-
公开(公告)号：CN107012507A
公开(公告)日：2017-08-04
申请号：CN201611123111.7
申请日：2016-12-08
申请人： OCI有限公司
CPC分类号： C23C16/4407 , B08B3/02 , B08B3/04 , C23C16/24 , C23C16/4404 , C23C16/4418 , C30B28/14 , C30B29/06
摘要： 本发明涉及用于防止接地故障电流且具有优异的去除硅粉尘效果的多晶硅制备装置。所述多晶硅制备装置包括室和陶瓷颗粒层，所述室包括具有打开的下部的外壳和与所述外壳的下部连接的基板，所述陶瓷颗粒层在基板的上表面上，用于防止在过程中产生的硅粉尘与基板直接接触且在所述过程之后与硅粉尘一起被去除。
-
公开(公告)号：CN105624639A
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：CN201610087408.6
申请日：2016-02-16
申请人： 山东浪潮华光光电子股份有限公司
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/4407
摘要： 一种金属有机物化学气相淀积系统中反应室上盖的清刷方法，是金属有机物化学气相淀积系统反应室内外延片生长结束后，降低进入反应室上盖的循环水温度，使反应室上盖恒温在20～30℃，然后用毛刷按照一个方向直线清刷反应室上盖的附着物。由于反应室上盖表面的温度降低，附着在反应室上盖上的附着物温度降低，附着物由趋向于液态而变成趋向于固态，这样附着物就容易被刷掉，不会粘连到毛刷上，也不会堵塞反应室上盖的小孔。本发明通过降低反应室上盖本身的温度，降低反应室上盖附着物的温度，使附着物趋向于固态而容易被刷掉，防止了附着物为液态状态非常容易粘连到毛刷上并将反应室上盖上的小孔堵塞，同时清刷的相对比较干净，提高了清刷效率。
-
公开(公告)号：CN103981489A
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201310412327.5
申请日：2013-09-11
申请人： 三星显示有限公司
IPC分类号： C23C14/22
CPC分类号： C23C16/4407 , C23C14/564 , C23C16/4401
摘要： 提供了包括防沉积单元的薄膜沉积装置和该装置的去除沉积物的方法。该方法包括：从薄膜沉积装置的腔室分离包括至少一个防沉积板和耦合到至少一个防沉积板的外表面上的变形单元的防沉积单元；以及从防沉积板去除成膜层。
-
公开(公告)号：CN103140602A
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：CN201180047800.3
申请日：2011-08-02
申请人： 威科仪器有限公司
发明人： 亚历山大·I·居拉瑞
IPC分类号： C23C16/44
CPC分类号： C23C16/4407 , C23C16/4412 , C30B25/14 , H01L21/6719 , H01L21/68764 , H01L21/68771
摘要： 提供了化学气相沉积反应器（10）及处理晶圆的方法。反应器（10）包括具有内部空间（26）的反应室（12）、与反应室内部空间连通的进气歧管（14）、包括具有通道（78）和一个或多个孔口（76）的排气歧管（72）的排气系统（70）、及安装在反应室内的一个或多个清洁元件（80）。进气歧管（14）可允许处理气体进入，以在保持在内部空间（26）的基片（58）上形成沉积。通道（78）可通过一个或多个孔口（76）与反应室（12）的内部空间（26）连通。一个或多个清洁元件（80）可在两位置之间移动，（i）是清洁元件远离一个或多个孔口的运行位置，（ii）是一个或多个清洁元件与一个或多个孔口（76）接合的清洁位置。
-
公开(公告)号：CN103084354A
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201210424714.6
申请日：2012-10-30
申请人： 朗姆研究公司
CPC分类号： H01J37/3288 , B08B3/04 , B08B3/08 , B08B9/0323 , B08B9/0328 , C23C16/4407 , H01J37/3244 , H01J37/32889
