公开(公告)号：CN109633964A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201910125647.X

申请日：2019-02-19

申请人： 惠科股份有限公司

发明人： 黄北洲

IPC分类号： G02F1/1333 ,  G03F7/00

CPC分类号： G02F1/1333 ,  G03F7/0035

摘要： 本发明公开了一种导电膜的制作方法，包括步骤：在待涂布导电层的待涂布对象上涂布光阻；通过掩膜版曝光涂布光阻后的待涂布对象并显影处理，定义出无需涂布导电层的部分；在显影处理后的待涂布对象上涂布导电层；在涂布导电层后通过预设方式对涂布导电层后的待涂布对象清洗将无需涂布导电层的部分从待涂布对象上剥离，得到保留了需要涂布部分的导电层的待涂布对象。本发明还提供一种显示面板，本发明提供一种新的导电层的制作方法，省去湿法蚀刻的环节，避免因导电蚀刻药水特性，容易结晶，很容易发生制程异常与漏液风险，导致缺陷产生的问题，提高液晶面板的良率。

公开(公告)号：CN109307987A

公开(公告)日：2019-02-05

申请号：CN201810814943.6

申请日：2018-07-24

申请人： 佳能株式会社

发明人： 水谷将树

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70191 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70141 ,  G03F7/70258 ,  G03F7/70266 ,  G03F7/706 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/7085 ,  G03F7/70308

摘要： 公开了曝光装置和物品制造方法。被配置为使基板暴露于光的装置包括：照明光学系统，被配置为照明掩模；投影光学系统，被配置为将掩模的图案投影到基板上；和偏心机构，被配置为使照明光学系统的至少一个光学元件相对于投影光学系统的光轴偏心，或者使投影光学系统的至少一个光学元件相对于照明光学系统的光轴偏心，并且，通过偏心机构使光学元件偏心来改变在从投影光学系统的聚焦位置散焦的位置处发生的旋转不对称畸变。

公开(公告)号：CN109031884A

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：CN201810864075.2

申请日：2018-08-01

申请人： 深圳先进技术研究院

发明人： 陶华露 ,  李文杰 ,  童君 ,  程冠铭 ,  冯叶 ,  隋帆 ,  李伟民 ,  钟国华 ,  杨春雷

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/70025

摘要： 本发明提供了微纳结构的制作方法及用于该制作方法中的系统，所述制作方法包括步骤：提供一衬底，并在所述衬底上制作形成相变薄膜；在所述相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜；利用激光穿过所述非线性饱和吸收膜，并按照预定图案对所述相变薄膜进行曝光；利用显影液对曝光后的相变薄膜进行显影，同时将所述非线性饱和吸收膜去除。所述方法一方面通过在相变薄膜上覆设非线性饱和吸收膜，使激光穿过所述非线性饱和吸收膜，对相变薄膜进行曝光以制作微纳结构，使激光光束更为集中，缩小了光斑，提高了制得的微纳结构的精度；另一方面选用飞秒激光作为激光源，避免激光的热效应影响非曝光区域，从而进一步提高了微纳结构的精度。

公开(公告)号：CN108962728A

公开(公告)日：2018-12-07

申请号：CN201711166831.6

申请日：2017-11-21

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 翁明晖 ,  吴承翰 ,  张庆裕 ,  林进祥

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/168 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/38 ,  H01L21/02118 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/02304 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/3081 ,  H01L21/31055 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/32115 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/0035

摘要： 本公开实施例提供集成电路的制造方法。此方法包含提供基底，其具有顶面和从顶面凹陷的沟槽，将敏感材料层涂布于基底的顶面上，其中敏感材料层填入沟槽中，对敏感材料层执行活化处理，使得部分的敏感材料层化学性地改变，以及对敏感材料层执行湿式化学工艺，使得敏感材料层位于沟槽之上的顶部部分被移除，其中敏感材料层的剩余部分的顶面与基底的顶面大致上共平面。该方法可以消除凹凸不平的轮廓，提供了平坦化的顶面。

公开(公告)号：CN108762000A

公开(公告)日：2018-11-06

申请号：CN201810463783.5

申请日：2018-05-15

申请人： 科立视材料科技有限公司

发明人： 钟锡祥 ,  陈仕海 ,  吴传响

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0035 ,  G03F7/0037

摘要： 本发明涉及一种3D玻璃曝光菲林制作工艺，包括以下步骤：（1）对3D曲面菲林预清洗；（2）对3D曲面菲林进行等离子清洁；（3）对3D曲面菲林喷涂隔绝UV光所用膜层；（4）对3D曲面菲林上的膜层进行预烘烤；（5）对3D曲面菲林上的膜层进行UV曝光固化；（6）对3D曲面菲林上的膜层进行高温固化烘烤；（7）对3D曲面菲林上的膜层进行镭射雕刻图形。

