公开(公告)号：CN107337776B

公开(公告)日：2019-12-31

申请号：CN201610899626.X

申请日：2016-10-14

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 权孝英 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日

IPC: C08G14/02 ,  C08G14/09 ,  C08G14/04 ,  C09D161/34 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、有机层组成物以及形成图案的方法，包含由化学式1表示的结构单元的聚合物，和包含所述聚合物的有机层组成物，以及形成图案的方法。本发明提供的聚合物具有极好的抗蚀刻性同时具有良好溶解度特征。化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN106046696B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201510919487.8

申请日：2015-12-11

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金润俊 ,  金兑镐 ,  朴惟廷 ,  崔有廷 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08L65/00 ,  C08G61/12 ,  G03F7/00

Abstract: 一种有机层组合物包含：包含由化学式1表示的部分的聚合物、由化学式2表示的单体以及溶剂，还提供一种由所述有机层组合物制造的有机层，和一种使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述有机层组合物可以提供同时确保耐蚀刻性、耐热性以及平坦化特征的有机层。化学式1和化学式2的定义与具体实施方式中相同。[化学式1][化学式2]

公开(公告)号：CN106084159A

公开(公告)日：2016-11-09

申请号：CN201610183382.5

申请日：2016-03-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文秀贤 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  宋炫知

IPC: C08G8/04 ,  G03F1/46 ,  G03F1/48

Abstract: 本发明是关于一种聚合物、有机层组合物以及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的第一部分和包含经取代或未经取代的C6至C60环基、经取代或未经取代的C6至C60杂环基或其组合的第二部分。本发明的聚合物具有良好的溶解度特征以及极好的耐蚀刻性。[化学式1]

公开(公告)号：CN106188504B

公开(公告)日：2019-11-19

申请号：CN201510409508.1

申请日：2015-07-13

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  金昇炫 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  南宫烂 ,  文秀贤 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  宋炫知 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08G65/00 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明提供一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、由所述有机层组合物制成的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。所述聚合物包含用化学式1表示的部分，所述化学式1的定义与具体实施方式中所定义的相同。所述聚合物同时确保抗蚀刻性和平面化特征。

公开(公告)号：CN106243326B

公开(公告)日：2019-04-09

申请号：CN201610393116.5

申请日：2016-06-06

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 朴裕信 ,  金兑镐 ,  崔有廷 ,  姜善惠 ,  权孝英 ,  金相均 ,  金永珉 ,  南沇希 ,  宋炫知 ,  尹星莉 ,  李东槿 ,  郑瑟基

IPC: C08G61/12 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的结构单元的聚合物和包含所述聚合物的有机层组成物。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN105885018B

公开(公告)日：2018-10-19

申请号：CN201510795893.8

申请日：2015-11-18

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南宫烂 ,  权孝英 ,  金昇炫 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C08G61/12 ,  C08L65/00 ,  H01L21/027 ,  G03F1/56

Abstract: 本发明提供一种包含由化学式1表示的部分的聚合物、一种包含所述聚合物的有机层组成物、一种由所述有机层组成物制成的有机层以及一种使用所述有机层组成物形成图案的方法。本发明的聚合物具有良好的膜密度、抗蚀刻性以及可溶性。

公开(公告)号：CN106336372A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610457786.9

申请日：2016-06-22

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 权孝英 ,  姜善惠 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  许柳美 ,  金永珉 ,  文秀贤

IPC: C07D209/12 ,  C07D209/60 ,  C07D209/86 ,  C07D311/82 ,  C07D333/56 ,  G03F1/46 ,  G03F1/56

Abstract: 本发明提供一种单体、包含所述单体的有机层组合物、使用所述有机层组合物制造的有机层以及使用所述有机层组合物形成图案的方法。本发明的单体由化学式1表示，化学式1与具体实施方式中所定义的相同。本发明的单体具有良好的溶解度特征以及优良的耐蚀刻性和耐热性，使用所述单体制造的有机层具有优良的机械特征和膜表面平整度。[化学式1] 。

公开(公告)号：CN105622364A

公开(公告)日：2016-06-01

申请号：CN201510725055.3

申请日：2015-10-29

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 南沇希 ,  权孝英 ,  金瑆焕 ,  金昇炫 ,  南宫烂 ,  豆米尼阿·拉特维 ,  文秀贤 ,  郑瑟基 ,  郑铉日 ,  许柳美

IPC: C07C43/23 ,  C07C49/84 ,  C08G61/12 ,  C08G61/04 ,  G03F7/00

CPC classification number: C07C43/23 ,  C07C2603/50 ,  C07C2603/52 ,  C08G61/02 ,  C08G2261/1422 ,  C08G2261/1424 ,  C08G2261/312 ,  C08G2261/314 ,  C08G2261/3424 ,  C08G2261/362 ,  C08G2261/45 ,  C08G2261/72 ,  C09D165/00 ,  C07C49/84 ,  C08G61/04 ,  C08G61/122 ,  G03F7/0035

Abstract: 本发明提供一种同时确保耐蚀刻性和平坦化特征的单体、聚合物、有机层组成物、有机层及形成图案的方法，其中，本发明公开由化学式1表示的单体、由化学式2表示的聚合物、包含用于有机层的化合物(即单体、聚合物或其组合)的有机层组成物、由有机层组成物制造的有机层以及通过固化有机层组成物获得的有机层。化学式1和化学式2与具体实施方式中所定义的相同。

公开(公告)号：CN108291013B

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201680070703.9

申请日：2016-10-19

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 豆米尼阿·拉特维 ,  郑铉日 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  文秀贤 ,  宋炫知 ,  许柳美

IPC: C08G61/02 ,  C08G61/12 ,  G03F7/11 ,  G03F7/09 ,  G03F7/00

Abstract: 本发明揭示一种聚合物，其包含由化学式1表示的结构单元及由化学式2表示的结构单元；包含所述聚合物的有机层组成物；及使用所述有机层组成物形成图案的方法。在化学式1及化学式2中，A1及A2独立地为二价基团，其包含经取代或未经取代的苯环中的至少一者，A3为包含四级碳的二价基团，且*为连接点。

公开(公告)号：CN106084159B

公开(公告)日：2019-10-01

申请号：CN201610183382.5

申请日：2016-03-28

Applicant: 三星SDI株式会社

Inventor： 文秀贤 ,  权孝英 ,  南宫烂 ,  南沇希 ,  宋炫知

IPC: C08G8/04 ,  G03F1/46 ,  G03F1/48

Abstract: 本发明是关于一种聚合物、有机层组合物以及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的第一部分和包含经取代或未经取代的C6至C60环基、经取代或未经取代的C6至C60杂环基或其组合的第二部分。本发明的聚合物具有良好的溶解度特征以及极好的耐蚀刻性。[化学式1]