摘要： 在一种实施方式中，一种清洁组件可以包括模块化电极密封壳体、酸注入口和流体注入口。该模块化电极密封壳体可以包括含有第一清洁空间的高压封闭件和含有第二清洁空间的低压封闭件。该酸注入口能与该高压封闭件中的第一清洁空间流体连通。该流体注入口能与该低压封闭件中的第二清洁空间流体连通。在正常操作过程中，可以将网状电极密封在该模块化电极密封壳体内，使得第一清洁空间位于该网状电极的第一侧，并且第二清洁空间位于该网状电极的第二侧。
-
公开(公告)号：CN102812154A
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：CN201080062436.3
申请日：2010-12-22
申请人： 欧瑞康贸易股份公司(特吕巴赫)
发明人： P·內夫
CPC分类号： C23C14/564 , B24C1/003 , B24C1/04 , C23C16/4407
摘要： 本发明涉及一种涂层设备的副面的清洁方法。在涂层之前在副面涂敷一个抗粘附层(10)。涂层材料在抗粘附层沉积之后，借助干冰喷射法和/或二氧化碳一干冰喷射清洁方法处理副面。
-
公开(公告)号：CN102016101B
公开(公告)日：2012-09-05
申请号：CN200980115416.5
申请日：2009-04-27
申请人： 株式会社爱发科
CPC分类号： C23C4/06 , C22C21/00 , C23C4/08 , C23C4/18 , C23C14/564 , C23C16/4404 , C23C16/4407
摘要： 本发明提供一种水反应性Al复合材料，其在4NAl或5NAl中，以Al基准计，添加0.8～1.4wt％的Bi及以与杂质Si量的总和计成为0.25～0.7wt％的量的Si而成。使用该材料制造的Al喷镀膜及该Al膜的制造。在表面具备有该Al喷镀膜的成膜室用构成部件。
-
公开(公告)号：CN1795058B
公开(公告)日：2011-09-14
申请号：CN200480014041.0
申请日：2004-04-14
申请人： 应用材料股份有限公司
CPC分类号： C23C16/4407 , B08B7/0035 , B08B7/04 , B08B9/00 , Y10S438/905
摘要： 本发明涉及形成于一反应腔构件上的工艺沉积物的清洗方法。该清洗方法是机械性地钻挖该构件的气孔，以清洁其内部的沉积物。随后，使该构件的一陶瓷部位暴露至一酸性溶液，例如由氢氟酸与硝酸所构成的溶液。可于该酸清洗步骤后重复这些气孔的机械性钻挖步骤。之后，借着引导一非反应性气体进入该等离子区，并于该等离子区中形成该非反应性气体等离子，以等离子稳定该构件。一范例中，该构件包含一静电卡盘，该静电卡盘包含一覆盖着一电极的陶瓷，且其内部具有气孔。
-
公开(公告)号：CN1890034A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：CN200480036347.6
申请日：2004-11-12
申请人： 兰姆研究公司
发明人： 任大兴
CPC分类号： H01L21/67069 , C23C16/4405 , C23C16/4407 , H01J37/32477 , H01J2237/022
摘要： 提供了等离子体加工装置的碳化硅部件、制作此部件的方法、以及在半导体衬底的加工过程中使用此部件来提供降低了的衬底颗粒沾污的方法。利用在部件中导致自由碳的工艺来形成碳化硅部件。对此碳化硅部件进行处理，以便至少从表面清除自由碳。
-
公开(公告)号：CN1356181A
公开(公告)日：2002-07-03
申请号：CN01121968.8
申请日：2001-06-21
申请人： 气体产品与化学公司
IPC分类号： B08B9/027
CPC分类号： B08B9/032 , B08B9/00 , C23C16/4407 , Y10T137/3127 , Y10T137/4259 , Y10T137/86348
摘要： 本发明披露了一种在结合有整体溶剂吸附模块的溶剂清洗再填充体系中,输送工艺化学剂和对所述工艺化学剂进行清洗的溶剂的方法和装置,在单一的“组件”中,能够容易进行运送,使最终使用者的影响最小,有用于溶剂清洗操作充分的溶剂,没有残余溶剂需要处理。这将消除消费者对溶剂的处理,并且,由于残余溶剂能够在一个步骤中返回至同一包装中,因此,消费者无需寻找溶剂废物设备。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
搜索结果
95 条记录 (耗时 0.02 秒)
