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公开(公告)号：CN102414339A
公开(公告)日：2012-04-11
申请号：CN201080017943.5
申请日：2010-04-21
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: C23C14/12 , C23C14/228 , C23C14/246
Abstract: 本发明提供一种能使保持了高流动性的状态的颗粒状的有机材料有效地升华、溶解的蒸镀处理装置和蒸镀处理方法。是通过蒸镀在基板上使薄膜成膜的蒸镀处理装置，具备供给材料气体的、自由减压的材料供给装置和在上述基板上使薄膜成膜的成膜装置，所述材料供给装置具有对材料进行定量的定量部和使通过了所述定量部的材料气化的材料气体生成部。
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公开(公告)号：CN102224275A
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：CN201080003266.1
申请日：2010-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种蒸镀头以及具有该蒸镀头的成膜装置，不仅对以往的小型基板还对大型基板也能够使在各个部位的喷射量均等，并且喷射确保均热性的材料气体，从而可以形成均匀的薄膜。蒸镀头被设置在对基板形成薄膜的蒸镀处理内，使材料气体向基板喷出，该蒸镀头具有外侧壳体、和配置在所述外侧壳体内并导入材料气体的内侧壳体，在所述内侧壳体中形成有使材料气体向基板喷射的开口部，在所述外侧壳体的外面或者所述外侧壳体与所述内侧壳体之间，配置有对材料气体进行加热的蒸镀头。
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公开(公告)号：CN101421828B
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：CN200780012931.1
申请日：2007-10-01
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/304 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/02063 , H01J37/32862 , H01L21/02071 , H01L21/76814 , H01L21/76825 , H01L21/76828
Abstract: 本发明提供基板处理方法和基板处理装置。该基板处理方法是对在表面上形成有含有氧化硅的无机物与含有碳和氟的有机物的复合生成物的基板进行的基板处理方法，其特征在于，包括：对上述基板的表面照射紫外线，除去上述有机物的一部分的紫外线处理工序；在上述紫外线处理工序之后进行，向上述基板的表面供给氟化氢的蒸气，除去上述无机物的至少一部分的氟化氢处理工序；和在上述紫外线处理工序之后进行，通过对上述基板进行加热，使尚未被除去的上述有机物的一部分收缩的加热处理工序。
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公开(公告)号：CN101933120A
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：CN200980103595.0
申请日：2009-04-13
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/02 , H01L21/304 , H01L21/3065
CPC classification number: H01L21/67017 , H01L21/02041
Abstract: 本发明是一种环境气氛净化装置，其特征在于，具备：在被处理体所处的环境气氛中形成下降流的机构；多个离子发生器，它们位于被处理体的上方位置，且在从上方所见的布局中隔着上述被处理体对称地配置，对各上述下降流向横向供给正或负的任一方的离子；向上述被处理体施加与施加到上述多个离子发生器的电极的电压相同符号的直流电压的机构，上述对称地配置的离子发生器配置成相互面对。
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公开(公告)号：CN101855535A
公开(公告)日：2010-10-06
申请号：CN200980100933.5
申请日：2009-01-20
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: G01N15/14
CPC classification number: H01L21/67207 , G01N1/4044 , G01N15/06 , G01N2015/0681 , G01N2015/0693
Abstract: 本发明提供粒子检测辅助方法和粒子检测方法，能够实现以现有的光散射光不能检测出的微小的有机类粒子和无机类粒子的准确的检测。该方法包括：吸附渗透工序，通过使有机类气体与半导体制造工序中的有机类粒子接触而使有机类气体成分吸附和渗透于该有机类粒子；发泡工序，通过使已与有机类气体接触的有机类粒子与加热气体接触而使该有机类粒子发泡膨胀；有机类粒子检测工序，向发泡膨胀的有机类粒子照射光，通过接受来自该有机类粒子的散射光而检测上述有机类粒子；氧化工序，通过使无机类粒子和有机类粒子氧化而分解该有机类粒子并使上述无机类粒子膨胀；和无机类粒子检测工序，向膨胀的无机类粒子照射光，通过接受来自该无机类粒子的散射光而检测上述无机类粒子。