公开(公告)号：CN108333866A

公开(公告)日：2018-07-27

申请号：CN201711183989.4

申请日：2017-11-23

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张莉琳 ,  张庆裕 ,  林进祥

IPC分类号： G03F7/00

CPC分类号： H01L21/0276 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/091 ,  G03F7/095 ,  G03F7/423 ,  G03F7/70 ,  G03F7/0035

摘要： 本公开提供光刻图案化的方法的实施例。方法包括涂布光致抗蚀剂层于基板上，其中光致抗蚀剂层包括第一聚合物、第一光产酸剂、以及化学添加剂混合于溶剂中；对光致抗蚀剂层进行曝光工艺；以及对光致抗蚀剂层进行显影工艺，以形成图案化光致抗蚀剂层。化学添加剂在光致抗蚀剂层中的分布不一致。

公开(公告)号：CN106842824B

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201710108371.5

申请日：2017-02-27

申请人： 京东方科技集团股份有限公司

发明人： 黎午升

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F1/44 ,  G01B21/02 ,  G01B21/16 ,  G03F1/84 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/095 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

摘要： 本发明实施例公开了一种图形失真的检测方法及结构。该方案中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。

公开(公告)号：CN108231550A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：CN201710686801.1

申请日：2017-08-11

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 王筱姗 ,  吴承翰 ,  张庆裕 ,  林进祥

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： H05K3/064 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0035 ,  G03F7/094 ,  G03F7/202 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274

摘要： 提供一种材料组成以及方法，其包含形成图案化光阻层于基板上。图案化光阻层具有第一图案宽度与第一图案轮廓，且第一图案轮廓具有活性点位的第一比例。在一些例子中，将处理材料涂布至图案化光阻层。在一些实施例中，处理材料键结至图案化光阻层的表面，以提供处理后的图案化光阻层，处理后的图案化光阻层具有第二图案轮廓，第二图案轮廓具有活性点位的第二比例，且第二比例大于第一比例。举例来说，在涂布处理材料至图案化光阻层时，可进行第一图案缩减制程，其中处理后的图案化光阻层具有第二图案宽度，且第二图案宽度小于第一图案宽度。

公开(公告)号：CN106909032A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201610997545.3

申请日：2016-11-09

申请人： 三星电子株式会社

发明人： 金珠英 ,  朴贞珠 ,  朴珍 ,  罗惠燮

IPC分类号： G03F7/42 ,  G03F7/00 ,  C11D11/00 ,  C11D1/66 ,  H01L21/311

CPC分类号： H01L21/0337 ,  C11D1/00 ,  C11D11/0047 ,  G03F7/42 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0332 ,  G03F7/422 ,  C11D1/66 ,  G03F7/0035 ,  H01L21/31133

摘要： 公开清洗液和通过使用其制造集成电路器件的方法。所述清洗液包括表面活性剂和去离子水。所述表面活性剂包括具有支化结构的化合物，所述具有支化结构的化合物包括包含疏水性基团的主链和多个从所述主链支化且具有至少一个亲水性官能团的侧链。所述制造集成电路器件的方法包括：形成光刻胶图案，随后将所述清洗液施加至所述光刻胶图案上。

公开(公告)号：CN106905511A

公开(公告)日：2017-06-30

申请号：CN201610899613.2

申请日：2016-10-14

申请人： 三星SDI株式会社

发明人： 朴惟廷 ,  梁善暎 ,  权孝英

IPC分类号： C08G61/12 ,  C08G8/24 ,  C08G8/20 ,  C08G2/18 ,  C08G12/26 ,  G03F7/00

CPC分类号： C08G61/122 ,  C08G8/08 ,  C08G8/20 ,  C08G14/04 ,  C08G16/0268 ,  C08G16/0275 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/344 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  C08G2/18 ,  C08G8/24 ,  C08G12/26 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/3242 ,  C08G2261/334 ,  G03F7/0035

摘要： 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，其包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明提供的聚合物具有改进的溶解度，同时确保抗蚀刻性；有机层组成物具有机械特征和涂膜特性。