公开(公告)号：CN107674184A

公开(公告)日：2018-02-09

申请号：CN201710991556.5

申请日：2017-10-23

Applicant: 华南协同创新研究院

Inventor： 应磊 ,  彭沣 ,  胡黎文 ,  黄飞 ,  曹镛

IPC: C08G61/12 ,  C09D165/00 ,  C09D11/30 ,  C09D11/102 ,  H01L51/50 ,  H01L51/54 ,  H01L51/56

CPC classification number: C08G61/122 ,  C08G2261/122 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/143 ,  C08G2261/1452 ,  C08G2261/147 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/411 ,  C08G2261/95 ,  C09D11/102 ,  C09D11/30 ,  C09D165/00 ,  H01L51/0003 ,  H01L51/0004 ,  H01L51/0005 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/5072 ,  H01L2251/552

Abstract: 本发明属于有机光电技术领域，公开了一类含9,9,10,10-四氧-噻蒽的水/醇溶性聚合物及其制备方法与应用。该聚合物的结构式如式(1)所示，式中0

公开(公告)号：CN105622364A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00 ,  C07C49/84 ,  C08G61/04 ,  C08G61/122 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN105229054A

公开(公告)日：2016-01-06

申请号：CN201480019443.3

申请日：2014-02-06

Applicant: 艾芙迪卡公司

Inventor： N.B.杜克

IPC: C08G73/02 ,  C08G73/10 ,  C12P1/00 ,  C08F126/06 ,  H01M4/1399 ,  H01M6/00

CPC classification number: C08G12/04 ,  C08G12/06 ,  C08G12/08 ,  C08G12/40 ,  C08G61/124 ,  C08G67/00 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/18 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/364 ,  C08G2261/43 ,  C08G2261/44 ,  C08G2261/74 ,  C08G2261/76 ,  C08J3/24 ,  C08J2361/22 ,  C08J2361/32 ,  C08L61/22 ,  C08L61/32 ,  C09B23/107 ,  C09B26/02 ,  C09B47/00 ,  C09B55/006 ,  C09B57/00 ,  C09B57/008 ,  C12P17/10 ,  H01G9/004 ,  H01G11/04 ,  H01G11/26 ,  H01G11/32 ,  H01G11/48 ,  H01G2009/0007 ,  H01M4/62 ,  H01M4/622 ,  H01M4/624 ,  H01M4/8673 ,  Y02E10/549 ,  Y02E60/122 ,  Y02E60/13 ,  Y02E60/50

Abstract: 本发明一般涉及用于制备聚合物的底物和用于制备聚合物的方法。本发明一般还涉及聚合物和包含所述聚合物的装置。

公开(公告)号：CN107850860A

公开(公告)日：2018-03-27

申请号：CN201680045933.X

申请日：2016-07-11

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司

Inventor： P-W·庄 ,  王德岩 ,  孙纪斌 ,  P·特雷弗纳斯三世 ,  K·M·奥康奈尔

IPC: G03F7/40 ,  G03F7/023 ,  G03F7/004

CPC classification number: G03F7/0007 ,  C08F220/18 ,  C08F2800/20 ,  C08G61/124 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1426 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/228 ,  C08G2261/3221 ,  C08G2261/3324 ,  C08G2261/3327 ,  C08G2261/95 ,  C09D133/08 ,  C09D165/00 ,  G03F7/0044 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/037 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/327 ,  G03F7/40 ,  H01L27/3246 ,  H01L51/5221 ,  H01L51/56

Abstract: 提供一种用于制备聚合物粘合剂的光可成像组合物，所述组合物具有一种或多种单体单元共聚物、光敏性化合物和一种或多种有机金属化合物。所述共聚物包括一个或多个与所述有机金属化合物反应以在固化时形成交联网络的羟基或羧基官能团。所述光可成像组合物可以尤其适用于形成电子装置例如有机发光二极管的像素界定层。具体地说，根据本发明实施例的光可成像组合物在暴露于辐射之前不可溶于显影剂，在辐射暴露之后可溶于所述显影剂中，并且具有相对较高的玻璃化转变温度(Tg)，使得其适用于形成像素界定层。

公开(公告)号：CN106700036A

公开(公告)日：2017-05-24

申请号：CN201611257850.5

申请日：2016-12-30

Applicant: 中国石油大学(华东)

Inventor： 万文明 ,  刘东明 ,  田娣 ,  吕新虎 ,  李康康

IPC: C08G61/02 ,  C09K11/06

CPC classification number: C08G61/02 ,  C08G2261/11 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/522 ,  C09K11/06 ,  C09K2211/1425

Abstract: 本发明公开了一种具有聚集诱导发光效应的新型高分子及其制备方法，特别涉及Barbier类型缩合聚合制备高分子的方法，以4‑溴‑二苯甲酮为单体，在镁的存在下，发生一锅法Barbier自缩合聚合反应，制备出具有较好的聚集诱导发光效应的高分子。该方法合成工艺简单，操作性强，可以较低成本的、温和的制备具有聚集诱导发光效应的高分子材料，开辟了将聚集诱导发光效应引入应用广泛的高分子材料的新天地。

公开(公告)号：CN106632998A

公开(公告)日：2017-05-10

申请号：CN201611256104.4

申请日：2016-12-30

Applicant: 中国石油大学(华东)