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公开(公告)号：CN101321572A
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：CN200780000518.3
申请日：2007-04-02
Applicant: 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: B01D46/521 , B01D46/0023
Abstract: 本发明提供除去气体中的颗粒的气体净化装置，其特征在于，具有第一过滤层和第二过滤层，构成所述第一过滤层的纤维的直径比构成所述第二过滤层的纤维的直径粗。此外，本发明提供使用所述气体净化装置的半导体制造装置。
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公开(公告)号：CN100437901C
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：CN200610151453.X
申请日：2004-10-08
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L21/00 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H01L23/31 , H01L21/67 , C23C16/44 , C23C14/22 , C23F4/00 , H01J37/32 , H05H1/46
Abstract: 本发明提供一种防止微粒附着装置，为了防止在基板处理工序的装置内的微粒附着在基板上，在利用离子发生装置使微粒带电的同时，利用直流电源将与带电微粒同极性的直流电压施加在基板上。而且，在将气体导入基板处理工序的真空处理室的上下电极之间，将高频电压施加在上下电极上生成等离子体时，以多阶段顺序施加高频电压。即，在最初步骤中，将能够等离子体点火的最小限度的高频电压施加在上下电极上，生成最小限度等离子体，然后，分阶段地增加所施加电压，生成规定的等离子体。
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公开(公告)号：CN107618265B
公开(公告)日：2021-05-28
申请号：CN201710573623.1
申请日：2017-07-14
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种向工件排出液滴的液滴排出装置，其无需每一种功能液都进行调节，能够基于滴注到检查用介质上的功能液滴的拍摄结果，适当地调节排出状态。液滴排出装置(1)包括：向工件排出功能液的液滴的喷头(24)；由检查膜(52)的具有憎液性的表面接受来自该喷头(24)的检查排出的排出检查单元(50)；对检查排出到检查膜(52)的表面上的液滴进行拍摄的排出检查照相机(31)；和对检查膜(52)的具有憎液性的表面进行除电的除电单元(80)，在进行液滴的检查排出之前，通过除电单元(80)对检查膜(52)的表面进行除电。
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公开(公告)号：CN111952483A
公开(公告)日：2020-11-17
申请号：CN202010376827.8
申请日：2020-05-07
Applicant: 东京毅力科创株式会社
IPC: H01L51/56
Abstract: 本发明提供一种使基片上的溶液在减压状态下干燥的减压干燥装置，其包括：用于收纳所述基片的容器；设置在所述容器内的用于载置所述基片的载置台；和溶剂收集部件，其以与载置在所述载置台上的所述基片相对的方式设置在所述容器内，用于暂时收集从该基片气化了的所述溶液中的溶剂，所述溶剂收集部件具有多个溶剂收集单元部件，该溶剂收集单元部件具有多个开口且形成为平板状，所述溶剂收集部件通过使所述多个溶剂收集单元部件各自的俯视时的侧端彼此接合而构成。根据本发明，即使是大型的基片也能够使溶剂的干燥状态在面内均匀。
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公开(公告)号：CN107464877B
公开(公告)日：2020-01-14
申请号：CN201710417403.X
申请日：2017-06-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社
Abstract: 本发明提供一种检查装置，其能够基于利用功能液滴的拍摄结果的功能液的排出状态的检查结果适当校正功能液的排出条件。检查装置(1)检查来自喷嘴的功能液的排出状态。检查装置(1)包括拍摄由从喷嘴排出的功能液在检查片(20)上形成的多个液滴(21)的拍摄部(10)；基于拍摄部(10)的拍摄结果，测量液滴(21)的形成状态的测量部(11a)；和利用拍摄部(10)的拍摄结果，将多个液滴(21)中作为测量部(11a)的测量对象的液滴基于该液滴的形成状态进行选择的选择部(11b)。
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