)的表面侧端部的距离为5μm~15μm的位置上,形成质量改质区域(71)。在上述位置形成质量改质区域(71)时,可使形成在基板(4)的表面(3)上的叠层部(16)(在此,为层间绝缘膜(17a、17b))与基板(4)一起沿着预定切断线精度良好地被切断。

    激光加工方法及半导体芯片

    公开(公告)号:CN1938827B

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200580010860.2

    申请日:2005-03-25

    Abstract: 本发明提供一种激光加工方法,即使在形成有包括多个功能元件的叠层部的基板较厚的情况下,也可高精度地切断基板及叠层部。是通过将背面(21)作为激光射入面,使聚光点(P)对准于基板(4)的内部并照射激光(L),在基板(4)的内部形成改质区域(71、72、73)。此时,在基板(4)的表面(3)及质量改质区域(71)的表面侧端部的距离为5μm~15μm的位置上,形成质量改质区域(71)。在上述位置形成质量改质区域(71)时,可使形成在基板(4)的表面(3)上的叠层部(16)(在此,为层间绝缘膜(17a、17b))与基板(4)一起沿着预定切断线精度良好地被切断。

Patent Agency Ranking