半导体发光装置
    21.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106257696B

    公开(公告)日:2020-07-28

    申请号:CN201610437305.8

    申请日:2016-06-17

    Abstract: 一种半导体发光装置,包括:发光堆叠件,其包括第一导电类型的半导体层、第二导电类型的半导体层以及布置在第一导电类型的半导体层与第二导电类型的半导体层之间的有源层;波长转换层,其布置在发光堆叠件上,并且被构造为将从有源层发射的具有第一波长的光中的至少一部分转换为具有第二波长的光;以及光控制层,其布置在发光堆叠件与波长转换层之间,并且包括第一绝缘层和第二绝缘层,第一绝缘层的折射率比发光堆叠件的折射率低,并且第二绝缘层的折射率比第一绝缘层的折射率高0.5或更多。

    包括氮化物基半导体全方向反射器的发光装置

    公开(公告)号:CN103325904B

    公开(公告)日:2017-06-16

    申请号:CN201310080154.1

    申请日:2013-03-13

    CPC classification number: H01L33/60 H01L33/10

    Abstract: 本申请公开了一种包括氮化物基半导体全方向反射器的发光装置。该发光装置包括氮化物基反射器和置于所述氮化物基反射器上的发光单元。所述氮化物基反射器包括交替层叠的未掺杂氮化物半导体层和重度掺杂氮化物半导体层。在所述重度掺杂氮化物半导体层的边缘处对其进行蚀刻,以在相邻的未掺杂氮化物半导体层之间形成空气层。

    半导体发光装置
    25.
    发明公开

    公开(公告)号:CN106257696A

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201610437305.8

    申请日:2016-06-17

    Abstract: 一种半导体发光装置,包括:发光堆叠件,其包括第一导电类型的半导体层、第二导电类型的半导体层以及布置在第一导电类型的半导体层与第二导电类型的半导体层之间的有源层;波长转换层,其布置在发光堆叠件上,并且被构造为将从有源层发射的具有第一波长的光中的至少一部分转换为具有第二波长的光;以及光控制层,其布置在发光堆叠件与波长转换层之间,并且包括第一绝缘层和第二绝缘层,第一绝缘层的折射率比发光堆叠件的折射率低,并且第二绝缘层的折射率比第一绝缘层的折射率高0.5或更多。

    转移微型半导体芯片的方法及转移结构

    公开(公告)号:CN118335852A

    公开(公告)日:2024-07-12

    申请号:CN202410029785.9

    申请日:2024-01-09

    Abstract: 提供了一种转移微型半导体芯片的方法和转移结构。该方法包括:提供多个基底转移基板,每个所述基底转移基板包括多个凹槽;在第一底部基板上对准所述多个基底转移基板;在第二底部基板上对准所述多个基底转移基板;通过将微型半导体芯片转移到第一底部基板的基底转移基板来提供目标转移结构;通过将微型半导体芯片转移到第二底部基板的基底转移基板来提供初步转移结构;以及将目标转移结构的基底转移结构当中的未转移微型半导体芯片的错误基底转移结构替换为初步目标转移结构的基底转移结构当中的在其上转移了微型半导体芯片的正常基底转移结构。

    器件转移基板、器件转移结构和显示装置

    公开(公告)号:CN116110815A

    公开(公告)日:2023-05-12

    申请号:CN202210898505.9

    申请日:2022-07-28

    Abstract: 本发明提供一种器件转移基板以及包括该器件转移基板的器件转移结构和显示装置。该器件转移基板包括多个凹槽,其中所述多个凹槽中的每个包括具有第一图形的形状的第一区域和具有第二图形的形状的第二区域,其中第一区域的一部分与第二区域的一部分部分地重叠以形成重叠区域,其中重叠区域在与穿过第一图形的中心和第二图形的中心的直线交叉的方向上的最大宽度小于第一图形的直径或对角线长度并且小于第二图形的直径或对角线长度。

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