公开(公告)号：CN101405855A

公开(公告)日：2009-04-08

申请号：CN200780009926.5

申请日：2007-06-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  川村茂 ,  继田浩平 ,  林辉幸

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67207 ,  G01N21/3103 ,  G01N21/68 ,  H01J49/0463

Abstract: 本发明公开的分析装置，包括：第一处理部，其通过照射紫外线，除去在基板上形成的覆盖膜；第二处理部，其向基板的表面供给溶解液，使基板上的分析对象物质溶解；和第三处理部，其对第二工序中使用的溶解液中的分析对象物质进行分析。

公开(公告)号：CN101405855B

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：CN200780009926.5

申请日：2007-06-21

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 土桥和也 ,  川村茂 ,  继田浩平 ,  林辉幸

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67207 ,  G01N21/3103 ,  G01N21/68 ,  H01J49/0463

Abstract: 本发明公开的分析装置，包括：第一处理部，其通过照射紫外线，除去在基板上形成的覆盖膜；第二处理部，其向基板的表面供给溶解液，使基板上的分析对象物质溶解；和第三处理部，其对第二工序中使用的溶解液中的分析对象物质进行分析。

公开(公告)号：CN102369787A

公开(公告)日：2012-03-07

申请号：CN201080014744.9

申请日：2010-03-18

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 江面知彦 ,  继田浩平 ,  鳄渕美子

IPC: H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  C23C14/56 ,  H01L51/50

CPC classification number: H05B33/10 ,  C23C14/12 ,  C23C14/243 ,  C23C14/246 ,  C23C14/562 ,  C23C14/568 ,  H01L51/5092 ,  H01L51/5221 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供一种成膜装置。其防止形成电子注入层的有机EL元件的金属层的劣化。成膜装置PM1具有：处理容器(100)，其于内部在基板上实施所需的处理；蒸镀源(200)(第一蒸镀源)，其收纳有机材料，将被收纳的有机材料加热并使其气化；第一喷出机构(120a)～(120f)，其内置于处理容器(100)并与蒸镀源(200)连结，将在蒸镀源(200)被气化的有机材料排向处理容器内的基板G；气化器(300)(第二蒸镀源)，其收纳锂等碱金属材料，将被收纳的碱金属材料加热并使其气化；第二喷出机构(130)，其内置于处理容器(100)并与气化器(300)连结，将在气化器(300)被气化的碱金属材料排向处理容器内的基板G。