Inventor： 万文明 ,  刘东明 ,  吕新虎 ,  李康康 ,  田娣

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/04

CPC classification number: C08G61/02 ,  C08G61/04 ,  C08G2261/11 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/148 ,  C08G2261/228 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/3326 ,  C08G2261/354

Abstract: 本发明公开了一种基于Barbier反应制备高分子的方法，该方法将Barbier反应引入到高分子的制备领域，以卤素和羰基基团作为反应基团，属于一锅缩聚法，制备工艺简单易行，操作性强，可以较低成本制备具有不同结构的高分子材料，是一种温和的高分子合成方法。本发明成功地将环境友好的Barbier反应引入到高分子的制备领域，这将会拓宽已有高分子的化学结构和特性的范畴，开辟了一个设计功能高分子材料的全新领域。

公开(公告)号：CN105175689A

公开(公告)日：2015-12-23

申请号：CN201510373988.0

申请日：2015-04-30

Applicant: 罗门哈斯电子材料有限公司 ,  罗门哈斯电子材料韩国有限公司

Inventor： 韩善华 ,  赵诚昱 ,  片海光 ,  李政埈 ,  山田晋太郎

IPC: C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  G03F7/20

CPC classification number: C08G61/128 ,  C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/76 ,  C08G2261/90 ,  C09D165/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405

Abstract: 某种芳香族醇与某种二芳基取代的脂肪族醇的聚合反应产物被用作半导体生产工艺中的底层。

公开(公告)号：CN104685648A

公开(公告)日：2015-06-03

申请号：CN201380046828.4

申请日：2013-09-06

Applicant: 诺瓦尔德股份有限公司

Inventor： 迈克·策尔纳 ,  凯·莱德雷尔 ,  安东·基里 ,  沃洛季米尔·森科维斯基 ,  伊莎贝尔·布丽吉特·沃伊特

IPC: H01L51/00 ,  H01L51/50

CPC classification number: H01L51/0043 ,  C08G12/28 ,  C08G61/10 ,  C08G61/12 ,  C08G61/123 ,  C08G61/124 ,  C08G61/128 ,  C08G73/08 ,  C08G2261/11 ,  C08G2261/12 ,  C08G2261/135 ,  C08G2261/1412 ,  C08G2261/1414 ,  C08G2261/142 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/143 ,  C08G2261/144 ,  C08G2261/146 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3162 ,  C08G2261/3221 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/51 ,  C08G2261/76 ,  C08G2261/79 ,  C08G2261/95 ,  C08J3/246 ,  C08J3/247 ,  C08J2365/00 ,  H01B1/12 ,  H01B1/127 ,  H01L51/0034 ,  H01L51/0035 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0038 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/004 ,  H01L51/0041 ,  H01L51/005 ,  H01L51/0051 ,  H01L51/0052 ,  H01L51/0059 ,  H01L51/0067 ,  H01L51/506 ,  H01L51/5076

Abstract: 本发明涉及电荷传输半导体材料，其包含：a)任选地至少一种电掺杂剂，和b)至少一种包含1,2,3-三唑交联单元的交联的电荷传输聚合物，涉及其制备方法，和涉及包含所述电荷传输半导体材料的半导体器件。

公开(公告)号：CN102918033B

公开(公告)日：2014-08-06

申请号：CN201180021941.8

申请日：2011-04-29

Applicant: 艾尼股份公司

Inventor： G·施姆普纳 ,  R·波 ,  A·佩雷吉诺 ,  M·卡尔达拉罗

IPC: C07D317/22 ,  C07D405/12 ,  C07D409/12 ,  C08G61/12 ,  H01L51/00

CPC classification number: C07D405/12 ,  C07D317/22 ,  C07D409/12 ,  C08G61/123 ,  C08G61/124 ,  C08G61/126 ,  C08G75/06 ,  C08G2261/124 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/3142 ,  C08G2261/3223 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3246 ,  C08G2261/411 ,  C08G2261/91 ,  H01L51/0036 ,  H01L51/0039 ,  H01L51/0043 ,  H01L51/0068 ,  H01L51/0072 ,  H01L51/42

Abstract: 具有通式(I)的单体和用于合成它们的方法，该方法包括根据下列方案的具有通式(Ш)的卤素衍生物(Z=Cl,Br,I)与甘油衍生物(Ⅳ)的羟基的醚化反应：(通式Ш，Ⅳ和I)(Ш)(Ⅳ)(I)。

公开(公告)号：CN105143979B

公开(公告)日：2019-07-05

申请号：CN201480021117.6

申请日：2014-04-01

Applicant: 日产化学工业株式会社

Inventor： 桥本圭祐 ,  西卷裕和 ,  新城彻也 ,  染谷安信 ,  柄泽凉 ,  坂本力丸

IPC: G03F7/11 ,  C08G61/02 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027

CPC classification number: C08G61/02 ,  C08G61/124 ,  C08G73/026 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/3241 ,  C08G2261/3424 ,  C08L65/00 ,  C08L79/02 ,  G03F7/091

Abstract: 本发明的课题是提供新的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种包含聚合物和溶剂的抗蚀剂下层膜形成用组合物，所述聚合物具有由下述式(1)表示的结构单元，式(1)中，X1表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的二价有机基，X2表示具有至少1个可以被卤代基、硝基、氨基或羟基取代的芳香环的碳原子数6～20的有机基或甲氧基。