公开(公告)号：CN102224275B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN201080003266.1

申请日：2010-04-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野裕司 ,  江面知彦 ,  林辉幸 ,  田村明威 ,  齐藤美佐子

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明提供一种蒸镀头以及具有该蒸镀头的成膜装置，不仅对以往的小型基板还对大型基板也能够使在各个部位的喷射量均等，并且喷射确保均热性的材料气体，从而可以形成均匀的薄膜。蒸镀头被设置在对基板形成薄膜的蒸镀处理内，使材料气体向基板喷出，该蒸镀头具有外侧壳体、和配置在所述外侧壳体内并导入材料气体的内侧壳体，在所述内侧壳体中形成有使材料气体向基板喷射的开口部，在所述外侧壳体的外面或者所述外侧壳体与所述内侧壳体之间，配置有对材料气体进行加热的蒸镀头。

公开(公告)号：CN103430624A

公开(公告)日：2013-12-04

申请号：CN201280011161.X

申请日：2012-03-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  国立大学法人九州大学

Inventor： 江面知彦 ,  安达千波矢 ,  松波成行

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/24 ,  G09F9/30 ,  H01L27/32 ,  H01L51/50 ,  H05B33/12 ,  H05B33/22

CPC classification number: H01L51/0008 ,  C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  H01L27/3211 ,  H01L27/3281 ,  H01L51/001 ,  H01L51/0011 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明的目的在于不使用阴影掩膜板而利用蒸镀法在基板上高效率地分涂形成多个线状薄膜。该蒸镀装置作为基板结构具有：以能够搬入搬出的方式收容处理对象的玻璃基板（S）的处理室（腔室）（10）；在该处理室（10）内保持基板（S）并使其在水平的一个方向（X方向）上移动的移动机构（12）；分别使多种（例如7种）有机物层的原料或成膜材料个别地蒸发而生成原料气体的蒸发机构（14）；从该蒸发机构（14）接收上述多种（7种）原料气体，将这些原料气体向移动的基板（S）喷出的原料气体喷出部（16）；和控制装置内的各部分和整体的状态、模式或动作的控制器（18）。

公开(公告)号：CN102171377A

公开(公告)日：2011-08-31

申请号：CN200980138649.7

申请日：2009-09-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 生田浩之 ,  江面知彦 ,  鎌田丰弘

IPC: C23C14/24

CPC classification number: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  C23C14/541 ,  C23C14/544 ,  C23C14/56

Abstract: 蒸镀装置(10)具有：多个蒸镀源单元(100)，其具有材料容器(110a)与载气导入管(110b)，并使被收纳在材料容器(110a)中的成膜材料气化，借助从载气导入管(110b)导入的第1载气输送成膜材料的气化分子；连接管(200)，其与多个蒸镀源单元(100)连接，输送在各个蒸镀源单元中被输送的成膜材料的气化分子；旁路管(300)，其将第2载气直接导入连接管(200)；处理容器(Ch)，其内置有与连接管(200)连接的喷出机构(400)，并从喷出机构(400)喷出利用第1及第2载气输送的成膜材料的气化分子，在该处理容器内部对基板进行成膜处理。

公开(公告)号：CN102414339A

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN201080017943.5

申请日：2010-04-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野裕司 ,  江面知彦 ,  林辉幸 ,  田村明威 ,  齐藤美佐子 ,  桑田拓岳 ,  大槻志门

IPC: C23C14/24 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

CPC classification number: C23C14/12 ,  C23C14/228 ,  C23C14/246

Abstract: 本发明提供一种能使保持了高流动性的状态的颗粒状的有机材料有效地升华、溶解的蒸镀处理装置和蒸镀处理方法。是通过蒸镀在基板上使薄膜成膜的蒸镀处理装置，具备供给材料气体的、自由减压的材料供给装置和在上述基板上使薄膜成膜的成膜装置，所述材料供给装置具有对材料进行定量的定量部和使通过了所述定量部的材料气化的材料气体生成部。

公开(公告)号：CN102369787A

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：CN201080014744.9

申请日：2010-03-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 江面知彦 ,  继田浩平 ,  鳄渕美子

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56 ,  H01L51/50

CPC classification number: H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  C23C14/246 ,  C23C14/562 ,  C23C14/568 ,  H01L51/5092 ,  H01L51/5221 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。其防止形成电子注入层的有机EL元件的金属层的劣化。成膜装置PM1具有：处理容器(100)，其于内部在基板上实施所需的处理；蒸镀源(200)(第一蒸镀源)，其收纳有机材料，将被收纳的有机材料加热并使其气化；第一喷出机构(120a)～(120f)，其内置于处理容器(100)并与蒸镀源(200)连结，将在蒸镀源(200)被气化的有机材料排向处理容器内的基板G；气化器(300)(第二蒸镀源)，其收纳锂等碱金属材料，将被收纳的碱金属材料加热并使其气化；第二喷出机构(130)，其内置于处理容器(100)并与气化器(300)连结，将在气化器(300)被气化的碱金属材料排向处理容器内的基板G。

公开(公告)号：CN102224275A

公开(公告)日：2011-10-19

申请号：CN201080003266.1

申请日：2010-04-02

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 小野裕司 ,  江面知彦 ,  林辉幸 ,  田村明威 ,  齐藤美佐子

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10

Abstract: 本发明提供一种蒸镀头以及具有该蒸镀头的成膜装置，不仅对以往的小型基板还对大型基板也能够使在各个部位的喷射量均等，并且喷射确保均热性的材料气体，从而可以形成均匀的薄膜。蒸镀头被设置在对基板形成薄膜的蒸镀处理内，使材料气体向基板喷出，该蒸镀头具有外侧壳体、和配置在所述外侧壳体内并导入材料气体的内侧壳体，在所述内侧壳体中形成有使材料气体向基板喷射的开口部，在所述外侧壳体的外面或者所述外侧壳体与所述内侧壳体之间，配置有对材料气体进行加热的蒸镀头。